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電子裝置的制作方法

文檔序號:41932323發(fā)布日期:2025-05-16 13:48閱讀:7來源:國知局
電子裝置的制作方法

本揭露涉及一種電子裝置,特別是涉及一種包含具有開口以貼附于曲面的可撓性顯示面板。


背景技術(shù):

1、近年來,為了將顯示面板應(yīng)用在各式各樣的應(yīng)用,如智能手機、平板計算機、筆記本電腦及電子閱讀器,以及應(yīng)用在可穿戴裝置,如智能手表,因此顯示面板已變得越來越重要,而制造商仍持續(xù)開發(fā)新型的顯示面板。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本揭露提供一種電子裝置,包括一可撓性基板具有一曲面區(qū)域,其中所述曲面區(qū)域的一高斯曲率k1不等于零,所述曲面區(qū)域朝向至少兩個不同的方向彎折,一緩沖層,設(shè)置在所述可撓性基板上,且包含一第一開口,其中所述第一開口對應(yīng)所述曲面區(qū)域,多個薄膜晶體管,設(shè)置在所述可撓性基板上,其中所述多個薄膜晶體管的其中一者包含一閘極及一半導(dǎo)體層,一第一絕緣層,設(shè)置在所述閘極與所述半導(dǎo)體層之間,且包含一第二開口,其中所述第二開口重疊所述第一開口,以及多個電子單元,設(shè)置在所述可撓性基板上并由所述多個薄膜晶體管所驅(qū)動,其中于一剖面上,所述第二開口的寬度大于所述第一開口的寬度。

2、本揭露提供一種顯示面板,顯示面板可貼附于一目標物上。顯示面板具有部分區(qū)域?qū)?yīng)至高斯曲率不為0的曲面,且在顯示面板的該部分區(qū)域內(nèi)形成開口。開口形成后有助于提高顯示面板的可彎曲性,且當(dāng)顯示面板覆蓋在高斯曲率不為0的曲面上時,也較不容易產(chǎn)生折痕,提高顯示面板的顯示效果。



技術(shù)特征:

1.一種電子裝置,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,所述多個薄膜晶體管的所述其中一者還包含一源極,以及還包含有一第二絕緣層設(shè)置在所述閘極跟所述源極之間,其中所述第二絕緣層包含一第三開口,所述第三開口重疊于所述第一開口以及所述第二開口,且于所述剖面上,所述第三開口的寬度大于所述第二開口的所述寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,還包含一像素定義層設(shè)置在所述可撓性基板上,且所述像素定義層包含一第四開口,所述第四開口重疊于所述第一開口以及所述第二開口,且于所述剖面上,所述第四開口的寬度大于所述第一開口的所述寬度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,于所述剖面上,所述第一開口具有弧形邊緣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,于所述剖面上,所述第二開口具有弧形邊緣。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,所述可撓性基板具有另一區(qū)域,其中所述曲面區(qū)域被所述另一區(qū)域環(huán)繞。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,還包含有一功能層,設(shè)置在所述多個電子單元上,且所述功能層至少部分重疊于所述第一開口及所述第二開口。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置,其特征在于,所述可撓性基板具有一第二區(qū)域,所述第二區(qū)域具有一高斯曲率為k2,并滿足以下關(guān)系:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子裝置,其特征在于,所述可撓性基板具有一過渡區(qū),位于所述曲面區(qū)域與所述第二區(qū)域之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子裝置,其特征在于,其中所述過渡區(qū)具有不完全貫穿所述可撓性基板的凹陷,所述可撓性基板包含一貫穿開口,所述貫穿開口位于所述曲面區(qū)域中。


技術(shù)總結(jié)
本揭露提供一種電子裝置,包括一可撓性基板具有一曲面區(qū)域,其中所述曲面區(qū)域的一高斯曲率K1不等于零,所述曲面區(qū)域朝向至少兩個不同的方向彎折,一緩沖層,設(shè)置在所述可撓性基板上,且包含一第一開口,其中所述第一開口對應(yīng)于所述曲面區(qū)域,多個薄膜晶體管,設(shè)置在所述可撓性基板上,其中所述多個薄膜晶體管的其中一者包含一閘極及一半導(dǎo)體層,一第一絕緣層,設(shè)置在所述閘極與所述半導(dǎo)體層之間,且包含一第二開口,其中所述第二開口重疊所述第一開口,以及多個電子單元,設(shè)置在所述可撓性基板上并由所述多個薄膜晶體管所驅(qū)動,其中于一剖面上,所述第二開口的寬度大于所述第一開口的寬度。

技術(shù)研發(fā)人員:吳湲琳
受保護的技術(shù)使用者:群創(chuàng)光電股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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