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包括二維材料的半導(dǎo)體器件以及制造該半導(dǎo)體器件的方法與流程

文檔序號(hào):11810197閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
示例實(shí)施方式涉及包括二維(2D)材料的半導(dǎo)體器件以及制造該半導(dǎo)體器件的方法。一種半導(dǎo)體器件可以是包括至少一種摻雜的2D材料的光電器件。光電器件可以包括:第一電極;第二電極;以及在第一電極和第二電極之間的半導(dǎo)體層。第一電極和第二電極中的至少一個(gè)可以包括摻雜的石墨烯。半導(dǎo)體層可以具有大于或等于大約0.1eV的內(nèi)建電勢(shì),或者大于或等于大約0.3eV的內(nèi)建電勢(shì)。第一電極和第二電極中的其中之一可以包括p摻雜的石墨烯,另一個(gè)可以包括n摻雜的石墨烯。備選地,第一電極和第二電極中的其中之一可以包括p摻雜或n摻雜的石墨烯,另一個(gè)可以包括金屬性材料。

技術(shù)研發(fā)人員:許鎮(zhèn)盛;李基榮;李相燁;李殷奎;李載昊;樸晟準(zhǔn)
受保護(hù)的技術(shù)使用者:三星電子株式會(huì)社
文檔號(hào)碼:201610157055
技術(shù)研發(fā)日:2016.03.18
技術(shù)公布日:2016.11.30

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