一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及研磨拋光技術(shù)領(lǐng)域，特別地，涉及一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的藍(lán)寶石鏡面基片行業(yè)大部份都是采用傳統(tǒng)的雙平面基片，對(duì)這種鏡片的拋光通常采用尺寸大于鏡片的磨盤，對(duì)鏡片單面或雙面的整體同時(shí)進(jìn)行拋光。例如申請(qǐng)?zhí)枮?01420325708.X的中國專利申請(qǐng)，公開了一種藍(lán)寶石拋光用銅盤，在拋光時(shí)，將雙面是平片的藍(lán)寶石鏡片放置在磨盤上的游星輪內(nèi)，對(duì)鏡片單面或雙面進(jìn)行拋光。
[0003]但對(duì)于某些設(shè)計(jì)較為特殊的產(chǎn)品，例如平面呈臺(tái)階狀、內(nèi)凹狀或四周帶有高出鏡面的四壁，對(duì)這種產(chǎn)品的鏡面進(jìn)行拋光時(shí)，則無法采用大于鏡面的磨盤，只能采用面積小于鏡面的磨頭進(jìn)行拋光。在采用小磨頭拋光大鏡面時(shí)，為了保證鏡面邊緣部位能夠拋徹底，通常在設(shè)計(jì)行程時(shí)，會(huì)把磨頭邊緣伸出鏡片的邊緣，以保證鏡片邊緣部位被整個(gè)磨頭研磨。但這種磨頭拋光路徑會(huì)造成磨頭中間部位全部行程大于邊緣部位全部行程，中間部位磨損較為嚴(yán)重，隨著研磨時(shí)間加長，會(huì)造成磨頭中間磨損嚴(yán)重而邊緣磨損相對(duì)較輕，磨頭表面平整度會(huì)下降，進(jìn)一步影響鏡片表面平整度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明目的在于提供一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，以解決現(xiàn)有磨頭的拋光面磨損程度不一的技術(shù)問題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，所述磨頭的拋光端面上設(shè)有空洞；所述空洞的橫截面形狀與磨頭拋光面的橫截面形狀為相似圖形；空洞本身沿著磨頭拋光面的對(duì)稱軸為軸對(duì)稱圖形；
[0006]所述空洞的面積為所述磨頭的拋光端面面積的50%?82%。
[0007]優(yōu)選的，形成所述空洞的磨頭邊緣設(shè)有至少一個(gè)缺口。
[0008]優(yōu)選的，不同磨頭邊緣上的所述缺口為對(duì)稱設(shè)置。
[0009]優(yōu)選的，所述缺口的開口深度⑶為I?10mm，缺口的開口寬度⑶為I?4mm。
[0010]優(yōu)選的，所述缺口的位置在形成所述空洞的直邊邊緣的中間1/3區(qū)域內(nèi)。
[0011]優(yōu)選的，所述磨頭拋光端面粗糙度約為300?500nm。
[0012]優(yōu)選的，所述空洞的洞深為0.5?6.0mm。
[0013]優(yōu)選的，形成所述空洞的磨頭邊緣的形成所述空洞的磨頭邊緣厚度(W)為1.0?3.0mm0
[0014]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0015]采用上述磨頭對(duì)鏡片拋光時(shí)，由于磨頭中間為凹陷設(shè)置，拋光時(shí)只有磨頭邊緣部位與鏡片表面研磨拋光，磨頭伸出鏡片邊緣時(shí)，中間部位沒有與鏡片接觸，則磨頭表面的行程基本一致，磨頭的拋光面的各個(gè)部位磨損程度相同，不影響其表面平整度。采用此拋光磨頭加工出來的表面粗糙度不會(huì)不均衡，拋光效果好，良率高。
[0016]另外，拋光液通過邊緣部位的缺口流入拋光磨頭內(nèi)部，提高拋光效率。
[0017]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外，本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下面將參照?qǐng)D，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
【附圖說明】
[0018]構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0019]圖1是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的表面設(shè)置有空洞的磨頭結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]其中，1、磨頭，2、空洞。
【具體實(shí)施方式】
[0021]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本發(fā)明可以根據(jù)權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0022]參見圖1，一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，磨頭I的拋光端面上設(shè)有空洞2 ;所述空洞2的橫截面形狀與磨頭拋光面的橫截面形狀為相似圖形，空洞本身沿著磨頭拋光面的對(duì)稱軸為軸對(duì)稱圖形。橫截面指水平面橫切空洞所得到的截面。相似圖形是指邊數(shù)相等、對(duì)應(yīng)角相等、對(duì)應(yīng)邊成比例的若干個(gè)圖形，包括多邊形和圓形。例如磨頭拋光面的橫截面形狀為矩形，空洞的橫截面形狀為與之在幾何學(xué)上相似的、對(duì)應(yīng)邊成比例縮小的矩形。
[0023]所述空洞的面積為所述磨頭的拋光端面面積的50%?82%;較大面積的避空范圍不但利于拋光液的流通，并且沒有與鏡片接觸，避免中間磨損。
[0024]形成所述空洞的磨頭邊緣(側(cè)壁)設(shè)有至少一個(gè)缺口，用于拋光液從磨頭外流入磨頭空洞內(nèi)部，提高拋光效率。
[0025]該缺口的開口深度⑶為I?10mm，缺口的開口寬度⑶為I?4mm。缺口的位置在所述空洞直邊的中間1/3區(qū)域內(nèi)，利于拋光液向兩側(cè)均勻擴(kuò)散，不累積在入口處。
[0026]在具體實(shí)施例中，磨頭拋光端面粗糙度約為300?500nm。形成所述空洞的磨頭邊緣厚度(W)為1.0?3.0mm?？斩吹亩瓷羁蔀?.5?6.0mm0
[0027]磨頭拋光的整體厚度為2.0?13.0mm,即磨頭在使用壽命內(nèi)可以使用的全部厚度，從空洞頂端至磨頭底端的距離。在實(shí)際使用中，但磨頭被逐漸磨損，空洞的洞深逐漸減小，可對(duì)磨頭進(jìn)行二次加工，繼續(xù)加深空洞洞深。但如在初次開洞時(shí)，一次加工至最大深度，則洞內(nèi)所需的拋光液過多，不利于拋光加工。
[0028]具體實(shí)施例如下。
[0029]實(shí)施例1、
[0030]產(chǎn)品內(nèi)凹平臺(tái)面長為33.0Omm,寬為27.0Omm,四角圓弧半徑R為2mm ；
[0031]磨頭尺寸為:長22.5mm，寬18.8mm，四角圓弧半徑R與平臺(tái)四角R相同；
[0032]磨頭的拋光端面面積約為22.5X18.8 = 423mm2，
[0033]磨頭研磨拋光端面的平整度為0.01mm±0.005mm ；
[0034]空洞側(cè)壁厚度(W)為2_，則空洞面積約為18.5X14.8 = 273.8mm2,為拋光端面面積的64% ；
[0035]空洞洞深為2mm，缺口位于空洞左側(cè)側(cè)壁的中點(diǎn)上，缺口的開口深度(H)為6mm，開口寬度(D)為2mm;
[0036]投入藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面產(chǎn)品10000PCS，在偏擺拋光機(jī)上使用圖1合成銅磨頭配2-3um金剛石液粗拋藍(lán)寶石產(chǎn)品內(nèi)凹平臺(tái)表面600S后清洗，清洗檢驗(yàn)良品為9118PCS，良率為91.2%，厚度去除量在0.2002?0.0273mm范圍內(nèi)，粗糙度Ra值在1.2?2.15nm范圍內(nèi)，TTV在0.005?0.013mm范圍內(nèi)。
[0037]而使用普通平面磨頭拋光藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面的良率只有70%左右，去除量只有0.007 ?0.018mm, TTV 在 0.015 ?0.03mm。
[0038]在生產(chǎn)藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面產(chǎn)品4000PCS之后，本申請(qǐng)磨頭的各邊緣磨損率差值為0.02mm ;普通磨頭的邊緣與中間部分磨損率差值為0.1_。
[0039]實(shí)施例2、
[0040]產(chǎn)品內(nèi)凹平臺(tái)面長為33.0Omm,寬為27.0Omm,四角圓弧半徑R為2mm ；
[0041]磨頭尺寸為:長22.5mm，寬18.8mm，四角圓弧半徑R與平臺(tái)四角R相同；
[0042]磨頭的拋光端面面積約為22.5X18.8 = 423mm2，
[0043]磨頭研磨拋光端面的平整度為0.01mm±0.005mm ；
[0044]空洞側(cè)壁厚度(W)為3mm，則空洞面積約為16.5X12.8 = 211.2mm2，為拋光端面面積的49.9% ；
[0045]空洞的洞深為4mm，缺口位于空洞左側(cè)側(cè)壁的中點(diǎn)上，缺口的開口深度⑶為4mm，開口寬度⑶為4mm;
[0046]投入藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面產(chǎn)品10000PCS，在偏擺拋光機(jī)上使用圖1合成銅磨頭配2-3um金剛石液粗拋藍(lán)寶石產(chǎn)品內(nèi)凹平臺(tái)表面600S后清洗，清洗檢驗(yàn)良品為9159PCS，良率為91.6%，厚度去除量在0.221?0.0258mm范圍內(nèi)，粗糙度Ra值在1.3?2.1nm范圍內(nèi)，TTV 在 0.007 ?0.012mm 范圍內(nèi)。
[0047]而使用普通平面磨頭拋光藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面的良率只有70%左右，去除量只有0.007 ?0.018mm, TTV 在 0.015 ?0.03mm。
[0048]在生產(chǎn)藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面產(chǎn)品4000PCS之后，本申請(qǐng)磨頭的各邊緣磨損率差值為0.02mm ;普通磨頭的邊緣與中間部分磨損率差值為0.1_。
[0049]實(shí)施例3、
[0050]產(chǎn)品內(nèi)凹平臺(tái)面長為33.0Omm,寬為27.0Omm,四角圓弧半徑R為2mm ；
[0051]磨頭尺寸為:長22.5mm，寬18.8mm，四角圓弧半徑R與平臺(tái)四角R相同；
[0052]磨頭的拋光端面面積約為22.5X18.8 = 423mm2，
[0053]磨頭研磨拋光端面的平整度為0.0Imm±0.005mm ；
[0054]空洞側(cè)壁厚度(W)為1mm，則空洞面積約為20.5X16.8 = 344.4mm2，為拋光端面面積的81.4% ；
[0055]空洞的洞深為6mm，缺口位于空洞左側(cè)側(cè)壁的中點(diǎn)上，缺口的開口深度⑶為8mm，開口寬度⑶為4mm;
[0056]投入藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面產(chǎn)品10000PCS，在偏擺拋光機(jī)上使用圖1合成銅磨頭配2-3um金剛石液粗拋藍(lán)寶石產(chǎn)品內(nèi)凹平臺(tái)表面600S后清洗，清洗檢驗(yàn)良品為9244PCS，良率為92.4%，厚度去除量在0.230?0.0250mm范圍內(nèi)，粗糙度Ra值在1.2?2.2nm范圍內(nèi)，TTV 在 0.009 ?0.014mm 范圍內(nèi)。
[0057]而使用普通平面磨頭拋光藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面的良率只有70%左右，去除量只有0.007 ?0.018mm, TTV 在 0.015 ?0.03mm。
[0058]在生產(chǎn)藍(lán)寶石內(nèi)凹平臺(tái)面產(chǎn)品4000PCS之后，本申請(qǐng)磨頭的各邊緣磨損率差值為0.02mm ;普通磨頭的邊緣與中間部分磨損率差值為0.1_。
[0059]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，其特征在于，所述磨頭的拋光端面上設(shè)有空洞；所述空洞的橫截面形狀與磨頭拋光面的橫截面形狀為相似圖形；空洞本身沿著磨頭拋光面的對(duì)稱軸為軸對(duì)稱圖形； 所述空洞的面積為所述磨頭的拋光端面面積的50%?82%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭，其特征在于，形成所述空洞的磨頭邊緣設(shè)有至少一個(gè)缺口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磨頭，其特征在于，所述缺口的開口深度⑶為I?10mm，缺口的開口寬度⑶為I?4mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磨頭，其特征在于，所述缺口的位置在形成所述空洞的磨頭直邊邊緣的中間1/3區(qū)域內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磨頭，其特征在于，不同磨頭邊緣上的所述缺口為對(duì)稱設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭，其特征在于，所述磨頭拋光端面粗糙度為300?500nmo
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭，其特征在于，所述空洞的洞深為0.5?6.0_。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭，其特征在于，形成所述空洞的磨頭邊緣的厚度(W)為1.0 ?3.0mm0
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，磨頭的拋光端面上設(shè)有空洞；所述空洞的橫截面形狀與磨頭拋光面的橫截面形狀為相似多邊形或同心圓；空洞的面積為所述磨頭的拋光端面面積的50％～82％。采用此拋光磨頭加工出來的表面粗糙度不會(huì)不均衡，拋光效果好，良率高。
【IPC分類】B24D7-18
【公開號(hào)】CN104816259
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510270383
【發(fā)明人】周群飛, 饒橋兵, 余興明
【申請(qǐng)人】藍(lán)思科技股份有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請(qǐng)日】2015年5月25日