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離合器的冷卻構(gòu)造的制作方法

文檔序號:11141771閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
一種前進離合器(4)的冷卻構(gòu)造,設(shè)于驅(qū)動板(42)的襯片部件(43)壓接于從動板(46),限制驅(qū)動板(42)和從動板(46)的相對旋轉(zhuǎn),其中,在周向鄰接的襯片部件(43、43)之間形成有通過離心力向外徑側(cè)移動的潤滑油(OL)流通的點狀槽(421),將點狀槽(421)的寬度(Wa)的下限設(shè)定為,通過點狀槽(421)的潤滑油(OL)的流量為可將驅(qū)動板(42)和從動板(46)冷卻到上限溫度(Tmax)以下的最小流量的寬度(a),將點狀槽(421)的寬度(Wa)的上限設(shè)定為,通過點狀槽(421)的潤滑油(OL)中的空氣含有率為利用該空氣含有率的潤滑油(OL)可將驅(qū)動板(42)和從動板(46)冷卻到上限溫度(Tmax)以下的最大含有率的寬度(b)。

技術(shù)研發(fā)人員:杉村晃;前田篤志;高橋功;早川純平;內(nèi)藤忠司;久保隆史
受保護的技術(shù)使用者:加特可株式會社
文檔號碼:201580026669
技術(shù)研發(fā)日:2015.02.26
技術(shù)公布日:2017.02.15

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