專利名稱：平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種玻璃基板的研磨裝置，特別是涉及一種有關液晶 顯示器或電漿顯示器、有機電激發(fā)光顯示器等平面顯示器用玻璃基板的外 部機械研磨裝置。
背景技術：
液晶顯示器或電漿顯示器等平面顯示器(FPD),為廣泛使用于電腦顯示 裝置或TV顯像器用、行動電話顯示部用等各種電子機器。最近還進行有為 了自發(fā)光，而不需背光的高速反應性優(yōu)良的有機EL顯示器開發(fā)，且未來受 到期望。
此種FPD所要求的課題之一，就是薄型化。薄型化是伴隨其所裝載的 電子機器的薄型化或小型化、輕量化而要求的。例如筆記型電腦或行動電 話中，為要求更加薄型化或輕量化，隨之FPD也要求更薄更輕量。
作為FPD的薄型化或輕量化的重要要素就是玻璃基板。不論液晶顯示 器、電漿顯示器、或是有機EL顯示器，都采用黏貼一對基板，在其內面配 置元件與電極的構造。玻璃比重較重，又有確保機械性強度的必要性，故必 須有一定程度的厚度。因此，玻璃基板的存在對于FPD的薄型化或輕量化 會造成阻礙。
許多FPD制造工程中，為采用從較大的一對玻璃基板中生產(chǎn)多數(shù)FPD 的工法， 一對玻璃基板為依所生產(chǎn)的各FPD用途，在各區(qū)域分別形成元件 電極，且在li貼等工程結束之后， 一對玻璃基板會被切割為各區(qū)域，然后 再進入修飾工程。
此種從一對玻璃基板產(chǎn)生多數(shù)FPD的工法，因為進行工程的極簡化，而 有可降低制造成本的優(yōu)點，但是有玻璃基板變大的傾向。例如液晶顯示器 的制造制程中，為使用2000mm x 1800ran左右大小的玻璃基板。處理這么大 的玻璃基板時，若玻璃基板太薄，則容易斷裂，或因為本身重量而折彎，從 而必須有一定程度的厚度。
另一方面，切斷為各區(qū)域的后者(半成品)或成為成品者，即可使玻 璃基板薄到一個程度，也因為尺寸較小而沒有問題。其中日本特開平 5-249422公報，揭露有關打薄玻璃基板的蝕刻，該說明書幾乎沒有揭示具 體內容，亦即雖然說明蝕刻是以浸泡法進行，但是使用何種蝕刻液、浸泡 多久時間等，完全沒有具體說明。從而上述公報的揭示內容中，即使業(yè)者
3具備實施能力，也難以實施該實用新型；又即使可以實施，就FPD的非常 重要的要素亦即平坦性的觀點來說，也判斷為難以確保充分品質。
由此可見，上述現(xiàn)有的玻璃基板的研磨裝置在結構與使用上，顯然仍 存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決玻璃基板的研磨裝 置存在的問題，相關廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直 未見適用的設計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切的結構能夠解決上述 問題，此顯然是相關業(yè)者急欲解決的問題。
有鑒于上述現(xiàn)有的玻璃基板的研磨裝置存在的缺陷，本設計人基于從 事此類產(chǎn)品設計制造多年的豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運 用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新型結構的平面顯示器用玻璃基板 的外部機械研磨裝置，能夠改進一般現(xiàn)有的玻璃基板的研磨裝置，使其更 具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設計，并經(jīng)反復試作樣品及改進后，終于 創(chuàng)設出確具實用價值的本實用新型。
發(fā)明內容
本實用新型的主要目的在于，克服現(xiàn)有的玻璃基板的研磨裝置存在的 缺陷，而提供一種新的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，所要 解決的技術問題是使其具有提供可達成FPD薄型化的實用技術，從而更加 適于實用，且具有產(chǎn)業(yè)上的利用價值。
本實用新型的目的及解決其技術問題是采用以下的技術方案來實現(xiàn) 的。依據(jù)本實用新型提出的一種平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝 置，其包括 一處理室； 一基板保持具，該基板保持具夾持上述玻璃基板設 置在處理室內；多個噴嘴，該噴嘴具有噴射孔，該噴射孔，向著被上述基板 保持具夾持的上述玻璃基板的外表面，噴出溶出上述玻璃基板外表面材料 的溶出液； 一溶出液供給系統(tǒng)，對上述該些噴嘴供給附加有本身重量所造 成的加速度的溶出液；以及一移動機構，承載上述玻璃基板，且相對于噴嘴 的噴射孔移動。
本實用新型的目的及解決其技術問題還可以采用以下的技術措施來進 一步實現(xiàn)。
前述的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，其中所述的噴嘴
設置在^皮基板保持具所夾持的 一對玻璃基板的兩側。
前述的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，其中所述的噴嘴 的噴射孔到上述玻璃基板外表面為止的距離在5ram至lOOmm的范圍內。
前述的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，其中所述的各噴 射孔以等間距設置，且從各噴射孔到上述玻璃基板外表面的距離相同。
經(jīng)由以上可知，本實用新型為一種平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，為用于將平面顯示器用的玻璃基板外表面做機械研磨打薄，其包
括 一處理室，其內部用于進行外部機械研磨處理； 一用在上述玻璃基板 保持在處理室內特定位置的基板保持具；具有將溶出上述玻璃基板外表面 材料的溶出液，其中該溶出液為氟酸,且向著被上述基板保持具保持的上述 玻璃基板外表面噴射的噴射孔的多個噴嘴；和對上述該些噴嘴供給溶出液 的一溶出液供給系統(tǒng)，其為將附加有本身重量所造成的加速度的溶出液，往 上述玻璃基板外表面噴出并沖擊上述玻璃基板，而可利用沖擊造成的物理 作用來加以研磨的壓力，來對上述噴嘴供給溶出液者；以及一移動機構用 以使被噴射溶出液的上述玻璃基板，對噴嘴的噴射孔做機械性相對移動。
其中，上述溶出液供給系統(tǒng)為使上述溶出液從上述噴嘴的噴射孔噴 射，且上述噴嘴供給上述溶出液為以0. 5Kg/cn^至3. 5Kg/cf范圍的壓力沖 擊上述玻璃基板外表面。又，上述基板保持具為在溶出液噴射中使上述玻 璃基板外表面保持垂直；且,上述噴嘴為設置在被基板保持具所保持的一對 玻璃基板的兩側，用以將黏合后的一對玻璃基板的雙方外表面同時加以機 械研磨。在研磨的開始時，上述噴嘴的噴射孔到上述玻璃基板外表面為止 的距離為5mm至100mm者；且各噴射孔為以等間隔來多個設置，且從各噴 射孔到上述玻璃基板外表面為止的距離是一定的。
本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上技術 方案可知，為了達到前述發(fā)明目的，本實用新型的主要技術內容如下
本實用新型提出一種平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，其 包括處理室用于進行研磨處理，與用于保持玻璃基板在處理室內特定位置 的基板保持具；將溶出玻璃基板外表面材料的溶出液，向著玻璃基板外表 面噴射的噴射孔的多個噴嘴；以及供給溶出液的溶出液供給系統(tǒng)，藉由將附 加有本身重量所造成的加速度的溶出液由噴嘴噴出，往玻璃基板外表面噴 出并沖擊玻璃基板，利用沖擊造成的物理作用來加以研磨的壓力，進行玻璃 基板的研磨。本實用新型透過連續(xù)供應的溶出液噴射，可進行有效率且平 均性優(yōu)良的研磨；還可以充分供給新溶出液來進行研磨，即使是外表面的 玻璃成份或結晶狀態(tài)不平均的玻璃基板，亦可充分研磨，而更確保較高的平 坦性。
借由上述技術方案，本實用新型平面顯示器用玻璃基板的外部機械研 磨裝置至少具有下列優(yōu)點
本實用新型透過連續(xù)供應的溶出液噴射，可進行有效率且平均性優(yōu)良 的研磨。且在上述噴嘴供給上述溶出液的壓力為0. 5Kg/cf至3. 5Kg/cii^范 圍，故可以充分供給新溶出液來進行研磨，同時也可以充分利用物理作 用，故即使是外表面的玻璃成份或結晶狀態(tài)不平均的玻璃基板，亦可充分 研磨，而更確保較高的平坦性。綜上所述，本實用新型特殊結構的平面顯示器用玻璃基板的外部機械 研磨裝置，其具有上述諸多的優(yōu)點及實用價值，并在同類產(chǎn)品中未見有類 似的結構設計公開發(fā)表或使用而確屬創(chuàng)新，其不論在結構上或功能上皆有 較大的改進，在技術上有較大的進步，并產(chǎn)生了好用及實用的效果，且較 現(xiàn)有的玻璃基板的研磨裝置具有增進的多項功效，從而更加適于實用，而具 有產(chǎn)業(yè)的廣泛利用價值，誠為一新穎、進步、實用的新設計。
上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實 用新型的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本實用新型 的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。
本實用新型的具體實施方式
由以下實施例及其附圖詳細給出。


圖1為本實用新型的實施例的外部機械研磨裝置的正面示意圖。
圖2為圖1所示的裝置的側面剖面示意圖。
圖3為圖l及圖2所示的裝置中基板保持具的立體示意圖。
圖4為圖2所示的噴嘴形狀的立體示意圖。
圖5為從可噴射孔對黏貼面板外面平均噴出溶出液的示意圖。
具體實施方式
為更進一步闡述本實用新型為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及 功效，
以下結合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本實用新型提出的平面顯示器用 玻璃基板的外部機械研磨裝置其具體實施方式
、結構、特征及其功效.詳細 說明如后。
一般FPD的制造方法，以LCD為例，為采用從較大的一對玻璃基板中 生產(chǎn)多數(shù)FPD的工法，如電極形成工程與密封工程， 一對玻璃基板為依所 生產(chǎn)的各FPD用途，在各區(qū)域分別形成元件電極，且在黏貼等工程結束之 后， 一對玻璃基板會被切割為各區(qū)域，然后再進入修飾工程，也就是外部 才幾械研磨工程。
另外本說明書中，將一對基板互相面對的面稱為r內面」，與其相反側 的面稱為「外面」。本實施方式的外部機械研磨工程，為將黏貼的一對玻璃 基板(以下稱為黏貼面板)的雙方外面加以機械研磨的工程。所謂「機械 研磨」，為利用所謂噴出壓力的溶出液物理作用的研磨，和在研磨時使玻璃 基板做機械性移動等意義。所謂「做機械性移動」，為「利用機械來移動J 的意思。另外，若與r削減」亦即r削去而減少厚度」的用語作比較，則 因為只要進行研磨就一定會削去表面而減少厚度，故「研磨」為「削去J 的下位概念，此事自然明了。請參閱圖1、圖2所示，是本實用新型平面顯示器用玻璃基板的外部機 械研磨裝置的正面概略圖與側面剖面概略圖。
本實用新型為平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置， 一種用于 將平面顯示器用的玻璃基板外表面做機械研磨打薄的裝置，其包括一用以 在內部進行外部機械研磨處理的處理室20,和在處理室20內特定位置保持 玻璃基板10的基板保持具30，以及具有將溶出上述玻璃基板10外表面材 料的溶出液L，且向著被上述基板保持具30保持上述玻璃基板IO外表面噴 射的噴射孔41的多個噴嘴40，和對噴嘴40供給溶出液L的一溶出液供給 系統(tǒng)50。本實施方式中，因為在玻璃基板10f占貼后進行外表面蝕刻，故基 板保持具30會成為保持黏貼后的玻璃基板10的構件。
該處理室20中具備搬入已黏貼的玻璃基板10的搬入口 21，和將外部機 械研磨處理后的玻璃基板IO搬出的搬出口 22。搬入口 21及搬出口 22,為 以封鎖閘23來控制開關。另外，開關為藉由封鎖閘23在垂直于搬運方向 的水平方向(如圖1的紙面垂直方向)移動來進行。
本實用新型裝置具備使玻璃基板10對噴嘴40的噴射孔41做機械性相 對移動的移動機構，此移動機構者為透過搬入口 21及搬出口 22搬運玻璃 基板10的搬運機構300?；灞３志?0為設置為構成搬運機構300的構件。
請參閱圖3所示，為前述裝置中基板保持具30的立體概略圖。本實用 新型平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置的基板保持具30主要是由 水平的基底板31，和站立設置在基底板31的支柱32，和安裝在該些支柱 32間的緩沖具33所構成。
該些支柱32為分別設置在細長長方形的基底板31的邊角部分，總計 設置4支。還設置有沿著基底板31的長邊方向延伸的梁構件34，連接各支 柱32上端用以補強基板保持具30，且各支柱32的高度為比站立的玻璃基 板10更高一點。基底板31短邊的兩支支柱32的間隔，也比玻璃基板10 的厚度大一點，基底板31長邊的兩支支柱32的間隔，比已黏貼的玻璃基 板10長度長一點，而該玻璃基板10為插入此等支柱32所形成的空間而被 保持。
該些緩沖具33為直接接觸玻璃基板10的構件，而不緊靠在玻璃基板 10者。該些緩沖具33為以對于溶出液L不會被腐蝕(有耐藥品性)的材料 來形成，例如以鐵氟龍等氟系樹脂來形成。
如圖3所示，該些緩沖具33為由在基底板31長邊方向兩端連接各支 柱32的下端設置者，和一樣在長邊方向兩端連接支柱32上端設置者所構 成。被保持的玻璃基板IO，為接觸該些緩沖具33的各角部。接觸玻璃基板 10下端角部的下側M^沖具33,為短邊方向剖面形狀位凹狀，長邊方向剖面 形狀為L字狀者。接觸玻璃基板10的上端角部的上側緩沖具33,為短邊方向剖面形狀為橫向凹狀。如圖3所示，敘2J皮^felO時，為從上方插入，落 在各緩沖具33的凹部內。
該搬運機構300為例如有閂鎖與小齒輪機構所構成者。搬運機構300 構成為閂鎖基底板31，以多個小齒輪301咬合者，該些小齒輪301為沿著搬 運線以特定間隔多數(shù)^1置，小齒輪301為配置在處理室20內外。另外，適當 設置有導引移動基板保持具30的導引構件。
如圖2所示，該些噴嘴40為設置在基板保持具30保持的玻璃基板10 的兩側位置，可向著玻璃基板10的兩側外面同時噴射溶出液L。
請參閱圖4所示，是本實用新型平面顯示器用玻璃基板的外部機械研 磨裝置圖2所示的噴嘴40形狀的立體示意圖。
該些噴嘴40為具有噴射孔41的管狀構件，噴嘴40為延伸在垂直方向 而配置，在玻璃基板IO的長邊方向(搬運方向)以均等間隔多個并排設 置。該些噴射孔41為設置在噴嘴40中面臨玻璃基板10的部分，在管的延 伸方向(垂直方向)以均等間隔設置。另外作為噴嘴40的構造，有并排比 圖4所示還要更多(或更少)者的情況，也有沿著水平方向或傾斜方向并 列多個噴嘴40的情況。又噴嘴40不需要為管狀，也可以是板狀或其他形狀。
溶出液供給系統(tǒng)50為由貯存溶出液L的貯液部51，和連接貯液部51與 各噴嘴40的配管52，和設置在配管52上的岡53或送液泵54等所構成，從 所供給的溶出液L中去除雜質或垃圾等的過濾器或調壓用泵，以因應必要 來設置。
溶出液L為藉由溶出液供給系統(tǒng)50對各噴嘴40,從各噴射孔41向著 被基板保持具30保持的玻璃基板10的外面噴射，被噴射的溶出液L會沖 擊溶解外面而研磨外面。
另外如圖l所示，處理室20的底部成為漏斗狀，而最下部"^殳置有一排 出孔24,該排出孔24為連接有排出使用后的溶出液L的排出管25。如上 所述，溶入有玻璃基板10的材料的溶出液L，會落下到該處理室20底部，透 過排出孔24由該排出管25而被排出。
又處理室20的內壁面，或處理室20內各構件的表面需對溶出液L有 耐藥品性的構造。例如溶出液L為氟酸時，內壁面或各構件表面，為成為 涂布覆蓋有鐵氟龍等氟系樹脂的構造。另外，開關搬入口 21或搬出口 22 的封鎖閘23,為以不使溶出液L流出來進行封鎖設計。
本實施方式的裝置，因為要更加提高機械研磨后外面的平坦性，故對 于噴嘴40構造要特別下工夫。以下針對這點，使用圖4及圖5來說明。
請參閱圖5所示，是本實用新型為表示從各噴射孔41對玻璃基板10 外面平均噴出溶出液L的示意圖。
8其中的各噴射孔41為對于噴嘴40的管延伸方向(垂直方向)為傾斜 45度方向的細長，因此，從各噴射孔41被噴射的溶出液L將如圖4所示在 此傾斜方向擴散為長錐狀(或是喇p八狀)。
圖5為表示從一個噴嘴40的各噴射孔41噴出的溶出液L。圖5右側為 表示從玻璃基板10高度方向看去，來自各噴射孔41的溶出液L的噴射量 分布。此時，面臨并通過上下相鄰的兩個噴射孔41的正中間位置的外面上 點P,會從該相鄰的兩個噴射孔41接受溶出液L的供給。此時，此點P位 于長錐狀的溶出液L的擴散端部，故如圖5右側所示，從一個噴射孔41接 受的溶出液L的量，為其他點的l/2左右，而用上下相鄰的兩個噴射孔41 來接收l個噴射孔41份量的溶出液L供給。因此，在玻璃基板10的高度 方向，外面各點的溶出液L供給量是平均的。另外，不只是以圖4所示的剖 面形狀來擴散溶出液L的情況,也可以是橢圓形、圓形、方形(正方形、長 方形)、菱形、平行四邊形狀等剖面形狀來擴散溶出液L的情況。
現(xiàn)說明上述裝置的動作。進行有上述密封工程而完成后的玻璃基板 10,為在處理室20外裝載在基板保持具30。裝載動作，有用機器人進行的 情況，也有由作業(yè)員的手來進行的情況。在對基板保持具30裝載之前，也 有時會進行遮蓋膠帶所造成的遮蓋。
搬運機構300動作，為先打開搬入口 21封鎖間23,透過搬入口 21使 基板保持具30往處理室20內移動。基板保持具30為在玻璃基板10位在 兩側噴嘴40之間的特定位置的時間點就停止。然后4般入口 21的封鎖閘23 會關閉。此狀態(tài)下，溶出液供給系統(tǒng)50的閥53會打開，送液泵54以特定 壓力將溶出液L送到各噴嘴40。結果會從各噴嘴40的噴射孔41噴射溶出 液L,并以特定壓力沖擊玻璃基板10的外面。藉此，玻璃基板10的外面會 被削減。溶入有外面的材料的溶出液L，會落下而從排出孔24被排出。
進行特定時間的溶出液L噴射后，停止送液泵54，關閉閥53。然后搬 運機構300會動作，使基板保持具30移動，打開搬出口 22的封鎖閘23將 玻璃基板10搬出處理室20外。被搬出的玻璃基板IO，為進行純水等洗凈 液洗凈或遮蓋膠帶去除等作業(yè)。
上述裝置的動作中，有時在溶出液L噴射中也會因應必要而使玻璃基 板10變位。玻璃基板10的外面上各點中，當對各噴嘴40的各噴射孔41 為最短距離的點其沖擊壓力過高時，則藉由在溶出液L噴射中使玻璃基板 10前后移動，可以使時間平均后的各點的沖擊壓力平均化。藉此，可更加 提高機械研磨后外面的平坦性。玻璃基板10的移動，也有在上下方向進行 者。
又上述裝置的構造中，送液泵54造成的送液壓力為設定為外面的溶出 液L造成的沖擊壓力為0. 5Kg/cii^至3. 5kg/cn^的范圍。此時各噴嘴40的各
9噴射孔41與外面的距離(如圖2以d表示)就成為重要因素。若距離d過 大，則如果不提高送液泵54的送液壓力，就無法用上述范圍內的壓力沖擊 外面，而難以實用。又距離d較小時，雖然容易保持沖擊壓力的最佳值，但 往噴射孔41最短點的沖擊壓力會過高，在平均性觀點上會產(chǎn)生問題。為了 作為確保沖擊的平均性(亦即研磨平坦性)的實用結構，距離d以5mm以 上100mm以下為佳。另外溶出液L的研磨在進行中的過程，雖然從噴射孔 41到外面為止的距離會稍微變長，但是5mm以上lOOmm以下是實際開始研 磨時的距離。
又若沖擊力比0. 5Kg/cf小，則因為新溶出液L的供給較少而無法進行 充分研磨，此外物理作用也不充分，故玻璃成分或結晶狀態(tài)不平均的場所則 無法充分研磨，而有平坦性P爭低的問題。又若沖擊壓力比3. 5Kg/cii^大，則只 有從噴嘴40的噴射孔41的最短點會被較多研磨，這點會使平坦性惡化。因 此，作為0. 5Kg/cm2至3. 5Kg/cr^范圍的沖擊壓力為理想。
若依上述裝置，除了溶出液L的化學作用外，還利用所謂沖擊的物理 作用來進行外面研磨，故可進行高平坦性的研磨；并且因為玻璃基板10的 搬運與機械研磨處理都被自動化，故生產(chǎn)性也高。
又噴嘴40的各噴射孔41為以均等間隔來設置，從各噴射孔"到外面 為止的距離一定，故容易使被噴射的溶出液L的沖擊壓力平均，這點對平 坦性較高的研磨處理會帶來貢獻。又保持玻璃基板10為垂直的狀態(tài)來進行 溶解這點，有促進外面的溶出液L替換的效果，而有以充分效率進行外部 機械研磨的技術性意義。
更且，噴嘴40設置在玻璃基板1Q的兩側，可將雙方外面同時作機械 性研磨，故除了可對玻璃基板10的薄型化更有貢獻之外，生產(chǎn)性也較高。
上述各實施方式的構造中，溶出液L帶來的外面研磨，為利用溶出液L 造成的沖擊的物理性作用者，與僅浸泡在蝕刻液或僅散怖蝕刻液等蝕刻有 實質上的不同。
又上述實施方法中，雖在黏貼一對玻璃基板10之后進行外部機械研磨 處理，但有時也會在黏貼前進行外部機械研磨處理。此時，為在進行電極 形成工程之前來進行外部機械研磨，或在形成彩色濾光片之前進行外部機 械研磨。此時基板保持具30,也會構成僅保持一片玻璃基板IO。當玻璃基 板10變薄雖然會產(chǎn)生強度問題，但若以氟酸等強酸來作機械研磨，則強酸 作用會有強化的副效果，即使變薄也不會有問題。更且，也有在分割工程 之后進行外部機械研磨者。又，也有時會同時保持多個玻璃基板10，來同 時進行外部機械研磨處理。
又上述實施方式的裝置中，雖使搬運機構300兼作為移動機構，但亦 可與搬運機構300分別設置移動機構。例如有時將基板保持具30設置為移動機構的一部分，將搬運機構300所搬運的玻璃基板10移放到基板保持具 30,來加以移動。另外所謂「相對移動」，主旨為使玻璃基板10與噴嘴40 的噴射孔41的位置關為變化地來移動；可以如上述實施方式般對靜止的噴 嘴40的噴射孔41移動玻璃基板10,也可以對靜止的玻璃基板10移動噴射 孔41，又可以移動兩者。
上述實施方式的說明中雖采用LCD，但電漿顯示器或有機EL顯示器等 情況也同樣適用。因為這些FPD不需要背光，故有時與射出側相反側的基板 不是玻璃基板10。亦即有時只有一邊是玻璃基板10。又本實用新型中，可 以對一對玻璃基板10中的一邊進行外部機械研磨處理，此時也會得到本案 實用新型的效果。
以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作 任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非 用以限定本實用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本實用新型 技術方案的范圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為 等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案內容，依據(jù)本 實用新型的技術實質對以上的實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修 飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。
ii
權利要求1、一種平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，其特征在于其包括一處理室(20)；一基板保持具(30)，該基板保持具(30)夾持上述玻璃基板(10)設置在處理室(20)內；多個噴嘴(40)，該噴嘴(40)具有噴射孔(41)，該噴射孔(41)，向著被上述基板保持具(30)夾持的上述玻璃基板(10)的外表面，噴出溶出上述玻璃基板(10)外表面材料的溶出液(L)；一溶出液供給系統(tǒng)(50)，對上述該些噴嘴(40)供給附加有本身重量所造成的加速度的溶出液(L)；以及一移動機構，承載上述玻璃基板(10)，且相對于噴嘴(40)的噴射孔(41)移動。
2、 根據(jù)權利要求1所述的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨 裝置，其特征在于其中所述的噴嘴(40)設置在被基板保持具(30)所夾 持的一對玻璃基板(10)的兩側。
3、 根據(jù)權利要求1所述的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨 裝置，其特征在于其中所述的噴嘴(40)的噴射孔(41)到上述玻璃基板(10)外表面為止的距離在5mm至100mm的范圍內。
4 、根據(jù)權利要求1所述的平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨 裝置，其特征在于其中所述的各噴射孔(41)以等間距設置，且從各噴射 孔(41)到上述玻璃基板(10)外表面的距離相同。
專利摘要本實用新型是關于一種平面顯示器用玻璃基板的外部機械研磨裝置，其包括處理室用于進行研磨處理，與用于保持玻璃基板在處理室內特定位置的基板保持具；將溶出玻璃基板外表面材料的溶出液，向著玻璃基板外表面噴射的噴射孔的多個噴嘴；以及供給溶出液的溶出液供給系統(tǒng)，藉由將附加有本身重量所造成的加速度的溶出液由噴嘴噴出，往玻璃基板外表面噴出并沖擊玻璃基板，利用沖擊造成的物理作用來加以研磨的壓力，進行玻璃基板的研磨。本實用新型透過連續(xù)供應的溶出液噴射，可進行有效率且平均性優(yōu)良的研磨；還可以充分供給新溶出液來進行研磨，即使是外表面的玻璃成份或結晶狀態(tài)不平均的玻璃基板，亦可充分研磨，而更確保較高的平坦性。
文檔編號B24C3/12GK201264218SQ200820131288
公開日2009年7月1日 申請日期2008年8月7日 優(yōu)先權日2008年8月7日
發(fā)明者柳澤真太郎 申請人:何義爐