技術(shù)編號(hào)：41950766
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空鍍膜及薄膜潤(rùn)滑，尤其涉及一種通過貴金屬微摻雜改善磁控濺射二硫化鉬薄膜質(zhì)量同時(shí)提升摩擦性能的方法。背景技術(shù)、二硫化鉬材料因其獨(dú)特的二維層狀結(jié)構(gòu)（層內(nèi)為s-mo-s共價(jià)鍵合，層間為范德華力鍵合）賦予其優(yōu)秀的自潤(rùn)滑性能，自上世紀(jì)五十年代被開發(fā)作為航天專用潤(rùn)滑材料以來(lái)已被拓展用在諸多潤(rùn)滑領(lǐng)域。其中，工件表面添加二硫化鉬固體潤(rùn)滑薄膜是一種最常用的減摩降摩手段，其中以磁控濺射沉積為表面處理手段制備二硫化鉬薄膜最為常見，工藝特點(diǎn)是制備薄膜成分均勻可調(diào)節(jié)、結(jié)合力好等。、在目前磁控濺射沉積二硫化...
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