1.一種COA型液晶面板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
提供第一基板，并在所述第一基板上依次形成第一金屬層以及第一絕緣層；
在所述第一絕緣層上依次形成色阻層以及第二絕緣層；
在所述第二絕緣層上形成半導(dǎo)體層以及第二金屬層，并在所述第二金屬層上形成覆蓋所述第二絕緣層的第三絕緣層；
在所述第三絕緣層上形成導(dǎo)通孔，并在所述第三絕緣層上形成像素電極層，其中，所述像素電極層經(jīng)由所述導(dǎo)通孔與所述第二金屬層相接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，采用沉積并圖案化制程形成所述第一金屬層、第二金屬層以及像素電極層。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，采用涂布、曝光以及顯影制程形成所述色阻層。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，采用圖案化制程形成所述導(dǎo)通孔。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一金屬層包括柵極、所述第一絕緣層為設(shè)于所述柵極上的柵極絕緣層；所述第二金屬層包括源/漏極、所述第三絕緣層為設(shè)于所述源/漏極上并覆蓋所述第二絕緣層的鈍化層，所述源/漏極與所述半導(dǎo)體層相接觸，所述像素電極層經(jīng)由所述導(dǎo)通孔與所述源/漏極相接觸。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述像素電極層的材料為氧化銦錫。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述色阻層結(jié)構(gòu)采用單色阻層、雙色阻層以及三色阻層的任意一種。
8.一種COA型液晶面板，包括陣列基板；其特征在于，
所述陣列基板包括多個(gè)像素區(qū)域，每一像素區(qū)域包括依次設(shè)置的第一金屬層、第一絕緣層、色阻層以及第二絕緣層，設(shè)于所述第二絕緣層上的半導(dǎo)體層以及第二金屬層，設(shè)于所述第二金屬層上并覆蓋所述第二絕緣層的第三絕緣層，設(shè)于所述第三絕緣層上的像素電極層；所述第三絕緣層上設(shè)有導(dǎo)通孔，所述像素電極層經(jīng)由所述導(dǎo)通孔與所述第二金屬層相接觸。
9.如權(quán)利要求8所述的液晶面板，其特征在于，所述第一金屬層包括柵極、所述第一絕緣層為設(shè)于所述柵極上的柵極絕緣層；所述第二金屬層包括源/漏極、所述第三絕緣層為設(shè)于所述源/漏極上并覆蓋所述第二絕緣層的鈍化層，所述源/漏極與所述半導(dǎo)體層相接觸，所述像素電極層經(jīng)由所述導(dǎo)通孔與所述源/漏極相接觸。
10.如權(quán)利要求8所述的液晶面板，其特征在于，所述像素電極層的材料為氧化銦錫。
11.如權(quán)利要求8所述的液晶面板，其特征在于，所述色阻層結(jié)構(gòu)采用單色阻層、雙色阻層以及三色阻層的任意一種。