本實用新型涉及鏡片生產(chǎn)設備領域，具體是帶感應片的吊裝旋轉真空鍍膜室。

背景技術：

無論樹脂或玻璃鏡片其本身的透光率都只有91%左右，會有部分光線被鏡片的兩個表面反射回來。

鏡片的反射可使光線透過率減少并在視網(wǎng)膜形成干擾像而影響成像的質(zhì)量，并影響配戴者的外觀。如鏡片外觀渦旋明顯，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而鍍膜鏡片是利用光學薄膜及真空的新技術，鍍上一定厚度的單層或多層光學薄膜，使鏡片獲得一些新的、原本不具備的優(yōu)良性能，以改善鏡片反射光線的能力，起到增強或減少光線透過的作用使鏡片的透光率增加到98%。

所鍍的膜層主要有硬膜、多層減反射膜、抗污膜等。

各膜層的主要作用是：1）加硬膜：增加鏡片表面的硬度，使其更加耐磨損。2）減反射膜：增加鏡片可見光的透過率和防紫外線、防輻射的性能。3）抗污膜：因減反射膜的技術需要，該膜分子間空隙較大，鏡片表面容易藏污納垢，而抗污膜的物質(zhì)分子顆粒小、分子之間空隙小，使鏡片表面更加光潔，增加了防水、防霧、防塵等等防污染等功能。

目前，行業(yè)內(nèi)鏡片鍍膜加工使用的蒸發(fā)鍍膜設備多采用旋轉基片的方式來保證膜層厚度的均勻性。鍍膜過程容易對鏡片及所鍍膜層造成污染，而且膜層厚度均勻不易控制。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型正是針對以上技術問題，提供一種結構簡單、使用方便、可以保證鍍膜均勻的帶感應片的吊裝旋轉真空鍍膜室。

本實用新型通過以下技術方案來實現(xiàn)：

帶感應片的吊裝旋轉真空鍍膜室，包括真空泵、導氣管、反應室、蒸發(fā)源、鍍膜支架、感應片、旋轉臺，其特征在于真空泵通過導氣管與反應室連通，反應室中央位置設置有旋轉臺，蒸發(fā)源為多個，多個蒸發(fā)源設置在旋轉臺上，鍍膜支架設置在反應室頂部下方，鍍膜支架上表面朝上突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架上表面突起的正下方，鍍膜支架頂部位置設置有感應片。鍍膜支架與反應室頂部之間為鋼性連接。鍍膜支架通過三根支柱鋼性連接在反應室頂部下方。鍍膜支架頂部呈圓形。

由于本實用新型所述的帶感應片的吊裝旋轉真空鍍膜室的鍍膜支架上表面朝上方突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架上表面突起的正下方，因此蒸發(fā)源與鍍膜支架上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架上工件的鍍膜速率差，而且鍍膜支架通過三根支柱鋼性連接在反應室頂部下方，提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性，保證了鍍膜的均勻。

本實用新型結構簡單，使用方便。

附圖說明

附圖中，圖1是本實用新型結構示意圖，其中：

1—真空泵，2—導氣管，3—反應室，4—蒸發(fā)源，5—鍍膜支架，6—感應片，7—旋轉臺。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。

帶感應片的吊裝旋轉真空鍍膜室，包括真空泵1、導氣管2、反應室3、蒸發(fā)源4、鍍膜支架5、感應片6、旋轉臺7，其特征在于真空泵1通過導氣管2與反應室3連通，反應室3中央位置設置有旋轉臺7，蒸發(fā)源4為多個，多個蒸發(fā)源4設置在旋轉臺7上，鍍膜支架5設置在反應室3頂部下方，鍍膜支架5上表面朝上突起，蒸發(fā)源4位于鍍膜支架5上表面突起的正下方，鍍膜支架5頂部位置設置有感應片6。鍍膜支架5與反應室3頂部之間為鋼性連接。鍍膜支架5通過三根支柱鋼性連接在反應室3頂部下方。鍍膜支架5頂部呈圓形。

由于本實用新型所述的帶感應片的吊裝旋轉真空鍍膜室的鍍膜支架5上表面朝上方突起，蒸發(fā)源4位于鍍膜支架5上表面突起的正下方，因此蒸發(fā)源4與鍍膜支架5上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架5上工件的鍍膜速率差，而且鍍膜支架5通過三根支柱鋼性連接在反應室3頂部下方，提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性，保證了鍍膜的均勻。

上述只是說明了實用新型的技術構思及特點，其目的是在于讓本領域內(nèi)的普通技術人員能夠了解實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能限制本實用新型的保護范圍。凡是根據(jù)本實用新型內(nèi)容的實質(zhì)所作出的等效的變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍。