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一種真空蒸發(fā)源裝置及真空蒸鍍?cè)O(shè)備的制造方法

文檔序號(hào):10417058閱讀:792來(lái)源:國(guó)知局
一種真空蒸發(fā)源裝置及真空蒸鍍?cè)O(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種真空蒸發(fā)源裝置及真空蒸鍍?cè)O(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,在現(xiàn)代工業(yè)和科研工作中,真空蒸鍍工藝已經(jīng)廣泛用于電子器件的鍍膜過(guò)程中。真空蒸鍍的原理是將待蒸鍍的源材料放置于真空蒸發(fā)源裝置中,通過(guò)電阻加熱或電子束加熱使源材料加熱到一定溫度發(fā)生蒸發(fā)或升華,氣化后的源材料凝聚沉積在待鍍膜的基板表面形成薄膜。
[0003]然而,在蒸鍍過(guò)程中控制蒸鍍?cè)床牧系恼舭l(fā)速率是一個(gè)難點(diǎn),現(xiàn)有技術(shù)中,一般是通過(guò)控制蒸發(fā)源的溫度或待蒸鍍基板的溫度來(lái)控制蒸發(fā)速率。但是,在特定的工藝中,待蒸鍍基板的溫度是固定的,這樣就只能通過(guò)改變蒸發(fā)源的溫度來(lái)改變蒸發(fā)速率,而通過(guò)改變蒸發(fā)源的溫度來(lái)改變蒸發(fā)速率也有一定的局限性。例如:蒸發(fā)源溫度的變化會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)床牧系南暮涂刂朴绊戄^大,造成蒸發(fā)源材料的浪費(fèi);再者,改變蒸發(fā)源溫度會(huì)影響后續(xù)工作的繼續(xù),特別是升高蒸發(fā)源的溫度一段時(shí)間后,當(dāng)后續(xù)工作需要降低蒸發(fā)源溫度時(shí),蒸發(fā)速率與蒸發(fā)源溫度的對(duì)應(yīng)關(guān)系便會(huì)被改變,因而使得蒸鍍?cè)床牧显谳^高溫度下會(huì)有較高的消耗。
[0004]在此基礎(chǔ)上,在蒸鍍過(guò)程中,蒸鍍坩禍的開口可能會(huì)發(fā)生堵塞現(xiàn)象,從而也會(huì)影響蒸鍍過(guò)程的進(jìn)行。目前通常采用兩種方法解決蒸鍍坩禍的開口堵塞的問(wèn)題。第一種是提高蒸發(fā)溫度使蒸發(fā)的源材料增多,爆沖出蒸鍍坩禍的開口;第二種是對(duì)蒸發(fā)源進(jìn)行開腔處理。但是,這兩種方法都對(duì)蒸發(fā)過(guò)程的進(jìn)行有較大的影響。第一種方法使蒸發(fā)的源材料爆沖出蒸鍍坩禍的開口,不僅會(huì)對(duì)蒸發(fā)源材料造成不可控制的損失,而且也會(huì)增加蒸發(fā)過(guò)程的控制難度;而第二種方法需要停止作業(yè),開啟蒸發(fā)源的腔室,影響蒸鍍過(guò)程的進(jìn)行。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種真空蒸發(fā)源裝置及真空蒸鍍?cè)O(shè)備,可有效控制蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率且能夠解決蒸鍍過(guò)程中蒸鍍坩禍的開口堵塞的問(wèn)題。
[0006]為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]—方面,提供一種真空蒸發(fā)源裝置,包括蒸鍍坩禍、開口可變式蓋板、控制結(jié)構(gòu)。所述蒸鍍坩禍用于放置待蒸鍍的源材料;所述開口可變式蓋板設(shè)置于所述蒸鍍坩禍的開口處,用于調(diào)節(jié)所述蒸鍍坩禍的開口的大小;所述控制結(jié)構(gòu)與所述開口可變式蓋板相連,用于控制所述開口可變式蓋板的開口大小;其中,所述開口可變式蓋板的材料為耐高溫材料。
[0008]優(yōu)選的,所述蒸鍍坩禍的開口與所述開口可變式蓋板的開口形狀一致。
[0009]優(yōu)選的,所述開口可變式蓋板采用可變光闌原理制成。
[0010]進(jìn)一步優(yōu)選的,所述開口可變式蓋板包括多個(gè)葉片、活動(dòng)環(huán)及固定環(huán);每個(gè)所述葉片的兩端均設(shè)置有活動(dòng)銷釘和固定銷釘,所述活動(dòng)銷釘和所述固定銷釘分設(shè)在所述葉片的相對(duì)面;每個(gè)所述葉片的一端通過(guò)所述固定銷釘固定在所述固定環(huán)上,另一端通過(guò)所述活動(dòng)銷固定在所述活動(dòng)環(huán)上;其中,所述活動(dòng)環(huán)可相對(duì)所述固定環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0011]優(yōu)選的,所述控制結(jié)構(gòu)包括開口控制桿;所述開口控制桿與所述開口可變式蓋板相連,用于控制所述開口可變式蓋板的開口大小。
[0012]進(jìn)一步優(yōu)選的,所述控制結(jié)構(gòu)還包括支撐柱,所述支撐柱上設(shè)有通孔,所述開口控制桿穿過(guò)所述通孔;所述支撐柱用于支撐所述開口控制桿。
[0013]優(yōu)選的,所述蒸鍍坩禍為線源蒸鍍坩禍或面源蒸鍍坩禍。
[0014]另一方面,提供一種真空蒸鍍?cè)O(shè)備,包括真空蒸鍍腔室,還包括設(shè)置在所述真空蒸鍍腔室中的上述的真空蒸發(fā)源裝置。
[0015]優(yōu)選的,所述真空蒸鍍?cè)O(shè)備還包括驅(qū)動(dòng)裝置和控制裝置;所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述真空蒸發(fā)源裝置中的開口控制桿相連,用于驅(qū)動(dòng)所述開口控制桿轉(zhuǎn)動(dòng),以控制所述開口可變式蓋板的開口大小;所述控制裝置與所述驅(qū)動(dòng)裝置相連,用于控制所述驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)開口控制桿轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0016]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種真空蒸發(fā)源裝置及真空蒸鍍?cè)O(shè)備,通過(guò)在蒸鍍坩禍的開口處設(shè)置開口可變式蓋板,一方面,通過(guò)控制結(jié)構(gòu)控制開口可變式蓋板的開口大小,從而可以有效地控制蒸鍍?cè)床牧系恼舭l(fā)速率,避免了現(xiàn)有技術(shù)中控制蒸發(fā)源的溫度或待蒸鍍基板的溫度對(duì)蒸鍍?cè)床牧舷牡膯?wèn)題;另一方面,當(dāng)蒸鍍坩禍的開口發(fā)生堵塞時(shí),可通過(guò)控制結(jié)構(gòu)控制開口可變式蓋板的開口大小發(fā)生變化,便可以解決蒸鍍坩禍的開口堵塞的問(wèn)題,從而避免了現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)蒸鍍?cè)床牧系谋瑳_或者停止作業(yè)開啟腔室而導(dǎo)致的問(wèn)題;再一方面,當(dāng)控制結(jié)構(gòu)控制開口可變式蓋板的開口關(guān)閉時(shí),開口可變式蓋板還可以代替擋板使用,從而簡(jiǎn)化了蒸發(fā)源裝置的結(jié)構(gòu)。
【附圖說(shuō)明】
[0017]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0018]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種真空蒸發(fā)源裝置的結(jié)構(gòu)示意圖一;
[0019]圖2(a)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種真空蒸發(fā)源裝置中開口可變式蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0020]圖2(b)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種開口可變式蓋板中葉片的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0021]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種真空蒸發(fā)源裝置的結(jié)構(gòu)示意圖二;
[0022]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種真空蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]10-蒸鍍坩禍;20-開口可變式蓋板;201-葉片;202-活動(dòng)環(huán);203-固定環(huán);204-活動(dòng)銷釘;205-固定銷釘;30-控制結(jié)構(gòu);301-開口控制桿;302-支撐柱;40-真空蒸鍍腔室;50-驅(qū)動(dòng)裝置;60-控制裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0025]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種真空蒸發(fā)源裝置,如圖1所示,包括蒸鍍坩禍10、開口可變式蓋板20、控制結(jié)構(gòu)30。
[0026]蒸鍍坩禍10用于放置待蒸鍍的源材料;開口可變式蓋板20設(shè)置于蒸鍍坩禍10的開口處,用于調(diào)節(jié)蒸鍍坩禍10的開口的大小;控制結(jié)構(gòu)30與開口可變式蓋板20相連,用于控制開口可變式蓋板20的開口大小。其中,開口可變式蓋板20的材料為耐高溫材料。
[0027]需要說(shuō)明的是,第一,對(duì)于蒸鍍坩禍10的材料,應(yīng)保證蒸鍍坩禍10的熔點(diǎn)大于蒸鍍?cè)床牧系娜埸c(diǎn),且蒸鍍坩禍10不會(huì)影響蒸鍍?cè)床牧?。此處的蒸鍍坩?0,可以是石墨蒸鍍坩禍,當(dāng)然也可以是金屬蒸鍍坩禍。其中,金屬蒸鍍坩禍可以是蒸鍍鉬坩禍、蒸鍍鎢坩禍等。
[0028]對(duì)于蒸鍍坩禍10的類型,可以為線源蒸鍍坩禍,或面源蒸鍍坩禍。
[0029]第二,對(duì)于開口可變式蓋板20的結(jié)構(gòu),以能調(diào)節(jié)蒸鍍坩禍10的開口的大小為準(zhǔn)。此處,為了避免蒸鍍坩禍10在蒸鍍?cè)床牧蠒r(shí),溫度較高對(duì)開口可變式蓋板20的影響,因此,開口可變式蓋板20的材料為耐高溫材料,例如,陶瓷、耐高溫金屬等。其中,耐高溫金屬可以是金屬鉭、鈦或鉬等。
[0030]對(duì)于開口可變式蓋板20的大小,以能放置在蒸鍍坩禍10的開口處且與蒸鍍坩禍10固定為準(zhǔn),以保證蒸鍍?cè)床牧现粡拈_口可變式蓋板20的開口處蒸發(fā)出來(lái)。
[0031]第三,對(duì)于控制結(jié)構(gòu)30的具體結(jié)構(gòu),以能控制開口可變式蓋板20的開口大小發(fā)生改變?yōu)闇?zhǔn)。
[0032]此處,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白,控制結(jié)構(gòu)30不僅能使開口可變式蓋板20的開口變大或變小,還可以使開口可變式蓋板20的開口關(guān)閉。當(dāng)開口可變式蓋板20的開口關(guān)閉時(shí),此時(shí)開口可變式蓋板20可以相當(dāng)于一個(gè)擋板。
[0033]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種真空蒸發(fā)源裝置,通過(guò)在蒸鍍坩禍10的開口處設(shè)置開口可變式蓋板20,一方面,通過(guò)控制結(jié)構(gòu)30控制開口可變式蓋板20的開口大小,從而可以有效地控制蒸鍍?cè)床牧系恼舭l(fā)速率,避免了現(xiàn)有技術(shù)中控制蒸發(fā)源的溫度或待蒸鍍基板的溫度對(duì)蒸鍍?cè)床牧舷牡膯?wèn)題;另一方面,當(dāng)蒸鍍坩禍10的開口發(fā)生堵塞時(shí),可通過(guò)控制結(jié)構(gòu)30控制開口可變式蓋板20的開口大小發(fā)生變化,便可以解決蒸鍍坩禍的開口堵塞的問(wèn)題,從而避免了現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)蒸鍍?cè)床牧系谋瑳_或者停止作業(yè)開啟腔室而導(dǎo)致的問(wèn)題;再一方面,當(dāng)控制結(jié)構(gòu)30控制開口可變式蓋板20的開口關(guān)閉時(shí),開口可變式蓋板20還可以代替擋板使用,從而簡(jiǎn)化了蒸發(fā)源裝置的結(jié)構(gòu)。
[0034]優(yōu)選的,蒸鍍坩禍10的開口與開口可變式蓋板20的開口形狀一致。這樣,即使改變開口可變式蓋板20的開口大小,也不會(huì)對(duì)蒸鍍坩禍10的開口形狀進(jìn)行改變,從而在改變開口過(guò)程中,對(duì)蒸發(fā)溫度分布的影響可以達(dá)到最小。
[0035]示例的,蒸鍍坩禍10的開口形狀為圓形,開口可變式蓋板20的開口也為圓形;蒸鍍坩禍10的開口形狀為方形,開口可變式蓋板20的開口也為方形。
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