技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及帶感應(yīng)片的雙向旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室，包括真空泵、導(dǎo)氣管、反應(yīng)室、蒸發(fā)源、鍍膜支架、感應(yīng)片、旋轉(zhuǎn)臺(tái)、旋轉(zhuǎn)電機(jī)，其特征在于真空泵通過(guò)導(dǎo)氣管與反應(yīng)室連通，反應(yīng)室中央位置設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái)，蒸發(fā)源為多個(gè)，鍍膜支架設(shè)置在旋轉(zhuǎn)電機(jī)下方，旋轉(zhuǎn)電機(jī)設(shè)置在反應(yīng)室頂部，鍍膜支架上表面朝上突起，鍍膜支架頂部位置設(shè)置有感應(yīng)片。由于本實(shí)用新型所述的帶感應(yīng)片的雙向旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室的鍍膜支架上表面朝上方突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架上表面突起的正下方，因此蒸發(fā)源與鍍膜支架上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架上工件的鍍膜速率差，而且鍍膜支架通過(guò)三根支柱鋼性連接在旋轉(zhuǎn)電機(jī)下方，提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性，保證了鍍膜的均勻。

技術(shù)研發(fā)人員：許峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州市博飛光學(xué)有限公司
文檔號(hào)碼：201621233702
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.17
技術(shù)公布日：2017.04.26