技術(shù)編號：41959114
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，尤其涉及一種穿墻式邊緣曝光單元和涂膠顯影設(shè)備。背景技術(shù)、在光刻膠旋涂膠過程中，在離心力的作用下，光刻膠在晶圓表面擴展，從而均勻的涂覆在晶圓的整個表面。但是由于晶圓邊緣部分不能用來進行圖形加工，所以在光刻機中晶圓邊緣部分不會進行曝光。在這種情況下，如果選擇正性光刻膠，那么在顯影工藝之后，光刻膠仍然會留在晶圓邊緣，在晶圓傳片過程中，如發(fā)生光刻膠剝離，會污染晶圓表面，降低成品率，為了防止這種不良情況的發(fā)生，在涂膠顯影機中會設(shè)置邊緣曝光裝置，對晶圓邊緣位置進行曝光，然后進行顯影，...
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