技術(shù)編號：41955041
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及導(dǎo)向自組裝光刻，具體是一種基于cma-es(covariance?matrixadaptation?evolution?strategy)的導(dǎo)向自組裝光刻引導(dǎo)模版優(yōu)化方法、導(dǎo)向自組裝光刻系統(tǒng)及介質(zhì)。背景技術(shù)、導(dǎo)向自組裝光刻(dsa)技術(shù)，作為集成電路制造的一項圖形化技術(shù)，其核心是利用嵌段共聚物(block?copolymers,bcps)在特定幾何結(jié)構(gòu)的引導(dǎo)模版中的自組裝，形成集成電路制造中所需的微納結(jié)構(gòu)。對于孔圖形的圖案化，可以通過光刻制得一個特定形狀的引導(dǎo)模版，填充嵌段共聚物材料...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。