1.一種超平滑光學(xué)膜用開口母粒，其特征在于，制備原料包括以下重量份數(shù)的原料：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開口母粒，其特征在于，制備原料包括以下重量份數(shù)的原料：
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的開口母粒，其特征在于，制備原料包括以下重量份數(shù)的原料：
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的開口母粒，其特征在于，所述改性開口劑粉體采用的開口劑粉體為二氧化硅和/或碳酸鈣，所述開口劑粉體的平均粒徑為30nm～80nm；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的開口母粒，其特征在于，所述改性開口劑粉體的制備步驟為：向溶劑中加入開口劑粉體和改性劑，攪拌后超聲處理，然后蒸除溶劑，之后研磨篩分，即得到改性開口劑粉體；
6.一種權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的開口母粒的制備方法，其特征在于，采用雙螺桿混煉方法制備，包括步驟：
7.權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的超平滑光學(xué)膜用開口母粒在制備光學(xué)薄膜中的應(yīng)用。
8.一種光學(xué)薄膜，其特征在于，所述光學(xué)薄膜為aba三層共擠結(jié)構(gòu)，包括芯層和設(shè)置在芯層兩側(cè)的表層；
9.權(quán)利要求8所述的光學(xué)薄膜的制備方法，其特征在于，包括步驟：
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)薄膜的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述輔擠出機(jī)、主擠出機(jī)的溫度均設(shè)定為270～290℃，主擠出機(jī)的轉(zhuǎn)速為170～190rpm，輔擠出機(jī)的轉(zhuǎn)速為50～90rpm；