一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置，用于炭黑表面的改性，包括用于產(chǎn)生等離子體的第一腔室、第二腔室和回收腔，所述第一腔室套接第二腔室，所述第一腔室內(nèi)設置等離子體，在所述第二腔室開設有炭黑引進區(qū)。本裝置能以空氣為氣氛對納米級炭黑進行等離子體處理，炭黑經(jīng)空氣等離子體處理表面改性后，在水中的分散性大大提高。有效地將炭黑進行了表面處理改性。
【專利說明】一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置【技術領域】
[0001]本實用新型屬于等離子體處理裝置，具體涉及一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置。
【背景技術】
[0002]材料表面改性處理技術是當前普遍使用的材料制備技術之一，它是在一定的外界條件下，材料外部物質(zhì)和材料表面發(fā)生物理或化學反應，從而使材料表面狀態(tài)發(fā)生變化或在材料表面產(chǎn)生新的元素和新的基團，最終滿足實際應用的需要。
[0003]但是，現(xiàn)代工業(yè)的迅猛發(fā)展對材料耐磨擦、磨損和抗腐蝕等性能提出了更高的要求，與此同時，對環(huán)保的要求也越來越高，從而有力地推動被稱為綠色生產(chǎn)工藝的材料等離子表面改性技術的不斷發(fā)展。在真空下，給反應氣體環(huán)境施加高頻電場，氣體在高頻電場的激勵下電離產(chǎn)生等離子體，高頻電場激勵產(chǎn)生的等離子體的溫度接近于室溫，因此又稱低溫等離子體。
[0004]然而，由于炭黑分散不充分，因此亟需一種能充分處理炭黑表面的裝置。
實用新型內(nèi)容
[0005]為了解決現(xiàn)有技術中存在的上述問題，提供一種顆粒狀物料等離子體處理裝置。
[0006]本實用新型所采用的技術方案是:用于炭黑表面的改性，包括用于產(chǎn)生等離子體的第一腔室、第二腔室和回收腔，上述第一腔室套接第二腔室，上述第一腔室內(nèi)設置等離子體，在所述第二腔室開設有炭黑引進裝置。
[0007]優(yōu)選的，上述第二腔室還開設有抽氣口。
[0008]優(yōu)選的，上述第一腔室和第二腔室可拆卸套接。
[0009]優(yōu)選的，還包括用于收集處理后炭黑的布袋收集器。
[0010]優(yōu)選的，上述炭黑引進區(qū)采用活動連接閥連接需引入的炭黑。
[0011]采用本技術方案的有益效果是:一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置，用于炭黑表面的改性，包括用于產(chǎn)生等離子體的第一腔室、第二腔室和回收腔，所述第一腔室套接第二腔室，所述第一腔室內(nèi)設置等離子體，在所述第二腔室開設有炭黑引進裝置。本處理裝置能以空氣為氣氛對納米級炭黑進行等離子體處理，炭黑經(jīng)空氣等離子體處理表面改性后，在水中的分散性大大提高。有效地將炭黑進行了表面處理改性。
【專利附圖】

【附圖說明】 [0012]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實施例并結合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細的說明，其中:
[0013]圖1是本實用新型實施例1的結構示意圖；
[0014]圖中，1.第一腔室2.第二腔室3.回收腔4.炭黑引進閥5.抽氣口。【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖詳細說明本實用新型的具體實施例。
[0016]實施例1
[0017]如圖1所示，一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置，用于炭黑表面的改性，包括第一腔室1、第二腔室2和回收腔3，第一腔室中放電產(chǎn)生等離子體，在所述第二腔室2開設有炭黑引進裝置4。其中炭黑引進裝置采用可調(diào)節(jié)流量的炭黑引進閥4，第一腔室I和第二腔室2可拆卸套接，第二腔室和回收腔之間可拆卸套接，第二腔室上還開設有抽氣口 5，還包括用于收集處理后炭黑的布袋收集器(圖中未標出)，炭黑經(jīng)處理裝置等離子體處理后，通過布袋收集器收集。
[0018]炭黑通過炭黑引進區(qū)裝置，和等離子體氣體充分混合反應，當原料進入到第一腔室，在第一腔室中和等離子體氣體反應，在流向第二腔室，在第二腔室中與炭黑等離子體反應，反應完在經(jīng)行回收，回收到回收腔中，可以充分分散，等離子體處理效果好。
[0019]本實用新型涉及一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置，用于炭黑表面的改性，包括用于產(chǎn)生等離子體的第一腔室、第二腔室和回收腔，所述第一腔室套接第二腔室，所述第一腔室內(nèi)設置等離子體，在所述第二腔室開設有炭黑引進裝置。本裝置能以空氣為氣氛對納米級炭黑進行等離子體處理，炭黑經(jīng)空氣等離子體處理表面改性后，在水中的分散性大大提高。有效地將炭黑進行了表面處理改性。
[0020]以上所述的僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種炭黑表面大氣等離子體處理裝置，用于炭黑表面的改性，其特征在于，包括用于產(chǎn)生等離子體的第一腔室、第二腔室和回收腔，所述第一腔室套接第二腔室，所述第一腔室內(nèi)設置等離子體，在所述第二腔室開設有炭黑引進裝置。
2.根據(jù)權利要求1所述的炭黑表面大氣等離子體處理裝置，其特征在于，所述第二腔室還開設有抽氣口。
3.根據(jù)權利要求1所述的炭黑表面大氣等離子體處理裝置，其特征在于，所述第一腔室和第二腔室可拆卸套接。
4.根據(jù)權利要求1所述的炭黑表面大氣等離子體處理裝置，其特征在于，還包括用于收集處理后炭黑的布袋收集器。
5.根據(jù)權利要求1所述的炭黑表面大氣等離子體處理裝置，其特征在于，所述炭黑引進裝置采用活動連接閥引入炭黑。
【文檔編號】H01J37/32GK203562391SQ201320753466
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年11月26日 優(yōu)先權日:2013年11月26日
【發(fā)明者】沈文凱, 王紅衛(wèi) 申請人:蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司