本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工序用汽化裝置，更詳細(xì)地涉及可使液體源更有效地汽化的半導(dǎo)體工序用汽化裝置。

背景技術(shù)：

1、半導(dǎo)體工序中有形成薄膜的沉積工序，沉積工序中向腔室供給成為薄膜的材料的源氣體，使其沉積于晶片表面。

2、但是當(dāng)源物質(zhì)在常溫下處于液體狀態(tài)時(shí)，需要使其汽化成氣體狀態(tài)，此時(shí)利用汽化裝置。

3、如圖1所示，以往的汽化裝置1將液體源2與載氣3一同通過噴嘴4噴射進(jìn)行霧化(atomization)，之后使其通過汽化腔室(未圖示)加熱并汽化。

4、但是，如上所述，當(dāng)借助上述載氣3壓力霧化上述液體源2時(shí)，粒子(液滴)的大小大，粒子的均勻度差異也大，存在汽化效率降低的問題。

5、要汽化的上述液體源2的流量越增加，這種問題越更加嚴(yán)重，因而存在上述汽化裝置1的高流量對應(yīng)(處理)性能下降的問題。

6、并且，上述以往的汽化裝置1的上述噴嘴4的吐出口直徑為0.2mm左右，非常小，因而產(chǎn)生吐出口被大粘度的上述液體源2堵塞的現(xiàn)象(clogging?issue)的可能性非常高。

7、現(xiàn)有技術(shù)為發(fā)明人為了導(dǎo)出本發(fā)明而擁有，或在導(dǎo)出本發(fā)明的過程中得到的技術(shù)信息，不一定是在申請本發(fā)明之前向普通公眾公開的公知技術(shù)。

8、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

9、專利文獻(xiàn)

10、(專利文獻(xiàn)1)韓國授權(quán)專利公報(bào)第10-2124290號(2020年6月11日授權(quán))

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、技術(shù)問題

2、在解決上述問題的過程中，本發(fā)明的目的在于，提供可減小霧化粒子的大小及均勻度差異，提高汽化效率，有利于高流量對應(yīng)，防止吐出孔堵塞的半導(dǎo)體工序用汽化裝置。

3、并且，本發(fā)明的另一目的在于，提供可提高霧化效率，減少液體源使用量的半導(dǎo)體工序用汽化裝置。

4、并且，本發(fā)明的目的在于，提供可增加向霧化的源粒子的傳熱效率和傳熱量，提高汽化性能，進(jìn)行高流量處理的半導(dǎo)體工序用汽化裝置。

5、本發(fā)明所要解決的問題并不局限于以上所提及的問題，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可通過以下描述明確理解未提及的其他所要解決的技術(shù)問題。

6、解決問題的方案

7、根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的半導(dǎo)體工序用汽化裝置包括：第一霧化部，利用超聲波使液體源振動(dòng)來第一次霧化；第二霧化部，與上述第一霧化部相連接，以載氣壓力向吐出口(孔板)排出從上述第一霧化部流入的一次霧化粒子來第二次霧化；以及汽化部，與上述第二霧化部相連接，從上述第二霧化部流入的二次霧化粒子通過其中并汽化。

8、在上述第一霧化部的內(nèi)部形成有使液體源流入的第一霧化空間，上述第一霧化空間具有超聲波振動(dòng)器，上述超聲波振動(dòng)器與供給高頻電力的超聲波控制器相連接。

9、上述超聲波控制器具有高頻電力振蕩功能，能夠調(diào)節(jié)供給電力的功率，調(diào)節(jié)上述超聲波振動(dòng)器中產(chǎn)生的超聲波的頻率。

10、上述超聲波控制器具有根據(jù)上述液體源的流型及流量找出最佳的振動(dòng)頻率的頻率掃描功能，調(diào)節(jié)供給電力的功率以上述最佳的振動(dòng)頻率產(chǎn)生超聲波。

11、上述第二霧化部包括：混合空間，從上述第一霧化部流入的一次霧化粒子和從外部流入的載氣進(jìn)行混合；上述吐出口，形成于上述混合空間的一側(cè)端部；以及第二霧化空間，形成于上述吐出口的另一側(cè)部。

12、上述第二霧化部形成有向上述混合空間的切線方向貫通上述第二霧化部的切線流路，上述切線流路與載氣流入管相連接。

13、上述汽化部呈圓形管形狀，內(nèi)部插入有具有與上述汽化部的內(nèi)徑相同的直徑的圓柱形的流路結(jié)構(gòu)物。

14、在上述汽化部的外側(cè)設(shè)有外部加熱器，在上述汽化部的內(nèi)側(cè)設(shè)有內(nèi)部加熱器。

15、上述內(nèi)部加熱器可插入設(shè)置于上述流路結(jié)構(gòu)物的內(nèi)部。

16、在上述流路結(jié)構(gòu)物的外周面形成有螺旋形的螺旋流路。

17、在上述流路結(jié)構(gòu)物的下端部形成有圓板形的凸緣，在上述凸緣的上部向半徑方向形成有多個(gè)流入孔，上述多個(gè)流入孔與貫通上述凸緣的中心形成的排出孔相連接。

18、上述汽化部與終板相結(jié)合，在上述終板的中央形成有與上述排出孔相連接的源氣體排出管。

19、發(fā)明效果

20、如上所述，根據(jù)本發(fā)明的半導(dǎo)體工序用汽化裝置可減小霧化粒子的大小及均勻度差異，提高汽化效率，有利于高流量對應(yīng)，防止吐出孔堵塞。

21、并且，根據(jù)本發(fā)明的半導(dǎo)體工序用汽化裝置可提高霧化效率，減少液體源使用量。

22、并且，根據(jù)本發(fā)明的半導(dǎo)體工序用汽化裝置可增加向霧化的源粒子的傳熱效率和傳熱量，提高汽化性能，進(jìn)行高流量處理。

23、本發(fā)明的效果并不局限于以上所提及的效果，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可通過以下描述明確理解未提及的其他效果。

技術(shù)特征：

1.一種半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述超聲波控制器具有高頻電力振蕩功能，能夠調(diào)節(jié)供給電力的功率，調(diào)節(jié)上述超聲波振動(dòng)器中產(chǎn)生的超聲波的頻率。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述超聲波控制器具有根據(jù)上述液體源的流型及流量找出最佳的振動(dòng)頻率的頻率掃描功能，調(diào)節(jié)供給電力的功率以上述最佳的振動(dòng)頻率產(chǎn)生超聲波。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述第二霧化部包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述第二霧化部形成有向上述混合空間的切線方向貫通上述第二霧化部的切線流路，上述切線流路與載氣流入管相連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述汽化部呈圓形管形狀，內(nèi)部插入有具有與上述汽化部的內(nèi)徑相同的直徑的圓柱形的流路結(jié)構(gòu)物。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，在上述汽化部的外側(cè)設(shè)有外部加熱器，在上述汽化部的內(nèi)側(cè)設(shè)有內(nèi)部加熱器。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述內(nèi)部加熱器插入設(shè)置于上述流路結(jié)構(gòu)物的內(nèi)部。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，在上述流路結(jié)構(gòu)物的外周面形成有螺旋形的螺旋流路。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其特征在于，上述汽化部與終板相結(jié)合，在上述終板的中央形成有與上述排出孔相連接的源氣體排出管。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工序用汽化裝置，其包括：第一霧化部，利用超聲波使液體源振動(dòng)來第一次霧化；第二霧化部，與上述第一霧化部相連接，以載氣壓力向吐出口(孔板)排出從上述第一霧化部流入的一次霧化粒子來第二次霧化；以及汽化部，與上述第二霧化部相連接，從上述第二霧化部流入的二次霧化粒子通過其中并汽化。因此，可提高霧化效率和汽化效率，減少液體源使用量，進(jìn)行高流量處理。

技術(shù)研發(fā)人員：林勇珍,鄭允琇,車東壹,金官希,金現(xiàn)秀
受保護(hù)的技術(shù)使用者：盛吉盛（韓國）半導(dǎo)體科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/19