本技術(shù)涉及結(jié)構(gòu)變形監(jiān)測,尤其涉及一種結(jié)構(gòu)空間形位監(jiān)測方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。
背景技術(shù):
1、結(jié)構(gòu)的空間形位(即結(jié)構(gòu)表面的形狀和位移)是結(jié)構(gòu)健康監(jiān)測中重要的監(jiān)測指標(biāo)。相關(guān)的監(jiān)測手段如通過位移計(jì)、應(yīng)變計(jì)、全站儀、水準(zhǔn)儀、激光測距儀和全球?qū)Ш叫l(wèi)星系統(tǒng)等僅能獲得結(jié)構(gòu)局部的形狀變化和位移信息,難以反映結(jié)構(gòu)的整體狀態(tài);圖像識(shí)別技術(shù)(如數(shù)字圖像相關(guān)法)和雷達(dá)干涉技術(shù)的發(fā)展使得獲取結(jié)構(gòu)空間形位的全場信息成為現(xiàn)實(shí),但由于測量原理的局限,圖像采集或雷達(dá)測站在監(jiān)測過程中需要保持恒定不變,這在一定程度上限制了其在結(jié)構(gòu)健康監(jiān)測領(lǐng)域的應(yīng)用。
2、相關(guān)技術(shù)中還可以通過激光三維掃描獲得物體表面的點(diǎn)云信息,無需依賴固定測站,給數(shù)據(jù)采集帶來極大便利。然而由于點(diǎn)云的離散性、無組織的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)和非均勻的分布特性,難以利用點(diǎn)云獲取結(jié)構(gòu)表面的物質(zhì)點(diǎn)的真實(shí)位移。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本技術(shù)實(shí)施例提供了一種結(jié)構(gòu)空間形位監(jiān)測方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),以確定結(jié)構(gòu)表面的物質(zhì)點(diǎn)的真實(shí)位移,反映結(jié)構(gòu)的整體狀態(tài)。
2、第一方面,本技術(shù)實(shí)施例提供了一種結(jié)構(gòu)空間形位監(jiān)測方法,包括:
3、獲取目標(biāo)結(jié)構(gòu)在第一時(shí)刻和第二時(shí)刻的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù);其中,所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)包括坐標(biāo)、顏色和反射強(qiáng)度;
4、對(duì)所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)構(gòu)化處理,得到所述第一時(shí)刻對(duì)應(yīng)的初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述第二時(shí)刻對(duì)應(yīng)的配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù);
5、根據(jù)坐標(biāo)、顏色和反射強(qiáng)度分別對(duì)所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行曲面擬合,得到初始曲面模型和配準(zhǔn)曲面模型;
6、從所述初始曲面模型中選取第一預(yù)設(shè)數(shù)量的第一配準(zhǔn)點(diǎn),并在所述配準(zhǔn)曲面模型中搜索所述第一配準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二配準(zhǔn)點(diǎn);
7、根據(jù)所述第一配準(zhǔn)點(diǎn),生成初始更新模型;根據(jù)所述第二配準(zhǔn)點(diǎn),生成配準(zhǔn)更新模型;
8、基于所述初始更新模型和所述配準(zhǔn)更新模型,確定目標(biāo)結(jié)構(gòu)的空間形位。
9、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述根據(jù)坐標(biāo)、顏色和反射強(qiáng)度分別對(duì)所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行曲面擬合,得到初始曲面模型和配準(zhǔn)曲面模型,包括:
10、根據(jù)所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的坐標(biāo),分別確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)在第一時(shí)刻和第二時(shí)刻的幾何特征信息;
11、根據(jù)所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的坐標(biāo)進(jìn)行b樣條曲面擬合,并在擬合過程中增加所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的幾何特征信息、顏色和反射強(qiáng)度,得到第一時(shí)刻對(duì)應(yīng)的初始曲面模型;
12、根據(jù)所述配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的坐標(biāo)進(jìn)行b樣條曲面擬合,并在擬合過程中增加所述配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的幾何特征信息、顏色和反射強(qiáng)度,得到第二時(shí)刻對(duì)應(yīng)的配準(zhǔn)曲面模型。
13、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,對(duì)所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)構(gòu)化處理,得到所述第一時(shí)刻對(duì)應(yīng)的初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述第二時(shí)刻對(duì)應(yīng)的配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù),包括:
14、根據(jù)所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)中預(yù)設(shè)的至少兩個(gè)特征點(diǎn),確定特征切面;
15、以所述特征切面為基準(zhǔn),在第一時(shí)刻和第二時(shí)刻的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中分別進(jìn)行切面的劃分,得到所述第一時(shí)刻的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的多個(gè)初始切面和所述第二時(shí)刻的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的多個(gè)配準(zhǔn)切面;
16、針對(duì)每個(gè)目標(biāo)切面,在該目標(biāo)切面對(duì)應(yīng)的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中,將與該目標(biāo)切面的長度在預(yù)設(shè)長度內(nèi)的點(diǎn)投影至該目標(biāo)切面上,得到該目標(biāo)切面的第一投影點(diǎn),對(duì)該目標(biāo)切面的第一投影點(diǎn)進(jìn)行采樣,得到該目標(biāo)切面的結(jié)構(gòu)點(diǎn);其中,所述目標(biāo)切面包括多個(gè)初始切面和多個(gè)配準(zhǔn)切面;
17、針對(duì)每個(gè)結(jié)構(gòu)點(diǎn),在該結(jié)構(gòu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中,確定與該結(jié)構(gòu)點(diǎn)距離最近的第二預(yù)設(shè)數(shù)量的附近點(diǎn);根據(jù)所述附近點(diǎn),確定該結(jié)構(gòu)點(diǎn)的結(jié)構(gòu)點(diǎn)云數(shù)據(jù);
18、基于所述初始切面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)點(diǎn)和對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)點(diǎn)云數(shù)據(jù),確定第一時(shí)刻對(duì)應(yīng)的初始點(diǎn)云數(shù)據(jù);基于所述配準(zhǔn)切面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)點(diǎn)和對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)點(diǎn)云數(shù)據(jù),確定第二時(shí)刻對(duì)應(yīng)的配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)。
19、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第二預(yù)設(shè)數(shù)量為三;
20、根據(jù)所述附近點(diǎn),確定該結(jié)構(gòu)點(diǎn)的結(jié)構(gòu)點(diǎn)云數(shù)據(jù),包括:
21、根據(jù)所述附近點(diǎn),形成該結(jié)構(gòu)點(diǎn)的投影平面;
22、將該結(jié)構(gòu)點(diǎn)投影至所述投影平面上,得到該結(jié)構(gòu)點(diǎn)在所述投影平面上對(duì)應(yīng)的第二投影點(diǎn);
23、針對(duì)每個(gè)附近點(diǎn),確定所述第二投影點(diǎn)與另外兩個(gè)的附近點(diǎn)形成的三角形面積;
24、根據(jù)每個(gè)附近點(diǎn)對(duì)應(yīng)的三角形面積,確定每個(gè)附近點(diǎn)對(duì)應(yīng)的權(quán)重;
25、基于每個(gè)附近點(diǎn)對(duì)應(yīng)的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和每個(gè)附近點(diǎn)對(duì)應(yīng)的權(quán)重,確定所述第二投影點(diǎn)對(duì)應(yīng)的該結(jié)構(gòu)點(diǎn)的結(jié)構(gòu)點(diǎn)云數(shù)據(jù)。
26、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,從所述初始曲面模型中選取第一預(yù)設(shè)數(shù)量的第一配準(zhǔn)點(diǎn),并在所述配準(zhǔn)曲面模型中搜索所述第一配準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二配準(zhǔn)點(diǎn),包括:
27、從所述初始曲面模型中隨機(jī)選取第一預(yù)設(shè)數(shù)量的第一配準(zhǔn)點(diǎn);
28、針對(duì)每個(gè)第一配準(zhǔn)點(diǎn),確定該第一配準(zhǔn)點(diǎn)在所述初始曲面模型的初始映射坐標(biāo);
29、根據(jù)所述初始映射坐標(biāo),在所述初始曲面模型中確定該第一配準(zhǔn)點(diǎn)的配準(zhǔn)范圍,并在所述配準(zhǔn)曲面模型中確定該第一配準(zhǔn)點(diǎn)的搜索范圍;
30、根據(jù)所述配準(zhǔn)范圍對(duì)應(yīng)的幾何特征信息、顏色和反射強(qiáng)度,以及所述搜索范圍對(duì)應(yīng)的幾何特征信息、顏色和反射強(qiáng)度,在所述搜索范圍內(nèi)搜索與配準(zhǔn)范圍最相似的區(qū)域;
31、在與配準(zhǔn)范圍最相似的區(qū)域內(nèi)確定該第一配準(zhǔn)點(diǎn)在所述配準(zhǔn)曲面模型的配準(zhǔn)映射坐標(biāo),得到該第一配準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二配準(zhǔn)點(diǎn)。
32、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,基于所述初始更新模型和所述配準(zhǔn)更新模型,確定目標(biāo)結(jié)構(gòu)的空間形位,包括:
33、根據(jù)所述初始更新模型和所述配準(zhǔn)更新模型,確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)在所述第一時(shí)刻和所述第二時(shí)刻的表面形狀;
34、根據(jù)所述初始更新模型和所述配準(zhǔn)更新模型,確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)由第一時(shí)刻到第二時(shí)刻的結(jié)構(gòu)位移函數(shù);
35、根據(jù)所述結(jié)構(gòu)位移函數(shù),確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)表面各個(gè)物質(zhì)點(diǎn)由第一時(shí)刻到第二時(shí)刻的位移;
36、基于所述表面形狀和所述位移,確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的空間形位。
37、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在根據(jù)所述初始更新模型和所述配準(zhǔn)更新模型,確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)由第一時(shí)刻到第二時(shí)刻的結(jié)構(gòu)位移函數(shù)之后,還包括:
38、根據(jù)所述結(jié)構(gòu)位移函數(shù),確定所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)表面的應(yīng)變數(shù)據(jù)。
39、第二方面,本技術(shù)實(shí)施例提供了一種結(jié)構(gòu)空間形位監(jiān)測裝置,包括:
40、獲取模塊,用于獲取目標(biāo)結(jié)構(gòu)在第一時(shí)刻和第二時(shí)刻的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù);其中,所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)包括坐標(biāo)、顏色和反射強(qiáng)度;
41、結(jié)構(gòu)化模塊,用于對(duì)所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)構(gòu)化處理,得到所述第一時(shí)刻對(duì)應(yīng)的初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述第二時(shí)刻對(duì)應(yīng)的配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù);
42、擬合模塊,用于根據(jù)坐標(biāo)、顏色和反射強(qiáng)度分別對(duì)所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行曲面擬合,得到初始曲面模型和配準(zhǔn)曲面模型;
43、配準(zhǔn)模塊,用于從所述初始曲面模型中選取第一預(yù)設(shè)數(shù)量的第一配準(zhǔn)點(diǎn),并在所述配準(zhǔn)曲面模型中搜索所述第一配準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二配準(zhǔn)點(diǎn);
44、更新模塊,用于根據(jù)所述第一配準(zhǔn)點(diǎn),生成初始更新模型;根據(jù)所述第二配準(zhǔn)點(diǎn),生成配準(zhǔn)更新模型;
45、確定模塊,用于基于所述初始更新模型和所述配準(zhǔn)更新模型,確定目標(biāo)結(jié)構(gòu)的空間形位。
46、第三方面,本技術(shù)實(shí)施例提供了一種電子設(shè)備,包括存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中并可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如上第一方面或第一方面的任一種可能的實(shí)現(xiàn)方式所述的方法的步驟。
47、第四方面,本技術(shù)實(shí)施例提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上第一方面或第一方面的任一種可能的實(shí)現(xiàn)方式所述的方法的步驟。
48、第五方面,本技術(shù)實(shí)施例提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品,當(dāng)計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品在電子設(shè)備上運(yùn)行時(shí),使得電子設(shè)備執(zhí)行上述第一方面或第一方面的任一種可能的實(shí)現(xiàn)方式所述的方法的步驟。
49、本技術(shù)實(shí)施例與現(xiàn)有技術(shù)相比存在的有益效果是:
50、本技術(shù)實(shí)施例通過對(duì)原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)構(gòu)化處理,得到第一時(shí)刻對(duì)應(yīng)的初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和第二時(shí)刻對(duì)應(yīng)的配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù),可以將原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變?yōu)榻Y(jié)構(gòu)化的數(shù)據(jù),方便后續(xù)進(jìn)行匹配和處理;通過坐標(biāo)、顏色和反射強(qiáng)度分別對(duì)初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和配準(zhǔn)點(diǎn)云數(shù)據(jù)中曲面擬合,得到初始曲面模型和配準(zhǔn)曲面模型,可以將點(diǎn)云的坐標(biāo)和其他的信息均擬合進(jìn)曲面模型中;再從初始曲面模型中選取第一預(yù)設(shè)數(shù)量的第一配準(zhǔn)點(diǎn),并在配準(zhǔn)曲面模型中搜索第一配準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二配準(zhǔn)點(diǎn),可以在配準(zhǔn)時(shí)利用點(diǎn)云的坐標(biāo)和其他的信息,降低陷入局部誤相似的概率,提高配準(zhǔn)的定位效率和精度,實(shí)現(xiàn)初始曲面模型和配準(zhǔn)曲面模型的精確配準(zhǔn);根據(jù)第一配準(zhǔn)點(diǎn)生成初始更新模型,以及根據(jù)第二配準(zhǔn)點(diǎn)生成配準(zhǔn)更新模型,可以使初始更新模型和配準(zhǔn)更新模型相對(duì)應(yīng),從而可以依據(jù)初始更新模型和配準(zhǔn)更新模型,得到目標(biāo)結(jié)構(gòu)的空間形位,即表面形狀變化和位移,反映目標(biāo)結(jié)構(gòu)的整體狀態(tài)。