本申請涉及燒烤器，尤其涉及一種烤爐。

背景技術(shù)：

1、燒烤食物是一種普遍的需求，要烤出美味的食品的一個關(guān)鍵因素是對火候的把握。目前的烤爐主要是通過控制燃料的數(shù)量以及進風口的大小來控制火候，但是這種方式對于熱量釋放的控制存在一定的滯后性，例如在進風口完全打開且燃料燃燒一段時間后再完全關(guān)閉進風口，此時熱量的釋放并不會立即減小，如此容易導致食物被烤焦；反之，在燃料剛點火且燃燒一小段時間，此時即使完全打開進風口也不會顯著地提升熱量的釋放，這樣食物難以充分烤炙。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的主要目的是提出一種烤爐，旨在解決現(xiàn)有的烤爐難以調(diào)節(jié)食物的燒烤火候，使用不方便的技術(shù)問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本申請?zhí)岢龅目緺t，包括：

3、爐體，包括底壁及自所述底壁向上延伸形成的側(cè)壁，所述底壁及側(cè)壁圍合形成爐腔，所述側(cè)壁的上邊緣設有多個限位槽，多個限位槽沿所述側(cè)壁的周向方向間隔布置；所述側(cè)壁的底部設有進風口；

4、風門，可活動設于所述側(cè)壁外側(cè)以在活動過程中改變對所述進風口的遮蔽程度；以及

5、置物架，包括置物盤及設于所述置物盤底面的多個支撐腳，所述置物架具有高位放置狀態(tài)以及低位放置狀態(tài)；在所述高位放置狀態(tài)，所述支撐腳與所述側(cè)壁的上邊緣抵接；在所述低位放置狀態(tài)，所述支撐腳與所述限位槽的底壁面抵接。

6、優(yōu)選地，所述支撐腳在半徑方向上與所述側(cè)壁限位配合。

7、優(yōu)選地，所述支撐腳包括支撐部及止擋部，所述支撐部與所述置物盤連接，所述止擋部自所述支撐部的下端向下延伸形成，所述止擋部沿半徑方向與所述側(cè)壁的內(nèi)壁面限位配合；在所述高位放置狀態(tài)，所述支撐部與所述側(cè)壁的上邊緣抵接；在所述低位放置狀態(tài)，所述支撐部與所述限位槽的底壁面抵接。

8、優(yōu)選地，所述側(cè)壁呈圓筒狀；所述風門呈環(huán)狀，且可轉(zhuǎn)動地設于所述側(cè)壁的外圍。

9、優(yōu)選地，所述側(cè)壁下端的外周面徑向向內(nèi)地凹陷形成環(huán)形凹部，所述風門可轉(zhuǎn)動地嵌置于所述環(huán)形凹部。

10、優(yōu)選地，所述進風口開設于所述環(huán)形凹部的側(cè)壁面；所述風門包括底環(huán)部及側(cè)環(huán)部，所述底環(huán)部沿水平面延伸形成，所述側(cè)環(huán)部自所述底環(huán)部的外邊緣向上延伸形成；所述底環(huán)部位于所述側(cè)壁的下方，所述側(cè)環(huán)部嵌置于所述環(huán)形凹部，所述側(cè)環(huán)部的上邊緣開設有與所述進風口大小適配的透風槽。

11、優(yōu)選地，所述側(cè)壁的外周面設有定位凸起，所述定位凸起鄰近所述進風口的一個側(cè)壁面設置；在所述進風口完全外露于所述透風槽時，所述透風槽的一個側(cè)壁面與所述定位凸起抵接。

12、優(yōu)選地，所述側(cè)壁的內(nèi)壁面對應所述環(huán)形凹部的上邊緣形成有環(huán)形凸肩，所述烤爐還包括放置在所述環(huán)形凸肩上的燃料架，所述燃料架與所述底壁之間形成落灰腔；所述側(cè)壁上部的內(nèi)徑由下至上呈漸擴設置。

13、優(yōu)選地，所述烤爐還包括與所述置物架可互換的底座，所述爐體放置在所述底座的上表面，所述底座外邊緣凸出于所述底壁下端的外邊緣，所述底環(huán)部位于所述底座與所述底壁之間，且所述底環(huán)部與所述底座的上表面可轉(zhuǎn)動配合。

14、優(yōu)選地，所述烤爐還包括提手，所述提手的兩端分別與所述側(cè)壁的上邊緣可轉(zhuǎn)動連接；所述置物盤的外邊緣位于所述提手掃掠軌跡的內(nèi)側(cè)且與所述提手的掃掠軌跡之間形成有間隙。

15、本實用新型通過可活動設置的風門調(diào)節(jié)進風口的進風量，在此基礎上，通過在爐體的側(cè)壁的上邊緣設置限位槽，使得置物架具有多個不同高度的放置狀態(tài)以調(diào)節(jié)置物盤的高度，如此通過改變置物盤上食物與燃料之間熱輻射距離，達到精細燒烤的目的，即以實現(xiàn)針對不同的食品以不同的高度進行烤制。特別地，在置物架處于低位放置狀態(tài)時，置物架的支撐腳位于限位槽內(nèi)，限位槽的側(cè)壁面通過與支撐腳抵接還可以限制置物架繞豎直軸線轉(zhuǎn)動，從而使置物架的放置更穩(wěn)定。

技術(shù)特征：

1.一種烤爐，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的烤爐，其特征在于，所述支撐腳在半徑方向上與所述側(cè)壁限位配合。

3.如權(quán)利要求2所述的烤爐，其特征在于，所述支撐腳包括支撐部及止擋部，所述支撐部與所述置物盤連接，所述止擋部自所述支撐部的下端向下延伸形成，所述止擋部沿半徑方向與所述側(cè)壁的內(nèi)壁面限位配合；在所述高位放置狀態(tài)，所述支撐部與所述側(cè)壁的上邊緣抵接；在所述低位放置狀態(tài)，所述支撐部與所述限位槽的底壁面抵接。

4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的烤爐，其特征在于，所述側(cè)壁呈圓筒狀；所述風門呈環(huán)狀，且可轉(zhuǎn)動地設于所述側(cè)壁的外圍。

5.如權(quán)利要求4所述的烤爐，其特征在于，所述側(cè)壁下端的外周面徑向向內(nèi)地凹陷形成環(huán)形凹部，所述風門可轉(zhuǎn)動地嵌置于所述環(huán)形凹部。

6.如權(quán)利要求5所述的烤爐，其特征在于，所述進風口開設于所述環(huán)形凹部的側(cè)壁面；所述風門包括底環(huán)部及側(cè)環(huán)部，所述底環(huán)部沿水平面延伸形成，所述側(cè)環(huán)部自所述底環(huán)部的外邊緣向上延伸形成；所述底環(huán)部位于所述側(cè)壁的下方，所述側(cè)環(huán)部嵌置于所述環(huán)形凹部，所述側(cè)環(huán)部的上邊緣開設有與所述進風口大小適配的透風槽。

7.如權(quán)利要求6所述的烤爐，其特征在于，所述側(cè)壁的外周面設有定位凸起，所述定位凸起鄰近所述進風口的一個側(cè)壁面設置；在所述進風口完全外露于所述透風槽時，所述透風槽的一個側(cè)壁面與所述定位凸起抵接。

8.如權(quán)利要求6所述的烤爐，其特征在于，所述側(cè)壁的內(nèi)壁面對應所述環(huán)形凹部的上邊緣形成有環(huán)形凸肩，所述烤爐還包括放置在所述環(huán)形凸肩上的燃料架，所述燃料架與所述底壁之間形成落灰腔；所述側(cè)壁上部的內(nèi)徑由下至上呈漸擴設置。

9.如權(quán)利要求6所述的烤爐，其特征在于，所述烤爐還包括與所述置物架可互換的底座，所述爐體放置在所述底座的上表面，所述底座外邊緣凸出于所述底壁下端的外邊緣，所述底環(huán)部位于所述底座與所述底壁之間，且所述底環(huán)部與所述底座的上表面可轉(zhuǎn)動配合。

10.如權(quán)利要求1所述的烤爐，其特征在于，所述烤爐還包括提手，所述提手的兩端分別與所述側(cè)壁的上邊緣可轉(zhuǎn)動連接；所述置物盤的外邊緣位于所述提手掃掠軌跡的內(nèi)側(cè)且與所述提手的掃掠軌跡之間形成有間隙。

技術(shù)總結(jié)
本申請實施例公開了一種烤爐，包括：爐體，包括底壁及自底壁向上延伸形成的側(cè)壁，底壁及側(cè)壁圍合形成爐腔，側(cè)壁的上邊緣設有多個限位槽，多個限位槽沿側(cè)壁的周向方向間隔布置；側(cè)壁的底部設有進風口；風門，可活動設于側(cè)壁外側(cè)以在活動過程中改變對進風口的遮蔽程度；以及置物架，包括置物盤及設于置物盤底面的多個支撐腳，置物架具有高位放置狀態(tài)以及低位放置狀態(tài)；在高位放置狀態(tài)，支撐腳與側(cè)壁的上邊緣抵接；在低位放置狀態(tài)，支撐腳與限位槽的底壁面抵接。本技術(shù)的置物架具有多個不同高度的放置狀態(tài)，如此通過改變置物盤上食物與燃料之間熱輻射距離，達到精細燒烤的目的；在置物架處于低位放置狀態(tài)時，置物架的放置更穩(wěn)定。

技術(shù)研發(fā)人員：吳佳
受保護的技術(shù)使用者：常州鐵焱貿(mào)易有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240618
技術(shù)公布日：2025/5/19