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發(fā)聲裝置的制作方法

文檔序號(hào):41951065發(fā)布日期:2025-05-16 14:11閱讀:3來源:國(guó)知局
發(fā)聲裝置的制作方法

本發(fā)明涉及揚(yáng)聲器,特別涉及一種發(fā)聲裝置。


背景技術(shù):

1、目前市場(chǎng)上的同軸揚(yáng)聲器,常規(guī)結(jié)構(gòu)基本都是高音揚(yáng)聲器放到低音揚(yáng)聲器的t鐵中柱上,高音在低音音圈內(nèi)部,在低音振動(dòng)發(fā)聲時(shí),一部分氣流會(huì)從低音音圈和高音的間隙泄漏,不能實(shí)現(xiàn)密閉,從而低頻的下潛會(huì)變差,聲音會(huì)不純,這樣導(dǎo)致常規(guī)同軸揚(yáng)聲器,不能實(shí)現(xiàn)密閉防水等要求,應(yīng)用場(chǎng)景非常局限。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的主要目的是提出一種發(fā)聲裝置,旨在解決傳統(tǒng)的同軸揚(yáng)聲器結(jié)構(gòu)在使用的過程中低頻的下潛較差,聲音會(huì)不純并且難以滿足防水要求,應(yīng)用場(chǎng)景非常局限的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出的發(fā)聲裝置,包括:

3、裝置殼體;以及,

4、振膜結(jié)構(gòu),包括均設(shè)于所述裝置殼體的同一側(cè)的多個(gè)振膜,各所述振膜均能夠被獨(dú)立驅(qū)動(dòng)發(fā)聲,多個(gè)所述振膜包括呈相鄰設(shè)置的兩個(gè)鄰設(shè)振膜,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜中的至少一個(gè)呈環(huán)狀設(shè)置,以使得兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜能夠沿內(nèi)外向布設(shè);

5、其中,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜在內(nèi)外向間隔設(shè)置,且通過密封連接部連接,和/或,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜至少部分相互疊設(shè),以使得所述發(fā)聲裝置在所述振膜結(jié)構(gòu)的一側(cè)至少部分呈密封設(shè)置。



技術(shù)特征:

1.一種發(fā)聲裝置,其特征在于,包括:

2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,多個(gè)所述振膜包括由外向內(nèi)依次布設(shè)的第一振膜、第二振膜以及第三振膜,所述第一振膜和所述第二振膜呈環(huán)狀設(shè)置;

3.如權(quán)利要求2所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述發(fā)聲裝置還包括音圈結(jié)構(gòu),所述音圈結(jié)構(gòu)包括第一音圈、第二音圈以及第三音圈,所述第一音圈對(duì)應(yīng)驅(qū)動(dòng)所述第一振膜振動(dòng)發(fā)聲,所述第二音圈對(duì)應(yīng)驅(qū)動(dòng)所述第二振膜振動(dòng)發(fā)聲,所述第三音圈對(duì)應(yīng)驅(qū)動(dòng)所述第三振膜振動(dòng)發(fā)聲;

4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述發(fā)聲裝置還包括:

5.如權(quán)利要求4所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜包括處在外側(cè)的第一振膜以及處在內(nèi)側(cè)的第二振膜;

6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述發(fā)聲裝置還包括磁路結(jié)構(gòu),在所述磁路結(jié)構(gòu)上形成有第一磁路和第二磁路;

7.如權(quán)利要求6所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述第一導(dǎo)磁體包括:

8.如權(quán)利要求7所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述磁路結(jié)構(gòu)還包括設(shè)于所述盤體上的第一環(huán)形磁體,設(shè)于所述第一環(huán)形磁體上的第一華司,所述第一環(huán)形磁體和所述第一華司均處在所述第一磁路上;和/或,

9.如權(quán)利要求6所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,在所述磁路結(jié)構(gòu)上形成有第三磁路,多個(gè)所述振膜還包括處在所述第二振膜內(nèi)的第三振膜;

10.如權(quán)利要求9所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述發(fā)聲裝置還包括安裝支架,所述安裝支架的一端連接于所述第一導(dǎo)磁體,在所述安裝支架的另一端形成有容置槽,所述第三振膜罩設(shè)在所述容置槽的槽口處;

11.如權(quán)利要求10所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述第一導(dǎo)磁體的中部位置呈中空設(shè)置以形成穿設(shè)孔;

12.如權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜包括處在外側(cè)的第一振膜以及處在內(nèi)側(cè)的第二振膜;

13.如權(quán)利要求12所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述第一音圈電連接有第一接引線,所述第二音圈電連接有第二接引線;


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種發(fā)聲裝置,涉及揚(yáng)聲器技術(shù)領(lǐng)域,其中,所述發(fā)聲裝置包括裝置殼體和振膜結(jié)構(gòu),振膜結(jié)構(gòu)包括均設(shè)于所述裝置殼體的同一側(cè)的多個(gè)振膜,各所述振膜均能夠被獨(dú)立驅(qū)動(dòng)發(fā)聲,多個(gè)所述振膜包括呈相鄰設(shè)置的兩個(gè)鄰設(shè)振膜,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜中的至少一個(gè)呈環(huán)狀設(shè)置,以使得兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜能夠沿內(nèi)外向布設(shè),其中,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜在內(nèi)外向間隔設(shè)置,且通過密封連接部連接,和/或,兩個(gè)所述鄰設(shè)振膜至少部分相互疊設(shè),以使得所述發(fā)聲裝置在所述振膜結(jié)構(gòu)的一側(cè)至少部分呈密封設(shè)置。

技術(shù)研發(fā)人員:趙福彬,陳雙,陳信文
受保護(hù)的技術(shù)使用者:通力科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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