專(zhuān)利名稱(chēng)：無(wú)鉻光刻板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種LED制程中的設(shè)備。
背景技術(shù)：
光刻掩模板一般用石英玻璃作為基體，采用石英是由于其優(yōu)良的近紫外透過(guò)率。 掩模板擋光部分用鉻(Cr)，所以有時(shí)也叫鉻板?，F(xiàn)有技術(shù)是在石英上鍍鉻，再將鉻刻制成相應(yīng)的版圖得到的。這種光刻板在使用過(guò)程中，尤其是接觸式的使用過(guò)程中容易受到損壞，從而造成掩模圖形的失真。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是實(shí)現(xiàn)僅通過(guò)使用石英材料本身來(lái)制作掩模圖形，從而減少光刻板在重復(fù)使用過(guò)程中的圖形失真。為了達(dá)到上述技術(shù)目的，本發(fā)明提供了一種無(wú)鉻光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表優(yōu)選地，所述的石英基板的下表面的對(duì)應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。由于采用上述技術(shù)方案，在石英的上下表面分別制作出同樣的圖形，且下表面圖形與上表面圖形的垂直投影完全重合，上、下表面的圖形使用粗化手段(類(lèi)似于制作毛玻璃)制作從而增強(qiáng)入射光的散射，減小光強(qiáng)。同時(shí)，該技術(shù)由于增加了邊緣的粗化，減弱了因?yàn)轳v波效應(yīng)而導(dǎo)致的光刻膠顯影后的鋸齒缺陷。


附圖1為根據(jù)本發(fā)明的無(wú)鉻光刻板的結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖2為根據(jù)本發(fā)明的無(wú)鉻光刻板的工作原理示意圖； 附圖3為附圖1中的A處的局部放大示意附圖4為附圖1中的B處的局部放大示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。附圖1為根據(jù)本發(fā)明的無(wú)鉻光刻板的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為根據(jù)本發(fā)明的無(wú)鉻光刻板的工作原理示意圖；附圖3為附圖1中的A處的局部放大示意圖；附圖4為附圖1中的 B處的局部放大示意圖。本實(shí)施例中的無(wú)鉻光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，石英基板的下表面的對(duì)應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。如附圖3與附圖4所示，由于在石英的上下表面分別制作出同樣的圖形，且下表面圖形與上表面圖形的垂直投影完全重合，上、下表面的圖形使用粗化手段(類(lèi)似于制作毛玻璃)制作從而增強(qiáng)入射光的散射，減小光強(qiáng)。同時(shí)，該技術(shù)由于增加了邊緣的粗化，減弱了因?yàn)轳v波效應(yīng)而導(dǎo)致的光刻膠顯影后的鋸齒缺陷。當(dāng)曝光機(jī)進(jìn)行曝光時(shí)，印有光刻圖形的上表面部分由于漫反射的效應(yīng)，從而阻止光線的通過(guò)，其余部分則順利通過(guò)石英基板達(dá)到光刻膠從而對(duì)光刻膠進(jìn)行蝕刻。從而實(shí)現(xiàn)了僅通過(guò)使用石英材料本身來(lái)制作掩模圖形，減少光刻板在重復(fù)使用過(guò)程中的圖形失真的目的。以上實(shí)施方式只為說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種無(wú)鉻光刻板，它包括石英基板，其特征在于所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)鉻光刻板，其特征在于所述的石英基板的下表面的對(duì)應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。
全文摘要
本發(fā)明涉及無(wú)鉻光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面。優(yōu)選地，石英基板的下表面的對(duì)應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，實(shí)現(xiàn)僅通過(guò)使用石英材料本身來(lái)制作掩模圖形，從而減少光刻板在重復(fù)使用過(guò)程中的圖形失真。
文檔編號(hào)G03F1/60GK102436135SQ20121000315
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2012年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月7日
發(fā)明者魏臻 申請(qǐng)人:聚燦光電科技(蘇州)有限公司