靶材加工方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，具體涉及一種靶材加工方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造中常用到減射沉積(Sputtering Deposit1n, SD)工藝，這種工藝用于將金屬濺射到襯底上以粘貼薄膜。這種工藝是物理氣相沉積(Physical VaporDeposit1n, PVD)中的一種,通過高能量粒子轟擊祀材，使被轟擊的祀材原子沉積在待沉積的基底表面上粘貼薄膜。所述高能量粒子工藝是通過專門的濺射設(shè)備來完成的。
[0003]由于在濺射過程中，靶材的邊緣處上會(huì)留有濺射產(chǎn)生的顆粒物，這些顆粒物逐漸積累變成沉積物。沉積物在靶材上聚集到一定程度后會(huì)發(fā)生剝落現(xiàn)象(peeling)，剝落的沉積物不僅會(huì)影響濺射環(huán)境，還容易掉落在產(chǎn)品表面上，導(dǎo)致產(chǎn)品有缺陷甚至報(bào)廢。為此，現(xiàn)有技術(shù)會(huì)對(duì)靶材的部分非濺射區(qū)域進(jìn)行噴砂處理，這樣經(jīng)過噴砂的部分表面變得粗糙，進(jìn)而變得容易吸附沉積物，減少剝落現(xiàn)象發(fā)生的幾率。
[0004]但是，現(xiàn)有技術(shù)在對(duì)靶材進(jìn)行噴砂的同時(shí)，很容易損傷到靶材的其他不需要噴砂的表面，這會(huì)對(duì)靶材的成品率造成影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材加工方法，以較好的對(duì)靶材的部分表面進(jìn)行噴砂處理，同時(shí)不影響到靶材的其他不需要噴砂的部分。
[0006]為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材加工方法，包括:
[0007]提供靶材，所述靶材包括待噴砂區(qū)域以及不需要噴砂的保留區(qū)域；
[0008]至少在所述保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域的部分，以及部分待噴砂區(qū)域粘貼保護(hù)層；
[0009]去除位于待噴砂區(qū)域的保護(hù)層，以完全露出靶材的待噴砂區(qū)域；
[0010]對(duì)靶材的待噴砂區(qū)域進(jìn)行噴砂處理；
[0011]在噴砂處理的步驟之后，去除靶材上剩余的保護(hù)層。
[0012]可選的，粘貼保護(hù)層的步驟包括，在靶材表面覆蓋膠帶。
[0013]可選的，所述膠帶為聚氯乙烯膠帶、聚酯薄膜膠帶、鐵氟龍膠帶或者聚丙烯薄膜膠帶。
[0014]可選的,粘貼保護(hù)層的步驟包括:粘貼厚度在0.12mm?0.15mm范圍內(nèi)的膠帶。
[0015]可選的，提供靶材的步驟包括:提供非圓形靶材；去除位于待噴砂區(qū)域的保護(hù)層的步驟包括:采用銑削的方式去除所述待噴砂區(qū)域的保護(hù)層。
[0016]可選的，提供靶材的步驟包括:提供圓形靶材；
[0017]去除位于待噴砂區(qū)域的保護(hù)層的步驟包括:采用車削的方式去除所述待噴砂區(qū)域的保護(hù)層。
[0018]可選的，去除位于待噴砂區(qū)域的保護(hù)層的步驟包括:在車刀與粘貼有保護(hù)層的靶材表面之間設(shè)置不大于保護(hù)層厚度的間隙。
[0019]可選的，使所述間隙在0.02mm?0.04mm的范圍內(nèi)。
[0020]可選的，采用車削的方式去除所述待噴砂區(qū)域的保護(hù)層的步驟還包括:使車削機(jī)床的轉(zhuǎn)速在250?550轉(zhuǎn)/分鐘的范圍內(nèi)，車削進(jìn)給量在每轉(zhuǎn)0.015?0.025mm的范圍內(nèi)。
[0021]可選的，去除位于待噴砂區(qū)域的保護(hù)層的步驟之后，進(jìn)行噴砂處理的步驟之前，所述靶材加工方法還包括:采用刀片對(duì)于靶材待噴砂區(qū)域表面進(jìn)行去膠處理。
[0022]可選的，粘貼保護(hù)層的步驟之后，進(jìn)行噴砂處理的步驟之前，所述靶材加工方法還包括:采用蓋板對(duì)保留區(qū)域未粘貼保護(hù)層的部分進(jìn)行遮擋。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0024]至少在所述靶材保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域的部分，以及部分待噴砂區(qū)域粘貼保護(hù)層有利于提升在靶材上覆蓋保護(hù)層的效率，因?yàn)樵趯?shí)際操作中很難實(shí)現(xiàn)僅僅在靶材保留區(qū)域覆蓋保護(hù)層，因此在保留區(qū)域均覆蓋保護(hù)層的同時(shí)，覆蓋的保護(hù)層容易有一部分延伸到靶材的待噴砂區(qū)域；在這之后，再去除位于靶材的待噴砂區(qū)域的保護(hù)層，這樣將靶材的待噴砂區(qū)域完全露出以便后續(xù)進(jìn)行噴砂處理。此時(shí)，由于保護(hù)層粘貼在靶材保留區(qū)域的表面，靶材與保護(hù)層之間沒有間隙，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)采用擋板遮擋保留區(qū)域的方式，本發(fā)明在噴砂處理時(shí)，噴砂顆粒不會(huì)進(jìn)入到靶材保留區(qū)域表面與保護(hù)層之間，進(jìn)而很好的保護(hù)了靶材的保留區(qū)域，提升了靶材的良率。
[0025]進(jìn)一步，在靶材表面覆蓋膠帶，也就是說，采用膠帶作為保護(hù)層可以進(jìn)一步避免靶材的保留區(qū)域不受影響，因?yàn)槟z帶材質(zhì)柔軟，相比現(xiàn)有技術(shù)的硬質(zhì)擋板來說，基本不會(huì)劃傷革巴材表面。
【附圖說明】
[0026]圖1至圖6是本發(fā)明靶材加工方法一實(shí)施例中各個(gè)步驟的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]現(xiàn)有技術(shù)在對(duì)靶材進(jìn)行噴砂的同時(shí)，很容易損傷到靶材的其他不需要噴砂的表面，這會(huì)對(duì)靶材的成品率造成影響。
[0028]具體來說，在現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)靶材的噴砂處理非常繁瑣，通常是先大致對(duì)靶材的待噴砂區(qū)域進(jìn)行噴砂，這個(gè)過程容易導(dǎo)致一些不需要噴砂的保留區(qū)域也被噴砂；然后通過車削工藝對(duì)靶材的保留區(qū)域上的噴砂表面進(jìn)行平整，這不僅會(huì)導(dǎo)致被車削的表面與其他表面之間產(chǎn)生臺(tái)階面，且車削后的靶材表面會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力層，這不利于后續(xù)使用時(shí)對(duì)濺射沉積物的吸附，會(huì)增加發(fā)生剝落現(xiàn)象(peeling)的幾率。此外，車削還可能導(dǎo)致車削細(xì)屑劃傷噴砂表面等種種問題。
[0029]另一種方法是，在對(duì)靶材進(jìn)行噴砂處理時(shí)，不需要噴砂的保留區(qū)域一般采用擋板做臨時(shí)掩護(hù)，然后對(duì)靶材從擋板露出的區(qū)域進(jìn)行噴砂處理。但是，這種擋板一般是硬質(zhì)的，很容易劃傷靶材的表面，對(duì)靶材的良率甚至成品率造成影響；另一方面，擋板需要根據(jù)不同尺寸形狀的靶材定制，費(fèi)時(shí)費(fèi)力；此外，硬質(zhì)擋板如果過分貼合靶材表面，則容易造成上述的劃傷靶材表面的問題，如果和靶材表面保持一定距離，則在噴砂處理時(shí)，噴砂顆粒容易進(jìn)入靶材表面與擋板之間的間隙，造成靶材的保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域之間的邊界處被噴砂顆粒劃傷。
[0030]為此，本發(fā)明提供一種靶材加工方法，包括以下步驟:
[0031]提供靶材，所述靶材包括待噴砂區(qū)域以及不需要噴砂的保留區(qū)域；
[0032]至少在所述保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域的部分，以及部分待噴砂區(qū)域粘貼保護(hù)層；
[0033]去除位于待噴砂區(qū)域的保護(hù)層，以完全露出靶材的待噴砂區(qū)域；
[0034]對(duì)靶材的待噴砂區(qū)域進(jìn)行噴砂處理；
[0035]通過上述步驟，有利于提升在靶材上覆蓋保護(hù)層的效率，因?yàn)樵趯?shí)際操作中很難實(shí)現(xiàn)僅僅在靶材保留區(qū)域覆蓋保護(hù)層，因此在保留區(qū)域均覆蓋保護(hù)層的同時(shí)，覆蓋的保護(hù)層很容易有一部分延伸到靶材的待噴砂區(qū)域；在這之后，再去除位于靶材的待噴砂區(qū)域的保護(hù)層，這樣將靶材的待噴砂區(qū)域完全露出以便后續(xù)進(jìn)行噴砂處理。此時(shí)，由于保護(hù)層粘貼在靶材保留區(qū)域的表面，靶材與保護(hù)層之間沒有間隙，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)采用擋板遮擋保留區(qū)域的方式，本發(fā)明在噴砂處理時(shí)，噴砂顆粒不會(huì)進(jìn)入到靶材保留區(qū)域表面與保護(hù)層之間，進(jìn)而很好的保護(hù)了靶材的保留區(qū)域，提升靶材的良率。
[0036]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說明。
[0037]首先結(jié)合參考圖1和圖2，圖1為本發(fā)明靶材加工方法在本實(shí)施例中靶材100的結(jié)構(gòu)不意圖，圖2為圖1沿A-A的劑視圖。
[0038]在本實(shí)施例中,所述祀材100為圓形革El材。但是本發(fā)明對(duì)所述革El材100是否為圓形不作限定，在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，所述靶材100也可以是其他形狀。
[0039]所述靶材100包括濺射靶材110和固定所述濺射靶材110的背板120。濺射靶材110的表面111為靶材100的濺射面。濺射靶材110和背板120之間的結(jié)構(gòu)關(guān)系為現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明對(duì)此不作贅述。
[0040]此外，本實(shí)施例中所述靶材100為鈦靶材。但是在實(shí)際操作中，所述靶材100也可以是鉭、銅等其他材料的靶材，本發(fā)明對(duì)此不作限定。
[0041]靶材100包括待噴砂區(qū)域55以及不需要噴砂的保留區(qū)域(除了噴砂區(qū)域55以外的區(qū)域)，在噴砂處理之前，需要在靶材100的保留區(qū)域表面粘貼保護(hù)層50，以在噴砂處理時(shí)保護(hù)保留區(qū)域的靶材100表面不受噴砂處理影響。
[0042]參考圖3并將結(jié)合參考圖4，其中圖4為圖2中虛線框X的局部放大圖。至少在所述靶材100保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域55的部分，以及部分待噴砂區(qū)域55粘貼保護(hù)層50。具體的，在本實(shí)施例中，可以僅在靶材100保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域55的部分粘貼保護(hù)層50，對(duì)于靶材100保留區(qū)域剩余的部分，也就是遠(yuǎn)離待噴砂區(qū)域55的部分，可以采用擋板(參考圖3中虛線框17)進(jìn)行遮擋。
[0043]僅在靶材100保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域55的部分粘貼保護(hù)層50有利于提高生產(chǎn)效率，因?yàn)榘胁?00保留區(qū)域靠近待噴砂區(qū)域55的部分最容易受到噴砂影響，而保留區(qū)域遠(yuǎn)離待噴砂區(qū)域55的部分則比較不容易受到噴砂處理的影響，僅在保