技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種具有增強(qiáng)腔體排氣效果的排氣裝置的單片清洗機(jī)臺，在腔體內(nèi)設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺，用于放置硅片并帶動其旋轉(zhuǎn)進(jìn)行清洗工藝，所述腔體設(shè)有排氣裝置，排氣裝置包括分設(shè)于腔體內(nèi)底部和側(cè)部的第一、第二排氣口，第二排氣口按不低于硅片表面的高度設(shè)置；通過在腔體側(cè)部增設(shè)排氣口，可以改善腔體的排氣效果，使得硅片上方的酸氣、堿氣及水汽等雜質(zhì)氣體可以盡快通過腔體側(cè)部的排氣口排出，從而減少雜質(zhì)氣體在硅片上方的滯留時間及掉落到硅片表面形成缺陷的可能性，因此提高了產(chǎn)品品質(zhì)。

技術(shù)研發(fā)人員：吳軍;倉凌盛;張傳民
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海華力微電子有限公司
文檔號碼：201610884311
技術(shù)研發(fā)日：2016.10.10
技術(shù)公布日：2017.02.15