技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及充電部件、處理盒和圖像形成裝置。所述充電部件包含支持部件、設(shè)置在所述支持部件上的導(dǎo)電性彈性層和設(shè)置在所述導(dǎo)電性彈性層上的正表面層。周期短于0.1mm的凹凸部和周期為0.1mm以上的凹凸部分布在所述充電部件的整個(gè)外周面上，并滿足以下條件(1)和(2)：(1)所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度為5μm～8μm；并且(2)所述周期為0.1mm以上的凹凸部的平均高度為6μm～30μm。所述外周面上的高度分布的最大頻度值的半值寬度為1μm～3μm。

技術(shù)研發(fā)人員：林義之;三浦宏之;成田幸介
受保護(hù)的技術(shù)使用者：富士施樂株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.06
技術(shù)公布日：2017.09.29