專利名稱：一種硅片沖洗機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種硅片沖洗機構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實用新型涉及硅片加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種硅片沖洗機構(gòu)。
技術(shù)背景[0002]現(xiàn)有技術(shù)中存在一種對硅片進(jìn)行沖洗的水洗系統(tǒng)，如圖1所示，risel槽、rise2 槽和rise3槽三者是相互連通的，且risel槽內(nèi)含有少量酸(例如氫氟酸HF、硝酸HNO3)， rise2槽內(nèi)含有少量堿(例如氫氧化鉀K0H)，rise3槽內(nèi)含有少量酸(例如氯化氫HCL)，由圖1可知，rise3槽與rise2槽之間通過溢流管相連通，rise2槽與risel槽之間通過溢流管相連通，整個水洗系統(tǒng)只有一個進(jìn)水閥，進(jìn)水閥首先將水排進(jìn)rise3槽，當(dāng)水位超過溢流管時，水會通過溢流管流入rise2槽，當(dāng)rise2槽內(nèi)的水位超過溢流管時，水會通過溢流管流入risel槽，通過這樣的方式，三個槽內(nèi)都將儲存一定的水量用于沖洗硅片。但是三個槽內(nèi)由于酸堿性是不同的(例如risel為酸性，rise2為堿性，rise3為酸性)，酸堿結(jié)合很容易生成晶體鹽(例如生成氯化鉀KCL、硝酸鉀KN03)，在每個槽下方的泵工作時使會將各自槽內(nèi)的水重新抽入噴淋管，實現(xiàn)對水資源的循環(huán)利用，此時產(chǎn)生的晶體鹽會堵塞濾芯從而使循環(huán)水的壓力不足，降低了噴淋管對硅片的沖洗效率，導(dǎo)致硅片的加工工藝不穩(wěn)定；且由于生成的晶體鹽會堵塞濾芯，故需要經(jīng)常更換濾芯，提高了沖洗硅片的成本。實用新型內(nèi)容[0003]本實用新型實施例提供了一種硅片沖洗機構(gòu)，能夠避免濾芯被堵塞，解決了循環(huán)水的壓力不足的問題，提高了噴淋管對硅片的沖洗效率，且不需要經(jīng)常更換濾芯，降低了沖洗硅片的成本。[0004]本實用新型實施例提供的硅片沖洗機構(gòu)，包括第一酸沖洗槽、堿沖洗槽、第二酸沖洗槽、第一進(jìn)水閥、第二進(jìn)水閥、第三進(jìn)水閥、第一溢流管、第二溢流管、第三溢流管，其中，[0005]所述第一進(jìn)水閥獨立的向所述第一酸沖洗槽排進(jìn)水，所述第二進(jìn)水閥獨立的向所述堿沖洗槽排進(jìn)水，所述第三進(jìn)水閥獨立的向所述第二酸沖洗槽排進(jìn)水；[0006]所述第一溢流管獨立的將所述第一酸沖洗槽內(nèi)超過所述第一溢流管高度的水排出所述第一酸沖洗槽，所述第二溢流管獨立的將所述堿沖洗槽內(nèi)超過所述第二溢流管高度的水排出所述第二酸沖洗槽，所述第三溢流管獨立的將所述第二酸沖洗槽內(nèi)超過所述第三溢流管高度的水排出所述第二酸沖洗槽；[0007]所述第一酸沖洗槽、所述堿沖洗槽、所述第二酸沖洗槽兩兩之間互相不連通。[0008]從以上技術(shù)方案可以看出，本實用新型實施例具有以下優(yōu)點[0009]本實用新型實施例提供的硅片沖洗機構(gòu)，由于三個槽之間是兩兩之間互相不連通，即三個槽中每兩個槽之間是互相隔開的，且每個槽都獨立的配置有溢流管，可以避免酸堿結(jié)合生成晶體鹽而將濾芯堵塞，由于濾芯不會被堵塞，解決了循環(huán)水的壓力不足的問題， 提高了噴淋管對硅片的沖洗效率，使硅片的加工工藝穩(wěn)定；且由于不會產(chǎn)生晶體鹽故不會堵塞濾芯，從而不需要經(jīng)常更換濾芯，降低了沖洗硅片的成本；且每個槽都獨立的配置進(jìn)水閥，故硅片在每個槽內(nèi)時可以進(jìn)行充分的沖洗，提高了噴淋管對硅片的沖洗效率。


[0010]圖1為現(xiàn)有的水洗系統(tǒng)的示意圖；[0011]圖2為本實用新型提供的硅片沖洗機構(gòu)的結(jié)構(gòu)組成示意圖；[0012]圖3為本實用新型提供的水洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)組成示意圖。
具體實施方式
[0013]本實用新型實施例提供了一種硅片沖洗機構(gòu)，能夠避免濾芯被堵塞，解決了循環(huán)水的壓力不足的問題，提高了噴淋管對硅片的沖洗效率，且不需要經(jīng)常更換濾芯，降低了沖洗硅片的成本。[0014]
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型的硅片沖洗機構(gòu)作進(jìn)一步說明，以助于理解本實用新型的內(nèi)容。[0015]如圖2所示，本實用新型提供的硅片沖洗機構(gòu)，包括第一酸沖洗槽201、堿沖洗槽 202、第二酸沖洗槽203、第一進(jìn)水閥204、第二進(jìn)水閥205、第三進(jìn)水閥206、第一溢流管207、 第二溢流管208、第三溢流管209。其中，[0016]第一進(jìn)水閥204獨立的向第一酸沖洗槽201排進(jìn)水，第二進(jìn)水閥205獨立的向堿沖洗槽202排進(jìn)水，第三進(jìn)水閥206獨立的向第二酸沖洗槽203排進(jìn)水。[0017]第一溢流管207獨立的將第一酸沖洗槽201內(nèi)超過第一溢流管207高度的水排出第一酸沖洗槽201，第二溢流管208獨立的將堿沖洗槽202內(nèi)超過第二溢流管208高度的水排出第二酸沖洗槽202，第三溢流管209獨立的將第二酸沖洗槽203內(nèi)超過第三溢流管209 高度的水排出第二酸沖洗槽203。[0018]第一酸沖洗槽201、堿沖洗槽202、第二酸沖洗槽203兩兩之間互相不連通。[0019]需要說明的是，如圖2所示，本實用新型實施例中的第一酸沖洗槽201含有少量酸 (例如氫氟酸HF、硝酸HN03)，即與圖1中描述的risel槽相類似，與risel不同的是第一酸沖洗槽201沒有與堿沖洗槽202相連通，并且第一酸沖洗槽201中的第一溢流管207也是獨立的，并不與堿沖洗槽202相連通。[0020]本實用新型實施例中的堿沖洗槽202含有少量堿(例如氫氧化鉀Κ0Η)，即與圖1 中描述的rise2槽相類似，與rise2槽不同的是堿沖洗槽202沒有與第一酸沖洗槽201、第二酸沖洗槽203相連通，并且堿沖洗槽202中的第二溢流管208也是獨立的，并不與第一酸沖洗槽201、第二酸沖洗槽203相連通。[0021]本實用新型實施例中的第二酸沖洗槽203含有少量酸(例如氯化氫HCL)，即與圖 1中描述的rise3槽相類似，與rise3不同的是第二酸沖洗槽203沒有與堿沖洗槽202相連通，并且第二酸沖洗槽203中的第三溢流管209也是獨立的，并不與堿沖洗槽202相連通。[0022]另外與現(xiàn)有技術(shù)中不同的，本實用新型實施例中，第一酸沖洗槽201、堿沖洗槽 202、第二酸沖洗槽203分別配置有獨立的第一進(jìn)水閥204、第二進(jìn)水閥205、第三進(jìn)水閥 206，故硅片在每個槽內(nèi)時可以進(jìn)行充分的沖洗，提高了噴淋管對硅片的沖洗效率。[0023]本實用新型實施例提供的硅片沖洗機構(gòu)，由于三個槽之間是兩兩之間互相不連通，即三個槽中每兩個槽之間是互相隔開的，且每個槽都獨立的配置有溢流管，可以避免酸堿結(jié)合生成晶體鹽而將濾芯堵塞，解決了循環(huán)水的壓力不足的問題，提高了噴淋管對硅片的沖洗效率，使硅片的加工工藝穩(wěn)定；且由于不會產(chǎn)生晶體鹽故不會堵塞濾芯，從而不需要經(jīng)常更換濾芯，降低了沖洗硅片的成本；且每個槽都獨立的配置進(jìn)水閥，故硅片在每個槽內(nèi)時可以進(jìn)行充分的沖洗，提高了噴淋管對硅片的沖洗效率。[0024]接下來介紹一下本實用新型實施例提供的硅片沖洗機構(gòu)的一個具體應(yīng)用場景如圖3所示，一個水洗系統(tǒng)從左至右分別為酸刻蝕槽210、第一酸沖洗槽201、堿洗槽211、堿沖洗槽202、酸洗槽212、第二酸沖洗槽203。[0025]對于第一酸沖洗槽201中，第一酸沖洗槽201的上部設(shè)置有第一進(jìn)水閥204，第一酸沖洗槽201的內(nèi)部上方設(shè)置有第一噴淋管213，第一酸沖洗槽201的中下部設(shè)置有第一濾網(wǎng)216，第一酸沖洗槽201的底部設(shè)置有第一溢流管207、第一排水閥222和通過第一濾芯 219相連的第一泵225。[0026]對于堿沖洗槽202中，堿沖洗槽202的上部設(shè)置有第二進(jìn)水閥205，堿沖洗槽202 的內(nèi)部上方設(shè)置有第二噴淋管214，堿沖洗槽202的中下部設(shè)置有第二濾網(wǎng)217，堿沖洗槽 202的底部設(shè)置有第二溢流管208、第二排水閥223和通過第二濾芯220相連的第二泵226。[0027]對于第三酸沖洗槽203中，第三酸沖洗槽203的上部設(shè)置有第三進(jìn)水閥206，第三酸沖洗槽203的內(nèi)部上方設(shè)置有第三噴淋管215，第三酸沖洗槽203的中下部設(shè)置有第三濾網(wǎng)218，第三酸沖洗槽203的底部設(shè)置有第三溢流管209、第三排水閥2 和通過第三濾芯 221相連的第三泵227。[0028]下面介紹一下如圖3所示的水洗系統(tǒng)的工作流程第一酸沖洗槽201的第一進(jìn)水閥204排進(jìn)水，堿沖洗槽202的第二進(jìn)水閥205排進(jìn)水，第三酸沖洗槽203的上第三進(jìn)水閥 206排進(jìn)水。[0029]首先硅片經(jīng)過酸刻蝕槽210的刻蝕后，進(jìn)入第一酸沖洗槽201，第一酸沖洗槽201 的第一噴淋管213沖洗硅片，第一噴淋管噴淋的水進(jìn)入第一酸沖洗槽201的內(nèi)槽(即圖3 中第一酸沖洗槽201的第一濾網(wǎng)216的下部)，然后經(jīng)過第一濾芯219過濾的水由第一泵 225抽出后再送到第一噴淋管213繼續(xù)沖洗其它的硅片，形成一個泵循環(huán)的過程，達(dá)到水的循環(huán)使用，達(dá)到節(jié)約用水的目的。但是在沖洗的過程中會有一小部分水通過風(fēng)刀和硅片損失掉，因此需要對第一進(jìn)水閥204會對槽內(nèi)補水才能達(dá)到長時間的正常工作。[0030]當(dāng)硅片從第一酸沖洗槽201沖洗完之后，硅片進(jìn)入堿洗槽211，將硅片在第一酸沖洗槽201內(nèi)時粘帶的酸中和掉。然后進(jìn)入堿沖洗槽202，其沖洗過程和硅片在第一酸沖洗槽 201內(nèi)的沖洗過程相同，此處不再贅述。[0031]當(dāng)硅片從堿沖洗槽202沖洗完之后，硅片進(jìn)入酸洗槽212，將硅片在堿沖洗槽202 內(nèi)時粘帶的堿中和掉。然后進(jìn)入第二酸沖洗槽203，其沖洗過程和硅片在第一酸沖洗槽201 內(nèi)的沖洗過程相同，此處不再贅述。[0032]第一排水閥222、第二排水閥223、第三排水閥2M分別用于將各自槽內(nèi)的水排出。[0033]以上對本實用新型所提供的一種硅片沖洗機構(gòu)進(jìn)行了詳細(xì)介紹，對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本實用新型實施例的思想，在具體實施方式
及應(yīng)用范圍上均會有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求1. 一種硅片沖洗機構(gòu)，其特征在于，包括第一酸沖洗槽、堿沖洗槽、第二酸沖洗槽、第一進(jìn)水閥、第二進(jìn)水閥、第三進(jìn)水閥、第一溢流管、第二溢流管、第三溢流管，其中，所述第一進(jìn)水閥獨立的向所述第一酸沖洗槽排進(jìn)水，所述第二進(jìn)水閥獨立的向所述堿沖洗槽排進(jìn)水，所述第三進(jìn)水閥獨立的向所述第二酸沖洗槽排進(jìn)水；所述第一溢流管獨立的將所述第一酸沖洗槽內(nèi)超過所述第一溢流管高度的水排出所述第一酸沖洗槽，所述第二溢流管獨立的將所述堿沖洗槽內(nèi)超過所述第二溢流管高度的水排出所述第二酸沖洗槽，所述第三溢流管獨立的將所述第二酸沖洗槽內(nèi)超過所述第三溢流管高度的水排出所述第二酸沖洗槽；所述第一酸沖洗槽、所述堿沖洗槽、所述第二酸沖洗槽兩兩之間互相不連通。
專利摘要本實用新型公開了一種硅片沖洗機構(gòu)，包括第一酸沖洗槽、堿沖洗槽、第二酸沖洗槽、第一進(jìn)水閥、第二進(jìn)水閥、第三進(jìn)水閥、第一溢流管、第二溢流管、第三溢流管，第一進(jìn)水閥獨立的向第一酸沖洗槽排進(jìn)水，第二進(jìn)水閥獨立的向堿沖洗槽排進(jìn)水，第三進(jìn)水閥獨立的向第二酸沖洗槽排進(jìn)水；第一溢流管獨立的將第一酸沖洗槽內(nèi)超過第一溢流管高度的水排出第一酸沖洗槽，第二溢流管獨立的將堿沖洗槽內(nèi)超過第二溢流管高度的水排出第二酸沖洗槽，第三溢流管獨立的將第二酸沖洗槽內(nèi)超過第三溢流管高度的水排出第二酸沖洗槽；第一酸沖洗槽、堿沖洗槽、第二酸沖洗槽兩兩之間互相不連通。
文檔編號B08B3/02GK202238742SQ20112034808
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月16日
發(fā)明者吳磊, 郭貴東 申請人:浚鑫科技股份有限公司