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一種水晶膜及其鍍膜工藝的制作方法

文檔序號(hào):5280951閱讀:1376來(lái)源:國(guó)知局
一種水晶膜及其鍍膜工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提出了一種水晶膜及其鍍膜工藝,屬于外裝噴涂鍍膜領(lǐng)域。該鍍膜方法包括以下步驟:將溫水通入陶瓷磁芯后電離,得到鍍膜劑和活性水的步驟;將鍍膜劑和活性水按照一定比例均勻混合,得到水晶鍍膜液的步驟;將水晶鍍膜液通過(guò)高壓沖洗機(jī)噴射到待處理物表面,析出玻璃成分的步驟;玻璃成分與帶負(fù)電荷的待處理物表面結(jié)和,同時(shí)和空氣中的水分發(fā)生反應(yīng)、自然固化、形成水晶膜的步驟。本發(fā)明水晶膜為純無(wú)機(jī)材料,不易被氧化,延長(zhǎng)漆膜壽命2~3倍,膜厚度為30~40納米,具有極好的親水性能,能大幅減少灰塵、生物的附著能力。
【專利說(shuō)明】一種水晶膜及其鍍膜工藝【技術(shù)領(lǐng)域】[0001]本發(fā)明涉及一種外裝噴涂鍍膜工藝,具體涉及一種水晶膜及其鍍膜工藝?!颈尘凹夹g(shù)】[0002]隨著科學(xué)進(jìn)步、工業(yè)技術(shù)的發(fā)展,對(duì)金屬和非金屬表面涂覆保護(hù)層或裝飾層,已由手工向工業(yè)自動(dòng)化方向發(fā)展,而且新技術(shù)開發(fā)應(yīng)用的程度越來(lái)越高,所以鍍膜應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。[0003]傳統(tǒng)的鍍膜工藝主要包括:一、采用特殊夾具和專用精密光纖鍍膜設(shè)備進(jìn)行鍍膜;二、有機(jī)溶劑噴涂法,其中,工藝一由于特殊夾具和專用精密光纖鍍膜設(shè)備的價(jià)格很高、成本巨大,且特殊夾具較為精密,不易清洗,容易損壞等問(wèn)題而沒(méi)有推廣應(yīng)用;有機(jī)溶劑噴涂法,此工藝抗氧化性差、易老化、硬度低、耐磨性差,耐油、鹽、酸、堿性差。[0004]鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題,本發(fā)明根據(jù)現(xiàn)有鍍膜的特性,從根本上對(duì)現(xiàn)有工藝進(jìn)行改進(jìn),提供一種鍍膜工藝,增強(qiáng)其表面處理強(qiáng)度和實(shí)用性能。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明提供了一種水晶膜及其鍍膜工藝,該水晶膜為純無(wú)機(jī)材料、不易被氧化,具有極好的未水性能,能大幅減少灰塵、生物的附著能力。[0006]本發(fā)明任務(wù)之一是提供一種水晶膜:[0007]一種水晶膜,該水晶膜厚度為30~40納米,硬度達(dá)3.0GPA以上,防劃傷同時(shí)具有很強(qiáng)的韌性。[0008]本發(fā)明的任務(wù)之二是提供上述水晶膜的鍍膜方法:[0009]該鍍膜方法包括以下步驟:[0010]a)將30~50°C的水通入以壓電陶瓷和過(guò)氧化鎂為主要成分的陶瓷磁芯后電離, 得到鍍膜劑和活性水的步驟;[0011]b)將上述鍍膜劑和活性水按照重量份數(shù)6~15:100均勻混合,得到水晶鍍膜液的步驟;[0012]c)待處理物表面進(jìn)行處理使其帶負(fù)電荷,將步驟b)中的水晶鍍膜液通過(guò)高壓沖洗機(jī)噴射到待處理物表面,析出玻璃成分的步驟;[0013]d)上述帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分與帶負(fù)電荷的待處理物表面結(jié)和,同時(shí)和空氣中的水分發(fā)生反應(yīng)、自然固化、形成水晶膜的步驟。[0014]上述步驟a)中鍍膜劑的有效成分為全氫聚硅氮烷。[0015]上述步驟b)中活性水水壓保持1.7~1.9Kg。[0016]上述步驟c)待處理物為金屬、瓷磚或玻璃。[0017]上述步驟c)高壓沖洗`機(jī)噴射壓力為4.9MPa。[0018]本發(fā)明所帶來(lái)的有益技術(shù)效果:[0019]本發(fā)明提供了一種水晶膜及其鍍膜工藝,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明水晶膜為純無(wú)機(jī)材料,不易被氧化,延長(zhǎng)漆膜壽命2~3倍;將30~50°C的水通入以壓電陶瓷和過(guò)氧化鎂為主要成分的陶瓷磁芯后,陶瓷磁芯使水電解,增加其活性,成為具有清潔作用的活性水; 然后將活性水與鍍膜劑按照一定的比例混合均勻,得到水晶鍍膜液,將水晶鍍膜液通過(guò)高壓沖洗機(jī)噴射到帶負(fù)電荷的待處理物表面,析出的玻璃成分即硼酸硅分子與帶負(fù)電荷的待處理物表面結(jié)合、常溫固化后形成高硬度的水晶膜。本發(fā)明水晶膜厚度為30~40納米,具有極好的未水性能,能大幅減少灰塵、生物的附著能力。【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】[0020]下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明:[0021]圖1為本發(fā)明鍍膜原理圖?!揪唧w實(shí)施方式】[0022]本發(fā)明提供了一種水晶膜及其鍍膜工藝,為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案以及優(yōu)點(diǎn)更清楚、明確,以下將結(jié)合具體實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。[0023]實(shí)施例1:[0024]本發(fā)明水晶膜的鍍膜方法包括如下四個(gè)步驟:[0025]步驟a:[0026]首先利用自動(dòng)加熱系統(tǒng),將自來(lái)水加熱至30°C,提供陶瓷磁芯,該陶瓷磁芯以壓電瓷和過(guò)氧化鎂為主要成分,將溫度為30°C的自來(lái)水通入上述電壓為220伏的陶瓷磁芯, 自來(lái)水發(fā)生電離,形成溶入了有陶瓷磁芯析出的鍍膜劑,該鍍膜劑的有效成分為全氫聚硅氮烷;陶瓷芯為使水進(jìn)行電解,增加其活性,成為具有清潔作用的活性水;[0027]步驟b:[0028]活性水選定為1.7Kg,將鍍膜劑和活性水按照重量份數(shù)6:100均勻混合,得到水晶鍍膜液;[0029]步驟c:[0030]將金屬、瓷磚或玻璃表面進(jìn)行處理使其帶負(fù)電荷,本發(fā)明采用電鍍的原理使待處理物表面帶有負(fù)電荷,將步驟b)中的水晶鍍膜液通過(guò)高壓沖洗機(jī)噴射到金屬、瓷磚或玻璃表面,高壓沖洗機(jī)的噴射壓力為4.9MPa,經(jīng)噴射后析出玻璃成分,玻璃成分即為硼酸硅分子;[0031]步驟d:[0032]帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分與帶負(fù)電荷的待處理物表面結(jié)和,同時(shí)和空氣中的水分發(fā)生反應(yīng)、自然固化、形成水晶膜。[0033]實(shí)施例2:[0034]與實(shí)施例1不同之處在于:步驟a自來(lái)水溫度加熱至40°C,活性水選定為1.8Kg。[0035]實(shí)施例3:[0036]與實(shí)施例1不同之處在于:步驟a自來(lái)水溫度加熱至50°C,活性水選定為1.9Kg。[0037]參照上述實(shí)施例1步驟a、b、C、d,本發(fā)明鍍膜機(jī)理如圖1所示:[0038]如圖1a所示:通過(guò)陶瓷磁芯的水即活性水,變?yōu)槿鯄A性,中和原自來(lái)水中的氯元素等有機(jī)成分,同時(shí)通過(guò)220伏的陶瓷磁芯后,自來(lái)水發(fā)生電離,變成很小的分子水即活性水,活性水具有清潔作用、洗凈能力提高,參照步驟C,經(jīng)噴射后析出玻璃成分;[0039]如圖1b所示:利用水晶鍍膜液用高壓噴射到外壁上時(shí)發(fā)生的沖擊電子,根據(jù)電鍍的原理使待處理物表面帶負(fù)電荷,使之與帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分結(jié)合在一起,同時(shí)和空氣中水蒸氣反應(yīng)而形成熔融體,熔融體為未固化后的水面膜;[0040]如圖1c所示:根據(jù)電鍍的原理,待處理物的保護(hù)層分子與硼酸硅的分子會(huì)緊密結(jié)合在一起,上述熔融體自然固化后,最終得到本發(fā)明水晶膜。[0041]水晶I旲的各項(xiàng)性能指標(biāo)如表1所不:[0042]表1
【權(quán)利要求】
1.一種水晶膜,其特征在于:所述水晶膜厚度為30~40納米,硬度達(dá)3.0GPA以上。
2.如權(quán)利要求1所述水晶膜的鍍膜方法,其特征在于所述鍍膜方法包括以下步驟:a)將30~50°C的水通入以壓電陶瓷和過(guò)氧化鎂為主要成分的陶瓷磁芯后電離,得到鍍膜劑和活性水的步驟;b)將上述鍍膜劑和活性水按照重量份數(shù)6~15:100均勻混合,得到水晶鍍膜液的步驟;c)待處理物表面進(jìn)行處理使其帶負(fù)電荷,將步驟b)中的水晶鍍膜液通過(guò)高壓沖洗機(jī)噴射到待處理物表面,析出玻璃成分的步驟;d)上述帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分與帶負(fù)電荷的待處理物表面結(jié)和,同時(shí)和空氣中的水分發(fā)生反應(yīng)、自然固化、形成水晶膜的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟a)中鍍膜劑的有效成分為全氫聚娃氮燒。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟b)中活性水水壓保持1.7 ~1.9Kg。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟c)待處理物為金屬、 瓷磚或玻璃。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟c)高壓沖洗機(jī)噴射壓力為 4.9MPa。
【文檔編號(hào)】C25D9/08GK103556199SQ201310362311
【公開日】2014年2月5日 申請(qǐng)日期:2013年8月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月19日
【發(fā)明者】張兵, 孟祥東, 李茂濤, 李勇, 孫鵬飛 申請(qǐng)人:青島聚蚨源機(jī)電有限公司
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