技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種濕膜處理裝置、系統(tǒng)和方法，該濕膜處理裝置包括一密封腔體，該密封腔體包括底部和氣體接入口，底部設(shè)置有至少一個(gè)通孔，用于將通入該氣體接入口的氣體從密封腔體內(nèi)排出至待處理濕膜表面；該濕膜處理裝置還包括一超聲發(fā)生器，該超聲發(fā)生器固定地設(shè)置于密封腔體內(nèi)，該超聲發(fā)生器發(fā)出的超聲振動(dòng)經(jīng)由密封腔體和上述氣體傳遞至待處理濕膜。該濕膜處理裝置解決了現(xiàn)有技術(shù)制作的發(fā)光器件膜層均勻性差的問題，實(shí)現(xiàn)了提高濕膜干燥成膜后膜層的均勻性和提高發(fā)光器件的發(fā)光質(zhì)量的效果。

技術(shù)研發(fā)人員：王兵;杜勇
受保護(hù)的技術(shù)使用者：納晶科技股份有限公司
文檔號(hào)碼：201610891163
技術(shù)研發(fā)日：2016.10.13
技術(shù)公布日：2017.05.10