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基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法與流程

文檔序號(hào):41956281發(fā)布日期:2025-05-16 14:24閱讀:12來(lái)源:國(guó)知局
基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法與流程

本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)處理,具體涉及基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法。


背景技術(shù):

1、隨著高性能材料在航空航天、微電子、新能源及精密制造等高端產(chǎn)業(yè)中的廣泛應(yīng)用,多金屬單晶材料因其優(yōu)異的力學(xué)性能、導(dǎo)電導(dǎo)熱性和化學(xué)穩(wěn)定性,成為關(guān)鍵基礎(chǔ)材料之一。然而,多金屬單晶材料在制備過(guò)程中容易混入多種微量雜質(zhì),這些雜質(zhì)會(huì)引發(fā)晶格畸變、電子遷移率下降、界面性能惡化等問(wèn)題,嚴(yán)重影響材料的功能性能和可靠性。傳統(tǒng)的多金屬材料提純方法,如區(qū)域熔煉、電遷移提純、化學(xué)處理等,存在提純效率低、難以精準(zhǔn)調(diào)控的缺陷。

2、現(xiàn)有技術(shù)存在多金屬單晶提純效率低、雜質(zhì)控制精度差的技術(shù)問(wèn)題。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)?zhí)峁┝嘶趯W(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,用于解決現(xiàn)有技術(shù)存在多金屬單晶提純效率低、雜質(zhì)控制精度差的技術(shù)問(wèn)題。

2、鑒于上述問(wèn)題,本申請(qǐng)?zhí)峁┝嘶趯W(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,所述方法包括:根據(jù)多金屬的缺陷特征和雜質(zhì)-金屬相斥力場(chǎng)參數(shù),訓(xùn)練獲得吸附能預(yù)測(cè)模型;利用訓(xùn)練好的所述吸附能預(yù)測(cè)模型對(duì)多金屬雜質(zhì)在不同缺陷構(gòu)型下的吸附能進(jìn)行預(yù)測(cè),根據(jù)吸附能預(yù)測(cè)結(jié)果篩選最優(yōu)缺陷構(gòu)型;基于所述最優(yōu)缺陷構(gòu)型,對(duì)各金屬在缺陷構(gòu)型內(nèi)吸附過(guò)程進(jìn)行模擬,分析各金屬雜質(zhì)在通路中的傳播和吸附行為,獲得通路模擬數(shù)據(jù);根據(jù)提純目標(biāo)對(duì)所述通路模擬數(shù)據(jù)進(jìn)行通路優(yōu)化,獲得多金屬提純方案。

3、本申請(qǐng)中提供的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案,至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):

4、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的方法根據(jù)多金屬的缺陷特征和雜質(zhì)-金屬相斥力場(chǎng)參數(shù),訓(xùn)練獲得吸附能預(yù)測(cè)模型;利用訓(xùn)練好的所述吸附能預(yù)測(cè)模型對(duì)多金屬雜質(zhì)在不同缺陷構(gòu)型下的吸附能進(jìn)行預(yù)測(cè),根據(jù)吸附能預(yù)測(cè)結(jié)果篩選最優(yōu)缺陷構(gòu)型;基于所述最優(yōu)缺陷構(gòu)型,對(duì)各金屬在缺陷構(gòu)型內(nèi)吸附過(guò)程進(jìn)行模擬,分析各金屬雜質(zhì)在通路中的傳播和吸附行為,獲得通路模擬數(shù)據(jù);根據(jù)提純目標(biāo)對(duì)所述通路模擬數(shù)據(jù)進(jìn)行通路優(yōu)化,獲得多金屬提純方案。達(dá)到了通過(guò)構(gòu)建吸附能預(yù)測(cè)模型、結(jié)合實(shí)際提純目標(biāo),提高多金屬單晶提純效率與精度的技術(shù)效果。



技術(shù)特征:

1.基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,所述根據(jù)多金屬的缺陷特征和雜質(zhì)-金屬相斥力場(chǎng)參數(shù),訓(xùn)練獲得吸附能預(yù)測(cè)模型,包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,根據(jù)所述缺陷特征數(shù)據(jù)以及雜質(zhì)-金屬相斥力場(chǎng)參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行吸附特征關(guān)聯(lián)性分析,構(gòu)建訓(xùn)練數(shù)據(jù)集,包括:

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,根據(jù)所述缺陷特征數(shù)據(jù)進(jìn)行金屬雜質(zhì)與缺陷構(gòu)型的吸附特性分析,確定雜質(zhì)-缺陷構(gòu)型吸附能,包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,根據(jù)所述雜質(zhì)-金屬相斥力場(chǎng)參數(shù)數(shù)據(jù)與所述雜質(zhì)-缺陷構(gòu)型吸附能進(jìn)行融合分析,包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,利用所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集進(jìn)行模型訓(xùn)練收斂,獲得所述吸附能預(yù)測(cè)模型,包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,根據(jù)吸附能預(yù)測(cè)結(jié)果篩選最優(yōu)缺陷構(gòu)型,包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,根據(jù)提純目標(biāo)對(duì)所述通路模擬數(shù)據(jù)進(jìn)行通路優(yōu)化,包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,優(yōu)化傳播吸附通路,包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,其特征在于,所述提純目標(biāo)包括單晶結(jié)構(gòu)參數(shù)目標(biāo)、提純閾值目標(biāo)。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了基于學(xué)習(xí)模型的多金屬單晶提純優(yōu)化方法,涉及數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域,根據(jù)多金屬的缺陷特征和雜質(zhì)?金屬相斥力場(chǎng)參數(shù),訓(xùn)練獲得吸附能預(yù)測(cè)模型;利用訓(xùn)練好的所述吸附能預(yù)測(cè)模型對(duì)多金屬雜質(zhì)在不同缺陷構(gòu)型下的吸附能進(jìn)行預(yù)測(cè),根據(jù)吸附能預(yù)測(cè)結(jié)果篩選最優(yōu)缺陷構(gòu)型;基于所述最優(yōu)缺陷構(gòu)型,對(duì)各金屬在缺陷構(gòu)型內(nèi)吸附過(guò)程進(jìn)行模擬,分析各金屬雜質(zhì)在通路中的傳播和吸附行為,獲得通路模擬數(shù)據(jù);根據(jù)提純目標(biāo)對(duì)所述通路模擬數(shù)據(jù)進(jìn)行通路優(yōu)化,獲得多金屬提純方案,解決了現(xiàn)有技術(shù)存在多金屬單晶提純效率低、雜質(zhì)控制精度差的技術(shù)問(wèn)題。達(dá)到了通過(guò)構(gòu)建吸附能預(yù)測(cè)模型、結(jié)合實(shí)際提純目標(biāo),提高多金屬單晶提純效率與精度的技術(shù)效果。

技術(shù)研發(fā)人員:程鵬,趙勇
受保護(hù)的技術(shù)使用者:無(wú)錫晶名光電科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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