一種沉積系統(tǒng)及轉(zhuǎn)子模塊的調(diào)整機構(gòu)和調(diào)整方法
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明是有關(guān)于一種增進轉(zhuǎn)子模塊動平衡的調(diào)整機構(gòu)，特別是有關(guān)于一種增進沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊動平衡的調(diào)整機構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]半導體制作過程中的薄膜沉積制作例如化學氣相沉積過程是在具有噴灑頭(showerhead)的反應室進行。半導體晶圓是置于一具有加熱功能的可旋轉(zhuǎn)晶圓載臺，而噴灑頭則是在噴淋過程中使所需的反應氣體進入反應室內(nèi)以及晶圓載臺上的半導體晶圓之上使用。當例如含有欲沉積材料的前驅(qū)物氣體的反應氣體通過噴灑頭噴淋至半導體晶圓上，在反應室內(nèi)進行化學反應，因此形成薄膜在半導體晶圓上。在化學反應過程中，反應室內(nèi)必須維持高溫以進行化學反應。
[0003]以有機化學氣相制作為例，噴灑頭結(jié)合晶圓承載臺、筒型轉(zhuǎn)子模塊以進行晶體生長制作。III族及V族氣體從噴灑頭噴灑出后在空中進行混合與化學反應，之后繼續(xù)行進至承載臺表面完成所有的化學反應，然后沉積于承載臺表面。在晶體生長制作期間，筒型轉(zhuǎn)子模塊以固定的轉(zhuǎn)速進行旋轉(zhuǎn)，使得III族及V族氣體得以均勻混合，而且承載臺表面的溫度均一性得以達成。
[0004]然而，一般筒型轉(zhuǎn)子模塊是由主軸、轉(zhuǎn)盤、筒型轉(zhuǎn)子及承載臺組成。其中轉(zhuǎn)盤鎖固于主軸上為一組結(jié)構(gòu)，再鎖固于轉(zhuǎn)盤上。承載臺直接置放于筒型轉(zhuǎn)子上。這種以多個零件鎖固組合而成加上為一種支撐在下部、重心在上部的頭重腳輕的結(jié)構(gòu)，將使得筒型轉(zhuǎn)子模塊的偏心或不平衡必然存在。
[0005]因此筒型轉(zhuǎn)子模塊旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速通常必須小于100rpm(60 rpm以下較佳)，以避免筒型轉(zhuǎn)子模塊在高速旋轉(zhuǎn)時發(fā)生搖晃與振動，進而造成旋轉(zhuǎn)的承載臺的水平與搖晃程度超出公差范圍，最終將致使承載臺表面的氣流場與溫度場不均勻現(xiàn)象發(fā)生，因而失去晶圓表面多晶的均勻特性。因此，筒型轉(zhuǎn)子模塊的轉(zhuǎn)速若要提升至300 rpm或更高轉(zhuǎn)速，則必須調(diào)整筒型轉(zhuǎn)子模塊以達動平衡。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提出一種沉積系統(tǒng)及轉(zhuǎn)子模塊的調(diào)整機構(gòu)和調(diào)整方法，其解決的技術(shù)問題為增進沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊的動平衡。
[0007]本發(fā)明解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。
[0008]—種沉積系統(tǒng)，包含:包圍制作空間的反應室、噴灑頭，其更包含:具有調(diào)整機構(gòu)的轉(zhuǎn)子模塊，包含主軸、轉(zhuǎn)盤、至少一個轉(zhuǎn)子、一個鉗環(huán)及一個承載臺，該轉(zhuǎn)盤鎖固于該主軸上，該轉(zhuǎn)子鎖固于該鉗環(huán)上，再鎖固于該轉(zhuǎn)盤上，該承載臺設置于該轉(zhuǎn)子上，該轉(zhuǎn)盤具有以對稱方式排列的多個螺絲孔與多個滑塊，每一該螺絲孔可供鎖入配重物，每一該滑塊可徑向移動至鎖固位置;其中該承載臺位于該噴灑頭下方以及該反應室內(nèi)。
[0009]本發(fā)明解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
[0010]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該沉積系統(tǒng)包含金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)。
[0011]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該轉(zhuǎn)子包含下轉(zhuǎn)子與上轉(zhuǎn)子，該承載臺設置于該上轉(zhuǎn)子上，該下轉(zhuǎn)子鎖固于該鉗環(huán)上，再鎖固于該轉(zhuǎn)盤上。
[0012]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其更包含轉(zhuǎn)子環(huán)，該轉(zhuǎn)子鎖固于該轉(zhuǎn)子環(huán)與該鉗環(huán)上。
[0013]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該鉗環(huán)包含多個以對稱方式排列的螺絲孔，每一該螺絲孔可供鎖入配重物。
[0014]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該轉(zhuǎn)盤更包含多個固定螺絲與多個滑軌槽，每一固定螺絲用于使每一滑塊固定在每一該滑軌槽上，每一該滑軌槽的至少一側(cè)具有位置刻度，每一該滑塊上具有位置標記。
[0015]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該滑塊包含上滑塊與下滑塊在每一該滑軌槽中，每一該上滑塊具有螺絲用通孔，每一該下滑塊具有螺牙孔，該固定螺絲穿越該上滑塊與該下滑塊，該上滑塊與該下滑塊間夾著該滑軌槽的隔層，當該固定螺絲鎖緊時將該上滑塊與該下滑塊固定。
[0016]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該轉(zhuǎn)盤上更包含多個滑軌與多個鎖固螺絲，每一該滑塊位于每一該滑軌上，每一該滑塊上具有螺牙孔以鎖入該鎖固螺絲，該鎖固螺絲鎖緊時將該滑軌與該滑塊逼緊固定，每一該滑軌旁具有位置刻度。
[0017]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該螺絲孔是以圓形對稱方式排列。
[0018]較佳的，上述的沉積系統(tǒng)，其中該滑塊之間的夾角角度呈均勻分布。
[0019]本發(fā)明解決其技術(shù)問題還可以采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。
[0020]—種沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊的調(diào)整機構(gòu)，其包含:轉(zhuǎn)盤，該轉(zhuǎn)盤鎖固于主軸上，該轉(zhuǎn)盤上設置有至少一個轉(zhuǎn)子與一個承載臺，該承載臺設置于該轉(zhuǎn)子上，該轉(zhuǎn)盤具有以對稱方式排列的多個螺絲孔，每一該螺絲孔可供鎖入配重物；多個滑塊，以對稱方式排列于該轉(zhuǎn)盤，每一該滑塊可徑向移動至鎖固位置。
[0021 ]本發(fā)明解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
[0022]較佳的，上述的調(diào)整機構(gòu)，其更包含鉗環(huán)，該轉(zhuǎn)子鎖固于該鉗環(huán)上，再鎖固于該轉(zhuǎn)盤上，該鉗環(huán)包含多個以對稱方式排列的螺絲孔，每一該螺絲孔可供鎖入配重物。
[0023]較佳的，上述的調(diào)整機構(gòu)，其中該轉(zhuǎn)盤更包含多個固定螺絲與多個滑軌槽，每一固定螺絲用于固定每一滑塊在每一該滑軌槽，每一該滑軌槽的至少一側(cè)具有位置刻度，每一該滑塊上具有位置標記。
[0024]較佳的，上述的調(diào)整機構(gòu)，其中該滑塊包含上滑塊與下滑塊在每一該滑軌槽，每一該上滑塊具有螺絲用通孔，每一該下滑塊具有螺牙孔，該固定螺絲穿越該上滑塊與該下滑塊，該上滑塊與該下滑塊間夾著該滑軌槽的隔層，當該固定螺絲鎖緊時將該上滑塊與該下滑塊固定。
[0025]較佳的，上述的調(diào)整機構(gòu)，其中該轉(zhuǎn)盤上更包含多個滑軌與多個鎖固螺絲，每一該滑塊位于每一該滑軌上，每一該滑塊上具有螺牙孔以鎖入該鎖固螺絲，該鎖固螺絲鎖緊時將該滑軌與該滑塊逼緊固定，每一該滑軌旁具有位置刻度。
[0026]較佳的，上述的調(diào)整機構(gòu)，其中每兩個相鄰該滑塊之間的夾角為60度。
[0027]本發(fā)明解決其技術(shù)問題還可以采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。
[0028]—種增進沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊動平衡的調(diào)整方法，其包含:提供具有調(diào)整機構(gòu)的轉(zhuǎn)子模塊，包含主軸、轉(zhuǎn)盤、至少一個轉(zhuǎn)子、一個鉗環(huán)及一個承載臺，該轉(zhuǎn)盤鎖固于該主軸上，該轉(zhuǎn)子鎖固于該鉗環(huán)上，再鎖固于該轉(zhuǎn)盤上，該承載臺設置于該轉(zhuǎn)子上，該轉(zhuǎn)盤具有以對稱方式排列的多個螺絲孔與多個滑塊，每一該螺絲孔可供鎖入配重物，每一該滑塊可徑向移動至鎖固位置轉(zhuǎn)動該轉(zhuǎn)子模塊并測量該轉(zhuǎn)子模塊的動平衡；以及根據(jù)該轉(zhuǎn)子模塊的動平衡測量結(jié)果徑向調(diào)整至少一個該滑塊的一個位置。
[0029]本發(fā)明解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
[0030]較佳的，上述的調(diào)整方法，其更包含根據(jù)該轉(zhuǎn)子模塊的動平衡測量結(jié)果在該轉(zhuǎn)盤的至少一個該螺絲孔內(nèi)旋入該配重物。
[0031 ]較佳的，上述的調(diào)整方法，其中該鉗環(huán)包含多個以對稱方式排列的螺絲孔，每一該螺絲孔可供鎖入配重物。
[0032]較佳的，上述的調(diào)整方法，其更包含根據(jù)該轉(zhuǎn)子模塊的動平衡測量結(jié)果在該鉗環(huán)的至少一個該螺絲孔內(nèi)旋入該配重物。
[0033]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明一種沉積系統(tǒng)及轉(zhuǎn)子模塊的調(diào)整機構(gòu)和調(diào)整方法可達到相當?shù)募夹g(shù)進步性及實用性，并具有產(chǎn)業(yè)上的廣泛利用價值，其至少具有下列優(yōu)點:
[0034]本發(fā)明提出一種沉積系統(tǒng)筒型轉(zhuǎn)子模塊的調(diào)整機構(gòu)，可以增進沉積系統(tǒng)筒型轉(zhuǎn)子模塊的動平衡。
[0035]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。
【附圖說明】
[0036]圖1顯示本發(fā)明一實施例的沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊的剖視圖；
[0037]圖2顯示本發(fā)明一實施例的沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊的主視圖；
[0038]圖3為圖2中轉(zhuǎn)子模塊沿B-B線的剖視圖；
[0039]圖4顯示本發(fā)明一實施例的滑塊調(diào)整機構(gòu)的俯視圖；
[0040]圖5顯示本發(fā)明一實施例的滑塊調(diào)整機構(gòu)沿E-E線的剖視圖；
[0041 ]圖6顯示本發(fā)明另一實施例的滑塊調(diào)整機構(gòu)的俯視圖；
[0042]圖7顯示本發(fā)明另一實施例的滑塊調(diào)整機構(gòu)沿F-F線的剖視圖。
[0043]【主要組件符號說明】
[0044]10:轉(zhuǎn)軸結(jié)構(gòu)110:主軸
[0045]120:轉(zhuǎn)盤 120a:螺絲孔
[0046]120b:滑軌槽120c:位置刻度
[0047]121:上滑塊 121a:位置標記
[0048]122:固定螺絲123:下滑塊
[0049]124:滑軌 124a:位置刻度
[0050]125:滑塊 126:鎖固螺絲[0051 ]20:轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)210:轉(zhuǎn)子環(huán)
[0052]220:鉗環(huán) 220a:螺絲孔
[0053]230:下轉(zhuǎn)子 240:上轉(zhuǎn)子
[0054]300:承載臺
【具體實施方式】
[0055]為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定的目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的一種沉積系統(tǒng)及轉(zhuǎn)子模塊的調(diào)整機構(gòu)和調(diào)整方法其【具體實施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。
[0056]本發(fā)明的一實施例提供一種具有調(diào)整機構(gòu)的沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊。必須了解的是本發(fā)明的具有調(diào)整機構(gòu)的轉(zhuǎn)子模塊可用于任何具有包圍一制作空間的反應室的沉積系統(tǒng)，因此在此處將不會特別描述沉積系統(tǒng)與其反應室的特定的實例。沉積系統(tǒng)可進一步包含其他對于本領域技術(shù)人員而言所需的顯而易見的組件。不過與轉(zhuǎn)子模塊相關(guān)的組件將于以下的敘述中提及。
[0057]圖1顯示本發(fā)明一實施例的沉積系統(tǒng)轉(zhuǎn)子模塊的截面圖。沉積系統(tǒng)的轉(zhuǎn)子模塊包含主軸110、轉(zhuǎn)盤(rotor plate) 120、轉(zhuǎn)子環(huán)(rotor ring)210、鉗環(huán)(clamping ring)220、下轉(zhuǎn)子(lower rotor)230、上轉(zhuǎn)子(upper rotor)240及承載臺(8118。6口1:01')300。轉(zhuǎn)盤120鎖固于主軸110上，構(gòu)成一組轉(zhuǎn)軸結(jié)構(gòu)10。下轉(zhuǎn)子230、上轉(zhuǎn)子240鎖固于轉(zhuǎn)子環(huán)210、鉗環(huán)220上成為一組轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)20，再鎖固于轉(zhuǎn)