1.一種等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，所述發(fā)生容器（10）具有用于產(chǎn)生等離子體的原子氣室（11），其特征在于，所述清洗系統(tǒng)包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)電極（230）以所述發(fā)生容器（10）的軸線為中心軸，環(huán)繞于所述原子氣室（11）并呈封閉的圓環(huán)形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，沿所述發(fā)生容器（10）的軸向，所述感應(yīng)電極（230）的尺寸與所述發(fā)生容器（10）的尺寸的比值為0.5-1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)電極（230）與所述發(fā)生容器（10）嵌套固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述主管（100）具有多個接口（110），每個接口（110）均適于連接發(fā)生容器（10），
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，多個所述接口（110）包括沿所述主管（100）的周向間隔分布的至少兩個接口組（120），至少一個所述接口組（120）包括沿所述主管（100）的軸向間隔分布的若干個所述接口（110）。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述電源裝置（200）還包括：電極板（250），所述電極板（250）分別與所述射頻電源（220）和多個所述感應(yīng)電極（230）電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述電源裝置（200）還包括：射頻電纜（260），所述射頻電源（220）通過所述射頻電纜（260）與所述電極板（250）連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，與所述電極板（250）電連接的多個所述感應(yīng)電極（230）的結(jié)構(gòu)和尺寸相同。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述接地電極（240）具有相對的兩個夾爪（241），兩個所述夾爪（241）共同夾持所述主管（100）。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述接地電極（240）與所述主管（100）可伐封接。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)電極（230）為無氧銅件；和/或，所述接地電極（240）為無氧銅件；和/或，所述主管（100）為玻璃管。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述壓力檢測裝置（500）包括薄膜壓力規(guī)（510），所述壓力檢測裝置（500）與所述供氣模塊（300）和所述主管（100）之間的管路連接。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述供氣模塊（300）還包括：氣體流量計（330），設(shè)于所述供氣閥（320）的下游側(cè)，用于計量所述高純氣體的流量。
15.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述真空發(fā)生模塊（400）還包括：電磁閥（420）和流量調(diào)節(jié)閥（430），電磁閥（420）和流量調(diào)節(jié)閥（430）并聯(lián)布置于所述真空泵（410）和所述主管（100）之間的管路上。
16.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述真空發(fā)生模塊（400）還包括：真空檢測裝置（440），設(shè)于所述真空泵（410）和所述主管（100）之間的管路上。
17.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的等離子體發(fā)生容器的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述高純氣體為稀有氣體。
18.一種等離子體發(fā)生容器（10）的清洗方法，其特征在于，包括以下步驟：
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的等離子體發(fā)生容器（10）的清洗方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)真空度小于10-3pa；和/或，所述預(yù)設(shè)發(fā)生壓力為30?pa-50pa。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的等離子體發(fā)生容器（10）的清洗方法，其特征在于，所述向所述發(fā)生容器（10）內(nèi)充入高純氣體至預(yù)設(shè)發(fā)生壓力，包括：
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的等離子體發(fā)生容器（10）的清洗方法，其特征在于，所述控制所述電源裝置（200）工作，包括以下步驟：