本發(fā)明涉及半導(dǎo)體硅片清洗，具體為一種新型的半片清洗方法。

背景技術(shù)：

1、傳統(tǒng)的半導(dǎo)體硅片清洗方法，如基于化學(xué)溶液浸泡的清洗方式，雖然能夠去除部分表面雜質(zhì)，但容易殘留化學(xué)藥劑，對后續(xù)的制造工序產(chǎn)生負(fù)面影響，而一些物理清洗方法，像高壓水射流清洗，雖能有效去除顆粒污染物，卻可能因過高的沖擊力導(dǎo)致半片出現(xiàn)微裂紋等機(jī)械損傷，影響產(chǎn)品的良品率與性能；

2、引用中國公開號為“cn220049157u”的實(shí)用新型專利，包括清洗機(jī)、支撐機(jī)構(gòu)和噴淋機(jī)構(gòu)，清洗機(jī)頂部的正面開設(shè)有清洗腔，支撐機(jī)構(gòu)活動(dòng)設(shè)置于清洗腔的底部，噴淋機(jī)構(gòu)設(shè)置于清洗腔的頂部；支撐機(jī)構(gòu)包括固定連接于清洗腔底端內(nèi)壁的支架和轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于支架內(nèi)部的清洗底座。

3、現(xiàn)有裝置大多采用噴淋對的方式對硅片進(jìn)行清洗，這樣清洗完成后的半導(dǎo)體硅片的清洗效果不好，導(dǎo)致部分半導(dǎo)體硅片表面的仍然有很多殘留的雜質(zhì)顆粒，達(dá)不到清洗效果的好的目的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種新型的半片清洗方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種新型的半片清洗方法，包括底座，所述底座的頂部固定連接有清洗箱，所述清洗箱的背面固定連接有控制箱體，所述控制箱體的內(nèi)部固定連接有移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括支撐梁，所述支撐梁的表面固定連接有第一支撐板，所述第一支撐板的表面固定連接有傾斜固定機(jī)構(gòu)，所述支撐梁的頂部固定連接有刮泥機(jī)構(gòu)，所述清洗箱的內(nèi)部固定連接有加熱裝置，且清洗箱的內(nèi)部還固定連接有溫度計(jì)，所述清洗箱的底部固定連接有氣泡發(fā)生機(jī)構(gòu)；

3、氣泡發(fā)生機(jī)構(gòu)包括：

4、入氣管道，所述入氣管道固定連接在清洗箱的底部；

5、第一管道，所述第一管道固定連接在清洗箱的內(nèi)部，且入氣管道的表面固定連接有第一管道，所述第一管道的表面固定連接有第二管道，所述第二管道的表面固定連接有出氣裝置，且第二管道的數(shù)量有七個(gè)。

6、優(yōu)選的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括伸縮機(jī)，所述伸縮機(jī)固定連接在清洗箱的底部，所述伸縮機(jī)的內(nèi)部固定連接有伸縮桿，所述伸縮桿的表面固定連接有滑動(dòng)支撐板，且支撐梁固定連接在滑動(dòng)支撐板的表面，切滑動(dòng)支撐板滑動(dòng)連接在控制箱體的內(nèi)部。

7、優(yōu)選的，所述傾斜固定機(jī)構(gòu)包括第一電機(jī)，所述第一電機(jī)的內(nèi)部通過輸出軸固定連接有第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸，且第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接在第一支撐板的內(nèi)部，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸的頂部固定連接有角度傾斜測量裝置，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸的表面固定連接有承載塊。

8、優(yōu)選的，所述承載塊的表面固定連接有齒輪，所述承載塊的表面還固定連接有第二固定塊，所述第二固定塊的表面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第二轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊，所述第二固定塊的表面還固定連接有彈性連接桿，所述彈性連接桿的表面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第三轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊。

9、優(yōu)選的，所述承載塊的表面固定連接有第一固定塊，所述第一固定塊的內(nèi)部滑動(dòng)連接有滑塊，所述滑塊的表面固定連接有限位滑塊，所述滑塊的底部固定連接有弧形彈簧，且弧形彈簧固定連接在第一固定塊的內(nèi)部。

10、優(yōu)選的，所述滑塊的表面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第一轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊，所述齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)連接在第一支撐板的表面，所述齒輪與齒輪帶嚙合連接。

11、優(yōu)選的，所述刮泥機(jī)構(gòu)包括第二支撐板，所述第二支撐板固定連接在支撐梁的頂部，所述第二支撐板的表面固定連接有第二電機(jī)，所述第二電機(jī)的內(nèi)部通過輸出軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接有皮帶，所述皮帶的表面固定連接有刮板，所述清洗箱的內(nèi)部固定連接有擋板。

12、一種新型的半片清洗方法：

13、s1、將硅片從第一轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊位置向下方移動(dòng)，從而使硅片固定在第一固定塊內(nèi)部；

14、s2、控制啟動(dòng)伸縮機(jī)，伸縮機(jī)的啟動(dòng)帶動(dòng)滑動(dòng)支撐板向下方移動(dòng)，以便將硅片浸末在清洗箱內(nèi)的切削液中；

15、s3、控制微納米氣泡發(fā)生裝置工作，隨后啟動(dòng)第一電機(jī)，第一電機(jī)啟動(dòng)后帶動(dòng)承載塊轉(zhuǎn)動(dòng)，最終使硅片傾斜一定的角度；

16、s4、控制啟動(dòng)第二電機(jī)，第二電機(jī)啟動(dòng)后帶動(dòng)皮帶表面的刮板及時(shí)的將清洗產(chǎn)生的雜質(zhì)掃入清洗箱的側(cè)邊槽內(nèi)，最終實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體硅片的清洗。

17、本發(fā)明提供了一種新型的半片清洗方法。具備以下有益效果：

18、1、該一種新型的半片清洗方法，通過設(shè)置七個(gè)第二管道，可以使出氣裝置口出的微納米氣泡均勻地分布在清洗箱內(nèi)部，覆蓋硅片的各個(gè)部位，避免出現(xiàn)清洗死角，確保硅片的整個(gè)表面都能得到充分清洗，從而提高裝置的清洗效果。

19、2、該一種新型的半片清洗方法，通過設(shè)置刮板，通過第二電機(jī)的啟動(dòng)帶動(dòng)刮板持續(xù)的工作，及時(shí)將清洗下來的雜質(zhì)刮離清洗箱的內(nèi)部，從而及時(shí)的將其轉(zhuǎn)移到收集雜質(zhì)的位置，避免這些雜質(zhì)在清洗液中重新附著到硅片上，造成二次污染，同時(shí)加快清洗箱內(nèi)部切削液的均勻混合，使清洗箱內(nèi)部的清洗液溫度分布更均勻，從而增強(qiáng)硅片的清洗的效果。

20、3、該一種新型的半片清洗方法，通過設(shè)置多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊，有效限制硅片的晃動(dòng)和振動(dòng)，防止硅片在清洗液流動(dòng)或微納米氣泡沖擊時(shí)發(fā)生位移或晃動(dòng)，使氣泡破裂產(chǎn)生的微射流和沖擊波等物理作用能均勻地施加在硅片表面，確保清洗的均勻性，從而提高裝置的清洗效果。

21、4、該一種新型的半片清洗方法，通過在承載塊的表面設(shè)置第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸與齒輪，通過啟動(dòng)第一電機(jī)，能使微納米氣泡從不同方向沖擊硅片表面，避免出現(xiàn)清洗死角，同時(shí)提高微納米氣泡的利用率，能讓氣泡在硅片表面的破裂更充分，產(chǎn)生更強(qiáng)的微射流和沖擊波，加快污垢的剝離速度，從而進(jìn)一步提高裝置的清洗效果。

技術(shù)特征：

1.一種新型的半片清洗裝置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的頂部固定連接有清洗箱（2），所述清洗箱（2）的背面固定連接有控制箱體（3），所述控制箱體（3）的內(nèi)部固定連接有移動(dòng)機(jī)構(gòu)（4），所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)（4）包括支撐梁（44），所述支撐梁（44）的表面固定連接有第一支撐板（45），所述第一支撐板（45）的表面固定連接有傾斜固定機(jī)構(gòu)（5），所述支撐梁（44）的頂部固定連接有刮泥機(jī)構(gòu)（6），所述清洗箱（2）的內(nèi)部固定連接有加熱裝置（8），且清洗箱（2）的內(nèi)部還固定連接有溫度計(jì)（9），所述清洗箱（2）的底部固定連接有氣泡發(fā)生機(jī)構(gòu)（7）；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型的半片清洗裝置，其特征在于：所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)（4）包括伸縮機(jī)（41），所述伸縮機(jī)（41）固定連接在清洗箱（2）的底部，所述伸縮機(jī)（41）的內(nèi)部固定連接有伸縮桿（42），所述伸縮桿（42）的表面固定連接有滑動(dòng)支撐板（43），且支撐梁（44）固定連接在滑動(dòng)支撐板（43）的表面，切滑動(dòng)支撐板（43）滑動(dòng)連接在控制箱體（3）的內(nèi)部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型的半片清洗裝置，其特征在于：所述傾斜固定機(jī)構(gòu)（5）包括第一電機(jī)（51），所述第一電機(jī)（51）的內(nèi)部通過輸出軸固定連接有第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸（52），且第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸（52）轉(zhuǎn)動(dòng)連接在第一支撐板（45）的內(nèi)部，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸（52）的頂部固定連接有角度傾斜測量裝置（53），所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸（52）的表面固定連接有承載塊（56）。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種新型的半片清洗裝置，其特征在于：所述承載塊（56）的表面固定連接有齒輪（54），所述承載塊（56）的表面還固定連接有第二固定塊（512），所述第二固定塊（512）的表面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第二轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊（513），所述第二固定塊（512）的表面還固定連接有彈性連接桿（514），所述彈性連接桿（514）的表面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第三轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊（515）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種新型的半片清洗裝置，其特征在于：所述承載塊（56）的表面固定連接有第一固定塊（57），所述第一固定塊（57）的內(nèi)部滑動(dòng)連接有滑塊（59），所述滑塊（59）的表面固定連接有限位滑塊（510），所述滑塊（59）的底部固定連接有弧形彈簧（58），且弧形彈簧（58）固定連接在第一固定塊（57）的內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種新型的半片清洗裝置，其特征在于：所述滑塊（59）的表面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第一轉(zhuǎn)動(dòng)支撐塊（511），所述齒輪（54）轉(zhuǎn)動(dòng)連接在第一支撐板（45）的表面，所述齒輪（54）與齒輪帶（55）嚙合連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種新型的半片清洗裝置，其特征在于：所述刮泥機(jī)構(gòu)（6）包括第二支撐板（61），所述第二支撐板（61）固定連接在支撐梁（44）的頂部，所述第二支撐板（61）的表面固定連接有第二電機(jī)（62），所述第二電機(jī)（62）的內(nèi)部通過輸出軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接有皮帶（63），所述皮帶（63）的表面固定連接有刮板（64），所述清洗箱（2）的內(nèi)部固定連接有擋板（65）。

8.一種新型的半片清洗的方法，使用權(quán)利要求7所述的一種新型的半片清洗裝置實(shí)施，其特征在于：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種新型的半片清洗方法，涉及半導(dǎo)體硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域。該新型的半片清洗方法，包括底座所述底座的頂部固定連接有清洗箱，所述清洗箱的背面固定連接有控制箱體，所述控制箱體的內(nèi)部固定連接有移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括支撐梁，所述支撐梁的表面固定連接有第一支撐板，所述第一支撐板的表面固定連接有傾斜固定機(jī)構(gòu)。該新型的半片清洗方法，通過在承載塊的表面設(shè)置第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸與齒輪，通過啟動(dòng)第一電機(jī)，能使微納米氣泡從不同方向沖擊硅片表面，避免清洗死角，同時(shí)提高微納米氣泡的利用率，能讓氣泡在硅片表面的破裂更充分，產(chǎn)生更強(qiáng)的微射流和沖擊波，加快污垢的剝離速度，從而進(jìn)一步提高裝置的清洗效果。

技術(shù)研發(fā)人員：彭云祥,周兵,羅金平,胡小輝
受保護(hù)的技術(shù)使用者：云南宇澤新能源股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15