技術(shù)編號(hào)：41950344
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光學(xué)光刻制造，尤其涉及一種防止光刻機(jī)的光源窗片變形的方法、結(jié)構(gòu)、光源及光刻機(jī)。背景技術(shù)、隨著半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)芯片制程精度的不斷追求，光刻機(jī)光源技術(shù)也經(jīng)歷了從早期的汞燈光源到如今深紫外光源的跨越性發(fā)展。準(zhǔn)分子激光器是紫外波段重要的激光器件，依靠受激工作氣體形成的分子向基態(tài)躍遷產(chǎn)生激光。工作氣體一般是由惰性氣體和鹵素氣體組成。在準(zhǔn)分子激光器中，使用放電腔腔體為工作氣體放電提供空間。為了使激光能夠穿過(guò)工作氣體，在放電腔腔體上開(kāi)有窗口。窗片元件不僅需要對(duì)特定波長(zhǎng)或波段范圍的光有較高的透過(guò)率...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。