1.一種具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述單片清洗機(jī)臺(tái)設(shè)有腔體，所述腔體內(nèi)設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，用于放置硅片并帶動(dòng)其旋轉(zhuǎn)進(jìn)行清洗工藝，所述腔體設(shè)有排氣裝置，所述排氣裝置包括分設(shè)于腔體內(nèi)底部和側(cè)部的第一、第二排氣口，所述第二排氣口按不低于所述硅片表面的高度設(shè)置；
其中，通過所述第一排氣口，將清洗過程中產(chǎn)生的雜質(zhì)氣體從腔體內(nèi)的上部空間經(jīng)由硅片邊緣和腔體邊緣之間的空隙進(jìn)入腔體內(nèi)的底部空間排出腔體外，同時(shí)，通過所述第二排氣口，對(duì)硅片上方空間中的雜質(zhì)氣體進(jìn)行橫向分流并快速排出腔體外，以避免雜質(zhì)氣體滯留于硅片上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述第二排氣口活動(dòng)設(shè)于所述腔體的側(cè)部，其設(shè)置高度可調(diào)節(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述第二排氣口的角度可調(diào)節(jié)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述第二排氣口在所述腔體的側(cè)部對(duì)稱設(shè)置2-4個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述第二排氣口為喇叭口。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述喇叭口為扁嘴形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述第二排氣口通過排氣管連接至廢氣回收裝置，所述排氣管設(shè)有抽氣泵。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述排氣管設(shè)有壓力表。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述排氣管設(shè)有流量計(jì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺(tái)，其特征在于，還包括一控制單元，用于控制所述第二排氣口以上下移動(dòng)及多角度擺動(dòng)方式，將硅片上方空間中的雜質(zhì)氣體快速排出腔體外，并控制流經(jīng)所述第二排氣口的氣體壓力及流量。