專利名稱：一種降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及太陽能硅片加工行業(yè)，具體是涉及一種降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置。
背景技術：
目前在太陽能硅片加工行業(yè)，切割硅錠時采用的是鋼線切割方法，通過鋼線與硅錠的高速摩擦切開硅錠以獲取相應厚度的硅片。由于鋼線與硅錠長時間的高速摩擦，使鋼線表面也受到了嚴重磨損，鐵粉顆粒會參雜入砂漿中，隨著砂漿的不斷循環(huán)，使切割后硅片表面粘附鐵粉雜質，鐵粉雜質的污染很容易使硅片形成短路和斷路，影響其幾何特征的形成，對硅片性能帶來很嚴重的影響，大大降低其使用壽命。

實用新型內容發(fā)明目的為了解決現有技術的不足，本實用新型提供了一種結構簡單、使用方便的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，該裝置能夠減少金屬雜質對硅片的污染。技術方案為了實現以上目的，本實用新型所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，包括砂漿缸，在砂漿缸的同一位置的內側和外側設有磁鐵。所述的磁鐵優(yōu)選設于砂漿缸靠近底面處，由于金屬雜質密度較大，會聚集在砂漿缸底部，因此磁鐵在底部附近吸附效果更好。為了保證磁鐵具有提很強的吸附鐵粉顆粒的能力，且能長久使用，所述的磁鐵優(yōu)選為永磁性硬磁鐵。為了保證磁鐵具有強磁性，所述的磁鐵為圓柱形。為了使磁鐵取得最佳的吸收金屬雜質的效果，所述磁鐵設有5 6對，平均分布于砂漿缸的同一圓周上。有益效果本實用新型與現有技術相比具有以下優(yōu)點結構簡單、操作容易、成本低，能夠減少金屬雜質對硅片的污染，保證其幾何性能，提高生產良品率。

圖1為本實用新型的主視圖；圖2為本實用新型的俯視圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例，進一步闡明本實用新型，應理解這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍，在閱讀了本實用新型之后，本領域技術人員對本實用新型的各種等同變換或修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。如圖1、2所示，本實用新型所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，包括砂漿缸1，該砂漿缸1內設有攪拌機3及攪拌葉4，在砂漿缸1的同一位置的內側設有內磁鐵21，外側設有外磁鐵22，通過該一對磁鐵2兩極相互吸引的作用從而固定。其中，磁鐵2為永磁性硬磁鐵，為圓柱形，共設有5對，設于砂漿缸1靠近底面處，平均分布于砂漿缸1的同
一圓周上。本實用新型在使用時，啟動攪拌機3，帶動攪拌葉4攪拌砂漿，砂漿中的鐵雜質隨著攪拌會吸附于內磁鐵21上。當采用長度480km重50kg鋼線進行切割時，切割前的鋼線直徑為130 μ m，切割后鋼線直徑為120 μ m，經計算，磨損后鋼線重量為1202/130、50 = 42. 5kg,鐵雜質的重量為7. 5kg左右。采用本裝置后，吸附雜質重量將近^g，吸附率約 70%，對減少鐵粉雜質污染的效果非常明顯。使用完畢后，將外磁鐵22拉開，內磁鐵21自然掉落，拆解清洗方便簡單。上述實施例只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的是讓熟悉該技術領域的技術人員能夠了解本實用新型的內容并據以實施，并不能以此來限制本實用新型的保護范圍。凡根據本實用新型精神實質所作出的等同變換或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求1.一種降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，包括砂漿缸(1)，其特征在于在所述砂漿缸(1)的同一位置的內側和外側設有磁鐵O)。
2.根據權利要求1所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，其特征在于所述的磁鐵( 設于砂漿缸(1)靠近底面處。
3.根據權利要求1或2所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，其特征在于所述的磁鐵(2)為永磁性硬磁鐵。
4.根據權利要求1或2所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，其特征在于所述的磁鐵⑵為圓柱形。
5.根據權利要求1所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，其特征在于所述磁鐵⑵設有5 6對。
6.根據權利要求5所述的降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，其特征在于所述磁鐵(2)平均分布于砂漿缸(1)的同一圓周上。
專利摘要本實用新型公開了一種降低切割后硅片表面鐵粉雜質的裝置，其包括砂漿缸，在砂漿缸的同一位置的內側和外側設有磁鐵，該磁鐵設于砂漿缸靠近底面處。本實用新型與現有技術相比具有以下優(yōu)點結構簡單、操作容易、成本低，能夠減少金屬雜質對硅片的污染，保證其表面物理性能，提高生產良品率。
文檔編號B28D7/00GK202213069SQ20112033231
公開日2012年5月9日 申請日期2011年9月6日 優(yōu)先權日2011年9月6日
發(fā)明者劉坤, 張順怡, 甘大源, 黃志明 申請人:太倉協鑫光伏科技有限公司