寬幅激光矢量蝕刻的制造方法
【專利摘要】一種寬幅激光矢量蝕刻機，包括機架、控制光電路、激光器、干涉儀；所述控制光電路、激光器、干涉儀分別安裝在機架上，其特征在于：所述干涉儀由平面偏轉鏡、光學透鏡、第一可移動棱鏡、第一道威棱鏡、第二道威棱鏡、第二可移動棱鏡和會聚光學透鏡從左到右呈光學配合排列。本實用新型對照現(xiàn)有技術的有益效果是，由于采用了兩個道威棱鏡和兩個可移動棱鏡，簡化了干涉儀的結構，不但大大提高全息成品的光柵亮度，還能夠提高光刻機工作能力，達到的分辯率在5000dpi以上，微結構特性明顯，可進行矢量蝕刻。
【專利說明】寬幅激光矢量蝕刻機
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種寬幅激光矢量蝕刻機。
【背景技術】
[0002]經(jīng)過數(shù)十年發(fā)展，激光全息防偽產(chǎn)品也從最初的全息防偽標識逐步升級發(fā)展為第二代、第三代、第四代甚至第五代激光防偽技術。
[0003](I)第一代激光防偽技術是激光模壓全息圖像防偽標識:全息照相技術是由美國科學家伯格(MJ.Buerger)在利用X射線拍攝晶體的原子結構照片時發(fā)現(xiàn)的，并與伽柏(D.Gaber) 一起建立了全息照相理論:利用雙光束干涉原理，令物光和另一個與物光相干的光束(參考光束)產(chǎn)生干涉圖樣即可把位相“合并”上去，從而用感光底片能同時記錄下位相和振幅，就可以獲得全息圖像。70年代末期，人們發(fā)現(xiàn)全息圖片具有包括三維信息的表面結構(即縱橫交錯的干涉條紋)，這種結構是可以轉移到高密度感光底片等材料上去的。1980年，美國科學家利用壓印全息技術，將全息表面結構轉移到聚酯薄膜上，從而成功地印制出世界上第一張模壓全息圖片，這種激光全息圖片又稱彩虹全息圖片，它是通過激光制版，將影像制作在塑料薄膜上，產(chǎn)生五光十色的衍射效果，在普通光線下，隱藏的圖像、信息會重現(xiàn)。激光模壓全息防偽技術傳入我國是在80年代末90年代初，特別是1990年至1994年期間，全國各地引進生產(chǎn)線上百條，占當時世界生產(chǎn)廠家的一半多。在引進初期，這種防偽技術確實起到了一定的防偽作用，但是隨著時間的推移，激光全息圖像制作技術迅速擴散，如今早已被造假者從各個方面攻破，幾乎完全失去了防偽的能力。
[0004](2)第二代改進型激光全息圖像防偽技術:第一代激光全息防偽技術的泛濫，促使人們不得不開始尋求改進現(xiàn)有技術。改進后的技術主要有三種:一是應用計算機圖像處理技術改進全息圖像；二是透明激光全息圖像防偽技術，透明激光全息圖像實際上就是取消了鍍鋁層，將全息圖像直接模壓在透明的聚酯薄膜上。；三是反射激光全息圖像防偽技術，用白光點光源照射全息圖，介質(zhì)內(nèi)部生成的多層半透明反射面將光反射回來，迎著反射光可以看到原物的虛像，因而稱為反射激光全息圖。
[0005](3)第三代加密全息圖像防偽技術:加密全息圖像是指采用諸如激光閱讀、光學微縮、低頻光刻、隨機干涉條紋、莫爾條紋等等光學圖像編碼加密技術，對防偽圖像進行加密而得到的不可見或變成一些散斑的加密圖像。
[0006](4)第四代激光全息防偽技術:這樣的全息標識如同一幅內(nèi)容豐富的小電視，設計者可在上面盡情揮灑，組合全息圖具有組合全息圖多種防偽手段，拍攝對像沒有限制，可以是真人，真物體，甚至是電腦構制的虛幻物體。全息圖的一個重要特征就是能夠?qū)崿F(xiàn)三維顯示，且在以真彩色反應三維空間物體的同時，還能附載該三維空間隨時間的變化，這樣的全息標識如同一幅內(nèi)容豐富的小電視。
[0007](5)第五代寬幅激光全息點矩陳光刻防偽技術:其原理是利用計算機控制光學系統(tǒng)的各項參數(shù)，使激光束在置于精密二維自動平臺的光刻膠版上以像素點為單位實現(xiàn)曝光，開成點陳寬幅全息圖。[0008]但是，上述第五代的寬幅激光全息點矩陳光刻防偽技術，只能做一些技術質(zhì)量不高的154dp1-508dpi光刻技術，且光刻最大面積不超過450mmX450mm，因此一般廠家生產(chǎn)的激光防偽標識，都因其分辯率低，定位不準確影響高端防偽性能各產(chǎn)品的成品率，只能用在一般商品上；對檔次較高的防偽定位煙包及證件商品無法起到真正的防偽效果。例如，如圖1所不，一種米用第五代的寬幅激光全息點矩陳光刻防偽技術的光刻機，包括機架、控制光電路、激光器S、干涉儀；所述控制光電路、激光器、干涉儀分別安裝在機架上，所述干涉儀由第一平面偏轉鏡Ml、第一光學透鏡L1、第二光學透鏡L2、第二平面偏轉鏡M2、第三光學透鏡L3、第四光學透鏡L4、第一光學棱鏡L5、第二光學棱鏡L6、中間分光反射透鏡F、dpi遮掩片Y、會聚光學透鏡。所述激光器S豎直設置。其缺點是:激光發(fā)光源(激光器S)發(fā)出的光束經(jīng)過的光學透鏡太多且多重折射，這會導致光柵亮度損失，造成分辯率較低，定位不夠準確。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本實用新型所要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術分辯率較低，定位不夠準確的缺點，提供一種寬幅激光矢量蝕刻機，這種寬幅激光矢量蝕刻機干涉儀的結構得到有效的簡化，光柵亮度大幅提高，工作能力大幅改善。采用的技術方案如下:
[0010]一種寬幅激光矢量蝕刻機，包括機架、控制光電路、激光器、干涉儀；所述控制光電路、激光器、干涉儀分別安裝在機架上，其特征在于:所述干涉儀由平面偏轉鏡、光學透鏡、第一可移動棱鏡、第一道威棱鏡、第二道威棱鏡、第二可移動棱鏡和會聚光學透鏡從左到右呈光學配合排列。
[0011]較優(yōu)的方案，所述平面偏轉鏡為帶有旋轉電機的平面反射鏡。
[0012]較優(yōu)的方案，所述激光器發(fā)出的光束通過帶有旋轉電機的平面反射鏡后置于第一會聚光學透鏡的焦點上，該光束經(jīng)第一會聚光學透鏡準直后在第一可移動棱鏡上分為兩束，一束為反射光，另一束為透射光，反射光依次經(jīng)過第一道威棱鏡、第二道威棱鏡反射并準直后，經(jīng)過第二可移動棱鏡再次準直后，經(jīng)過第二會聚光學透鏡形成干涉條紋產(chǎn)生區(qū)域。
[0013]本實用新型對照現(xiàn)有技術的有益效果是，由于采用了兩個道威棱鏡和兩個可移動棱鏡，簡化了干涉儀的結構，不但大大提高全息成品的光柵亮度，還能夠提高光刻機工作能力，達到的分辯率在5000dpi以上，微結構特性明顯，可進行矢量蝕刻(即使采用100倍放大鏡也無法識別出像素點，因此稱為矢量蝕刻)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1是現(xiàn)有技術的光刻機光路結構示意圖；
[0015]圖2是本實用新型優(yōu)選實施例的光路結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]如圖2所示，本優(yōu)選實施例中的寬幅激光矢量蝕刻機，包括機架(圖中未畫出)、控制光電路(圖中未畫出)、激光器1、干涉儀；所述控制光電路、激光器1、干涉儀分別安裝在機架上。
[0017]所述干涉儀由平面偏轉鏡2、光學透鏡3、第一可移動棱鏡4、第一道威棱鏡5、第二道威棱鏡6、第二可移動棱鏡7和會聚光學透鏡8從左到右呈光學配合排列。
[0018]所述平面偏轉鏡2為帶有旋轉電機的平面反射鏡。
[0019]如圖2所示，所述激光器I發(fā)出的光束通過帶有旋轉電機的平面反射鏡(平面偏轉鏡2)后置于第一會聚光學透鏡8的焦點上,該光束經(jīng)第一會聚光學透鏡8準直后在第一可移動棱鏡4上分為兩束，一束為反射光，另一束為透射光，反射光依次經(jīng)過第一道威棱鏡5、第二道威棱鏡6反射并準直后，經(jīng)過第二可移動棱鏡7再次準直后，經(jīng)過第二會聚光學透鏡8形成干涉條紋產(chǎn)生區(qū)域。
【權利要求】
1.一種寬幅激光矢量蝕刻機，包括機架、控制光電路、激光器、干涉儀；所述控制光電路、激光器、干涉儀分別安裝在機架上，其特征在于:所述干涉儀由平面偏轉鏡、光學透鏡、第一可移動棱鏡、第一道威棱鏡、第二道威棱鏡、第二可移動棱鏡和會聚光學透鏡從左到右呈光學配合排列。
2.如權利要求1所述的寬幅激光矢量蝕刻機，其特征在于:所述平面偏轉鏡為帶有旋轉電機的平面反射鏡。
3.如權利要求2所述的寬幅激光矢量蝕刻機，其特征在于:所述激光器發(fā)出的光束通過帶有旋轉電機的平面反射鏡后置于第一會聚光學透鏡的焦點上，該光束經(jīng)第一會聚光學透鏡準直后在第一可移動棱鏡上分為兩束，一束為反射光，另一束為透射光，反射光依次經(jīng)過第一道威棱鏡、第二道威棱鏡反射并準直后，經(jīng)過第二可移動棱鏡再次準直后，經(jīng)過第二會聚光學透鏡形成干涉條紋產(chǎn)生區(qū)域。
【文檔編號】B41J2/435GK203623154SQ201320810409
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2013年12月11日 優(yōu)先權日:2013年12月11日
【發(fā)明者】李曉笙 申請人:廣東東南薄膜科技股份有限公司