專利名稱：等相差分波束形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基站天線技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種等相差分波束形成裝置。
技術(shù)背景
傳統(tǒng)的可調(diào)諧天線元件由功率分配器、變壓器和相位調(diào)整器組成，在高性能的天線中，這些部件是互相緊密聯(lián)系的，由于這些部件強(qiáng)力地相互作用，有時難以形成理想的波束形狀，因此需要規(guī)范的波束形成網(wǎng)絡(luò)來解決這些問題。
在現(xiàn)有技術(shù)一，美國發(fā)明專利US5949303中，公開了一種可調(diào)整天線陣列的波束俯角的網(wǎng)絡(luò)，該波束形成網(wǎng)絡(luò)包括固定基板、帶狀線網(wǎng)絡(luò)和可移動的絕緣體，絕緣體放置在固定基板及帶狀線之間，帶狀線沿著絕緣體活動的同一方向延伸，且部分帶狀線被絕緣體覆蓋。信號分量的傳播速率由位于帶狀線及固定基板之間的絕緣體的作用而減小，因此網(wǎng)絡(luò)的不同輸出的相位差距就能得到控制。此技術(shù)有如下缺點(diǎn)首先，輸出中斷的相對位置對分布造成約束，在某些實(shí)際應(yīng)用中與波束形成網(wǎng)絡(luò)的物理實(shí)現(xiàn)相矛盾；其次，這種方法不適用于包含奇數(shù)輸出端口的線性天線陣列。
在現(xiàn)有技術(shù)二，歐洲發(fā)明專利WO 03/019723中，公開了一種帶有集成移相器的天線饋送網(wǎng)絡(luò)。該裝置包括帶有多個端口的公共饋線的分支網(wǎng)絡(luò)和安裝在網(wǎng)絡(luò)附近的絕緣片，絕緣片可移動以便同步地調(diào)整公共饋線與一個或多個端口之間的相位關(guān)系。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)二所提供實(shí)施例中的一種10端口裝置圖，帶狀線18位于絕緣體 47a與絕緣體47b之間，當(dāng)絕緣體47a與絕緣體47b以相同的方向同步移動時，各相鄰輸出端口間的相位差同步地改變,且相鄰輸出端口的最大相位差由絕緣體47a、47b可移動的最大距離決定，即由帶狀線18的長度決定。相鄰輸出端口的相位差與天線陣列的下傾角成正比，帶狀線18呈直線形狀，適合應(yīng)用在小下傾角(如10度下傾角)的天線陣列中；如果該裝置應(yīng)用在大下傾角(如大于15度下傾角)的天線陣列中，就需要大幅度地增加帶狀線18 的長度，這將使整個裝置的長度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于天線陣列的長度，增加天線的長度、成本和復(fù)雜程度。對應(yīng)的，絕緣體47a、47b的長度也要大大增加，由于絕緣體47a、47b —般使用PVC材料制成，當(dāng)長度過大時，絕緣體47a、47b容易彎曲變形，影響了裝置的整體性能。此外，絕緣體 47a、47b大面積地覆蓋了帶狀線18和功率分配器，增大了裝置的損耗。
綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)中的波束形成裝置的應(yīng)用具有局限性，不適合應(yīng)用在大下傾天線陣列中。波束形成裝置中絕緣體的面積較大，增加了絕緣體的加工精度、難度和成本， 并且容易彎曲變形；絕緣體與大部分傳輸線有交迭，增大了損耗。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種等相差分波束形成裝置，減小絕緣介質(zhì)片造成的不必要損耗，同時降低絕緣介質(zhì)片的制造難度和成本，并提高等相差分波束形成裝置在大下傾天線陣列中的適用性。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案一種等相差分波束形成裝置，包括第一金屬反射板、第二金屬反射板、絕緣介質(zhì)片、滑動裝置、介質(zhì)基板和蝕刻于介質(zhì)基板上的饋線網(wǎng)絡(luò)；所述饋線網(wǎng)絡(luò)包括相互串聯(lián)的固定傳輸線和功率分配子單元，每段固定傳輸線與兩個絕緣介質(zhì)片構(gòu)成一個移相器子單元，所述兩個絕緣介質(zhì)片分別設(shè)置在介質(zhì)基板的上底面和下底面，并且正對所述固定傳輸線設(shè)置； 所述介質(zhì)基板和絕緣介質(zhì)片夾在第一金屬反射板和第二金屬反射板之間；所述第一金屬反射板和介質(zhì)基板上設(shè)有限位滑槽，所述滑動裝置依次穿過第一金屬反射板和介質(zhì)基板上的限位滑槽，與介質(zhì)基板兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片連接，用于在限位滑槽的始末位置之間，帶動多個絕緣介質(zhì)片在各自對應(yīng)的固定傳輸線上同步移動，所述絕緣介質(zhì)片在移動過程中僅與饋線網(wǎng)絡(luò)中的固定傳輸線有交迭。
所述滑動裝置包括拉桿、拉桿導(dǎo)軌和插銷，拉桿導(dǎo)軌固定于第一金屬反射板背向介質(zhì)基板的一側(cè)，所述拉桿可滑動地安裝于拉桿導(dǎo)軌上，所述插銷一端固定連接于拉桿上， 另一端依次穿過第一金屬反射板和介質(zhì)基板上的限位滑槽，且與介質(zhì)基板兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片固定連接。
所述絕緣介質(zhì)片上開設(shè)有定位孔，所述插銷穿過定位孔，與絕緣介質(zhì)片固定連接。
所述第二金屬反射板上也設(shè)有限位滑槽，所述插銷還穿過第二金屬反射板上的限位滑槽。
每個絕緣介質(zhì)片至少具有一個阻抗變換部分，在每個移相器子單元中，兩個絕緣介質(zhì)片上的阻抗變換部分均與對應(yīng)的固定傳輸線有交迭。
所述固定傳輸線為曲折傳輸線，所述曲折傳輸線包括多段直線傳輸線和連接傳輸線；所述多段直線傳輸線相互平行排列，沿絕緣介質(zhì)片的移動方向延伸；所述多段直線傳輸線通過連接傳輸線依次首尾相連。
每個絕緣介質(zhì)片至少具有一個阻抗變換部分，在每個移相器子單元中，兩個絕緣介質(zhì)片上的阻抗變換部分與對應(yīng)的曲折傳輸線中的每一段直線傳輸線均有交迭。
所述功率分配子單元與所述金屬反射板之間填充有低損耗微波介質(zhì)材料。
分布于介質(zhì) 基板上底面和下底面的絕緣介質(zhì)片關(guān)于介質(zhì)基板對稱。
本發(fā)明實(shí)施例提供的等相差分波束形成裝置，將現(xiàn)有技術(shù)中饋線網(wǎng)絡(luò)上整塊的絕緣體拆分為多塊相對較小的絕緣介質(zhì)片，僅在固定傳輸線的對應(yīng)位置設(shè)置絕緣介質(zhì)片，并通過一滑動裝置控制所有絕緣介質(zhì)片同步移動。所述絕緣介質(zhì)片在移動過程中，不與功率分配子單元交迭，避免了絕緣介質(zhì)片對饋線網(wǎng)絡(luò)造成多余的損耗。同時，多塊小型絕緣介質(zhì)片代替整塊大型絕緣體的設(shè)計(jì)既解決了絕緣體容易彎曲變形的問題，又降低了等相差分波束形成裝置的制造成本。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)二中的10端口裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本發(fā)明實(shí)施例的組裝結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本發(fā)明實(shí)施例的詳細(xì)拆解結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為圖2中A部分的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)說明。僅僅出于方便的原因，在以下的說明中，使用了特定的方向術(shù)語，比如“上”、“下”、 “左”、“右”等等，是以對應(yīng)的附圖為參照的，并不能認(rèn)為是對本發(fā)明的限制，當(dāng)圖面的定義 方向發(fā)生改變時，這些詞語表示的方向應(yīng)當(dāng)解釋為相應(yīng)的不同方向。請參閱圖2，本發(fā)明實(shí)施例提供的等相差分波束形成裝置包括第一金屬反射板1、 第二金屬反射板2、絕緣介質(zhì)片6、滑動裝置4、介質(zhì)基板3和蝕刻于介質(zhì)基板3上的饋線網(wǎng) 絡(luò)5。所述饋線網(wǎng)絡(luò)5包括相互串聯(lián)的固定傳輸線51和功率分配子單元52。多個絕緣介質(zhì) 片6對稱分布于介質(zhì)基板3的上底面和下底面，所述介質(zhì)基板3和絕緣介質(zhì)片6夾在第一 金屬反射板1和第二金屬反射板2之間。所述第一金屬反射板1上設(shè)有多個限位滑槽11， 介質(zhì)基板3上的相同位置對應(yīng)設(shè)有限位滑槽31，第二金屬反射板2上的相同位置也對應(yīng)設(shè) 有限位滑槽21。所述滑動裝置4從第一金屬反射板1的上表面依次穿過限位滑槽11、限位 滑槽31和限位滑槽21，同時，還與分布于介質(zhì)基板3兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片6固定連接。所 述滑動裝置4用于在限位滑槽11、21、31所限定的范圍內(nèi)，帶動多個絕緣介質(zhì)片6在饋線網(wǎng) 絡(luò)5上同步移動。所述限位滑槽11、21、31用于限定絕緣介質(zhì)片6的運(yùn)動行程，使絕緣介質(zhì) 片6在移動過程中僅與饋線網(wǎng)絡(luò)5中的固定傳輸線51有交迭。具體地，如圖3和圖4所示，在本發(fā)明實(shí)施例中，所述介質(zhì)基板3的厚度在 0. lmnT3mm之間，介質(zhì)基板3上蝕刻有第一饋線網(wǎng)絡(luò)5a和第二饋線網(wǎng)絡(luò)5b。所述第一饋線 網(wǎng)絡(luò)5a和第二饋線網(wǎng)絡(luò)5b對稱分布于介質(zhì)基板3長度方向上的中線兩側(cè)。其中，第一饋 線網(wǎng)絡(luò)5a由依次串聯(lián)的第一固定傳輸線51a、第一功率分配子單元52a、第二固定傳輸線 51b、第二功率分配子單元52b、第三功率分配子單元52c、第三固定傳輸線51c、第四功率分 配子單元52d和第四固定傳輸線51d組成。第二饋線網(wǎng)絡(luò)5b由依次串聯(lián)的第五固定 傳輸 線51a'、第五功率分配子單元52a'、第六固定傳輸線51b'、第六功率分配子單元52b'、 第七功率分配子單元52c'、第七固定傳輸線51c'、第八功率分配子單元52d'和第八固 定傳輸線5Id'組成。其中，本發(fā)明實(shí)施例中的固定傳輸線51為曲折傳輸線，所述曲折傳輸線包括多段 直線傳輸線和連接傳輸線；所述多段直線傳輸線相互平行排列，且沿絕緣介質(zhì)片6的移動 方向延伸；所述多段直線傳輸線通過連接傳輸線依次首尾相連。本發(fā)明實(shí)施例中的曲折傳 輸線包括兩段直線傳輸線和一段連接傳輸線，所述兩段直線傳輸線通過連接傳輸線首尾相 連，整體呈U型回路結(jié)構(gòu)。所述功率分配子單元52為一分二功分器，由三段直線傳輸線星 形連接組成。在所述饋線網(wǎng)絡(luò)5中，每一段固定傳輸線51與兩個絕緣介質(zhì)片6構(gòu)成一個移相器 子單元，所述兩個絕緣介質(zhì)片6分別設(shè)置在介質(zhì)基板3的上底面和下底面，并且正對所述固定傳輸線51設(shè)置。具體地，如圖4所示，第一絕緣介質(zhì)片61和第五絕緣介質(zhì)片65分別設(shè)置在介質(zhì)基板3的上底面和下底面，并且正對第一固定傳輸線51a設(shè)置，三者構(gòu)成一個移相器子單兀；同時，第一絕緣介質(zhì)片61和第五絕緣介質(zhì)片65還正對第五固定傳輸線51a'設(shè)置，三者構(gòu)成另一個移相器子單元。
第二絕緣介質(zhì)片62和第六絕緣介質(zhì)片66分別設(shè)置在介質(zhì)基板3的上底面和下底面，并且正對第二固定傳輸線51b設(shè)置，三者構(gòu)成一個移相器子單元；同時，第二絕緣介質(zhì)片62和第六絕緣介質(zhì)片66還正對第六固定傳輸線51b，設(shè)置，三者構(gòu)成另一個移相器子單J Li ο
第三絕緣介質(zhì)片63和第七絕緣介質(zhì)片67分別設(shè)置在介質(zhì)基板3的上底面和下底面，并且正對第三固定傳輸線51c設(shè)置，三者構(gòu)成一個移相器子單元；同時，第三絕緣介質(zhì)片63和第七絕緣介質(zhì)片67還正對第七固定傳輸線51c'設(shè)置，三者構(gòu)成另一個移相器子單J Li ο
第四絕緣介質(zhì)片64和第八絕緣介質(zhì)片68分別設(shè)置在介質(zhì)基板3的上底面和下底面，并且正對第四固定傳輸線51d設(shè)置，三者構(gòu)成一個移相器子單元；同時，第四絕緣介質(zhì)片64和第八絕緣介質(zhì)片68還正對第八固定傳輸線51d'設(shè)置，三者構(gòu)成另一個移相器子單J Li ο
如圖3所示，每個絕緣介質(zhì)片6上均開設(shè)有兩個矩形槽13、14，所述矩形槽13、14 為絕緣介質(zhì)片6的阻抗變換部分，作為固定傳輸線51的阻抗變換器使用。通過選擇合適尺寸的矩形槽13、14，可以使固定傳輸線51兩端具有良好的阻抗匹配特性。圖5顯示的是圖 3中A部分的放大結(jié)構(gòu)俯視圖，第四絕緣介質(zhì)片64和第八絕緣介質(zhì)片68分別平置于介質(zhì)基板3的上下兩側(cè)。第四絕緣介質(zhì)片64的上端開有兩個形狀相同的矩形槽13、14 ;同樣的， 第八絕緣介質(zhì)片68的相同位置也開設(shè)有矩形槽13、14 ;其中，矩形槽13與第八固定傳輸線 51d'中的每一段直線傳輸線均有交迭，矩形槽14與第四固定傳輸線51d中的每一段直線傳輸線均有交迭。由于第八絕緣介質(zhì)片68被介質(zhì)基板3遮擋且與第四絕緣介質(zhì)片64完全重疊，故未在圖中示出。當(dāng)?shù)谒慕^緣介質(zhì)片64與第八絕緣介質(zhì)片68在第四固定傳輸線51d 和第八固定傳輸線51d'上同步移動時，矩形槽14、13分別作為第四固定傳輸線51d和第八固定傳輸線51d'的阻抗變換器，使第四固定傳輸線51d和第八固定傳輸線51d'的兩端的阻抗匹配特性發(fā)生改變。
與現(xiàn)有技術(shù)二相比，本發(fā)明實(shí)施例采用了曲折傳輸線代替了直線傳輸線，將多段相互平行排列的直線傳輸線首尾相接，形成曲折傳輸線。通過折疊式的迂回設(shè)計(jì)，更加充分地利用了介質(zhì)基板3上的空間，成倍增加了固定傳輸線51的有效長度，從而成倍地增加了固定傳輸線51兩端差分相位變化的上限，使得本發(fā)明實(shí)施例提供的等相差分波束形成裝置可以在不增加長度和占用空間的前提下，為天線陣列提供更大的下傾角度。
為固定介質(zhì)基板3并使介質(zhì)基板保持平整，還可以在功率分配子單元52與第一金屬反射板I或第二金屬反射板2之間填充低損耗微波介質(zhì)材料(未示于圖中)，所述低損耗微波 介質(zhì)與絕緣介質(zhì)片6沒有交迭。
如圖4所示，本發(fā)明實(shí)施例中，所述滑動裝置4由兩個拉桿10，兩個拉桿導(dǎo)軌11和八個安裝在拉桿10上的插銷9組成。拉桿導(dǎo)軌11固定在第一金屬反射板I的上底面，即背向介質(zhì)基板3的一面。拉桿10可滑動地安裝在兩個拉桿導(dǎo)軌11之間，可在拉桿導(dǎo)軌11的導(dǎo)向作用下沿介質(zhì)基板3的長度延伸方向運(yùn)動。插銷9的一端固定在拉桿10上，另一端與對應(yīng)位置的絕緣介質(zhì)片6固定連接。具體地，每個絕緣介質(zhì)片6上均開設(shè)有兩個定位孔 15，所述插銷9穿過對應(yīng)位置的定位孔15，與絕緣介質(zhì)片6固定連接。當(dāng)兩個拉桿10同時受力同步移動時，絕緣介質(zhì)片6隨拉桿10和插銷9同步移動，通過改變絕緣介質(zhì)片6與固定傳輸線51的相對位置，可以改變固定傳輸線51兩端的電信號的相位。
第一金屬反射板I上的限位滑槽11、介質(zhì)基板3上的限位滑槽31和第二金屬反射板2上的限位滑槽21被制作成腰圓形，用于供插銷9插入并移動，每一個插銷9在第一金屬反射板1、介質(zhì)基板3和第二金屬反射板2上都分別有一個對應(yīng)的限位滑槽11、31或21。 所述限位滑槽11、31和21起限制滑動裝置4移動范圍的作用，控制絕緣介質(zhì)片6移動的始末位置。當(dāng)拉桿10移動時，插銷9在限位滑槽11、31和21的始末位置之間移動，所有絕緣介質(zhì)片6也同步移動，并且在移動過程中僅與饋線網(wǎng)絡(luò)5中的固定傳輸線51有交迭。
以第一饋線網(wǎng)絡(luò)5a為例，當(dāng)本發(fā)明實(shí)施例提供的等相差分波束形成裝置饋電時， 信號從輸入口 20輸入，從輸出口 21、22、23、24、25輸出，當(dāng)所有絕緣介質(zhì)片6隨拉桿10向介質(zhì)基板3的上方移動時,第一固定傳輸線51a、第二固定傳輸線51b兩端的可變超前信號變化量和第三固定傳輸線51c、第四固定傳輸線51d兩端的可變延遲信號變化量相等，即信號經(jīng)過第一固定傳輸線51a或第二固定傳輸線51b時會分別產(chǎn)生一個差分相位+ Λ，信號經(jīng)過第三固定傳輸線51c或第四固定傳輸線51d時會產(chǎn)生一個相反的差分相位-Λ。
于是，從輸入口 20至輸出口 21的傳輸信號依次經(jīng)過第二固定傳輸線51b和第一固定傳輸線51a,產(chǎn)生+2 Λ的差分相位；從輸入口 20至輸出口 22的傳輸信號經(jīng)過第二固定傳輸線51b，產(chǎn)生+ Λ的差分相位； 從輸入端口 20至輸出口 23的傳輸信號經(jīng)未過固定傳輸線51，產(chǎn)生的差分相位為O ; 從輸入口 20至輸出口 24的傳輸信號經(jīng)過第三固定傳輸線51c,產(chǎn)生-Λ的差分相位； 從輸入口 20至輸出口 25的傳輸信號依次經(jīng)過第三固定傳輸線51c和第四固定傳輸線 51d，產(chǎn)生-2 Λ的差分相位。
相應(yīng)的，第二饋線網(wǎng)絡(luò)5b產(chǎn)生差分相位的原理與第一饋線網(wǎng)絡(luò)5a類似，在此不再贅述。
因此，當(dāng)本發(fā)明實(shí)施例的等相差分波束形成裝置的輸出端口 21、22、23、24、25或 21'、22'、23'、24'、25'分別連接五個雙極化的天線輻射單元(未示于圖中)并組成基站天線時，通過拉桿10同步移動絕緣介質(zhì)片6，對應(yīng)的輻射單元的輸入信號的相位發(fā)生線性變化，從而實(shí)現(xiàn)天線波束電下傾的功能。
以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種等相差分波束形成裝置，其特征在于，包括第一金屬反射板、第二金屬反射板、絕緣介質(zhì)片、滑動裝置、介質(zhì)基板和蝕刻于介質(zhì)基板上的饋線網(wǎng)絡(luò)；所述饋線網(wǎng)絡(luò)包括相互串聯(lián)的固定傳輸線和功率分配子単元，每段固定傳輸線與兩個絕緣介質(zhì)片構(gòu)成一個移相器子単元，所述兩個絕緣介質(zhì)片分別設(shè)置在介質(zhì)基板的上底面和下底面，并且正對所述固定傳輸線設(shè)置；所述介質(zhì)基板和絕緣介質(zhì)片夾在第一金屬反射板和第二金屬反射板之間；所述第一金屬反射板和介質(zhì)基板上設(shè)有限位滑槽，所述滑動裝置依次穿過第一金屬反射板和介質(zhì)基板上的限位滑槽，與介質(zhì)基板兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片連接，用于在限位滑槽的始末位置之間，帶動多個絕緣介質(zhì)片在各自對應(yīng)的固定傳輸線上同步移動，所述絕緣介質(zhì)片在移動過程中僅與饋線網(wǎng)絡(luò)中的固定傳輸線有交迭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述滑動裝置包括拉桿、拉桿導(dǎo)軌和插銷，拉桿導(dǎo)軌固定于第一金屬反射板背向介質(zhì)基板的ー側(cè)，所述拉桿可滑動地安裝于拉桿導(dǎo)軌上，所述插銷一端固定連接于拉桿上，另一端依次穿過第一金屬反射板和介質(zhì)基板上的限位滑槽，且與介質(zhì)基板兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片固定連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等相差分波束形成裝置，其特征在干，所述絕緣介質(zhì)片上開設(shè)有定位孔，所述插銷穿過定位孔，與絕緣介質(zhì)片固定連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等相差分波束形成裝置，其特征在干，所述第二金屬反射板上也設(shè)有限位滑槽，所述插銷還穿過第二金屬反射板上的限位滑槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在干，每個絕緣介質(zhì)片至少具有ー個阻抗變換部分，在每個移相器子単元中，兩個絕緣介質(zhì)片上的阻抗變換部分均與對應(yīng)的固定傳輸線有交迭。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述固定傳輸線為曲折傳輸線，所述曲折傳輸線包括多段直線傳輸線和連接傳輸線；所述多段直線傳輸線相互平行排列，沿絕緣介質(zhì)片的移動方向延伸；所述多段直線傳輸線通過連接傳輸線依次首尾相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等相差分波束形成裝置，其特征在干，每個絕緣介質(zhì)片至少具有ー個阻抗變換部分，在每個移相器子単元中，兩個絕緣介質(zhì)片上的阻抗變換部分與對應(yīng)的曲折傳輸線中的每一段直線傳輸線均有交迭。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述功率分配子単元與所述金屬反射板之間填充有低損耗微波介質(zhì)材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，分布于介質(zhì)基板上底面和下底面的絕緣介質(zhì)片關(guān)于介質(zhì)基板対稱。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種等相差分波束形成裝置，其包括第一金屬反射板、第二金屬反射板、絕緣介質(zhì)片、滑動裝置、介質(zhì)基板和蝕刻于介質(zhì)基板上的饋線網(wǎng)絡(luò)；所述介質(zhì)基板和絕緣介質(zhì)片夾在第一金屬反射板和第二金屬反射板之間；所述滑動裝置與絕緣介質(zhì)片連接，用于帶動多個絕緣介質(zhì)片同步移動，所述絕緣介質(zhì)片在移動過程中僅與饋線網(wǎng)絡(luò)中的固定傳輸線有交迭。本發(fā)明提供的等相差分波束形成裝置，在移動過程中，不與功率分配子單元交迭，避免了絕緣介質(zhì)片對饋線網(wǎng)絡(luò)造成多余的損耗。同時，多塊小型絕緣介質(zhì)片代替整塊大型絕緣體的設(shè)計(jì)既解決了絕緣體容易彎曲變形的問題，又降低了等相差分波束形成裝置的制造成本。
文檔編號H01Q1/00GK103050764SQ201210546668
公開日2013年4月17日 申請日期2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月17日
發(fā)明者吳壁群, 劉玉 申請人:廣東博緯通信科技有限公司