1.一種基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,s1中,所述結(jié)構(gòu)參數(shù)包含空間群、晶胞參數(shù)、原子分數(shù)坐標、原子種類和對稱操作,保存在結(jié)構(gòu)模型文件中;所述儀器參數(shù)數(shù)據(jù)包括x射線的波長和靶材類型,保存在儀器參數(shù)文件中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,s2具體包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,所述x射線粉末衍射精修引擎軟件為gsas-ii、fullprof和topas中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,所述基于結(jié)構(gòu)參數(shù)和儀器參數(shù)設(shè)計不同精修策略,通過調(diào)整結(jié)構(gòu)參數(shù)和儀器參數(shù)的順序獲得。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,所述第二次精修具體包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法,其特征在于,所述精修擬合因子為峰形擬合因子、權(quán)重擬合因子、擬合優(yōu)度因子和期望擬合因子中的任意一種。
8.一種實現(xiàn)權(quán)利要求1~7所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法的系統(tǒng),其特征在于,包括:
9.一種計算機設(shè)備,包括存儲器和處理器,所述存儲器存儲有計算機程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行計算機程序時實現(xiàn)權(quán)利要求1~7中任意一項所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法的步驟。
10.一種計算機可讀存儲介質(zhì),所述計算機可讀存儲介質(zhì)存儲有計算機程序,其特征在于,所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)權(quán)利要求1~7中任意一項所述基于隨機一次性精修的自動化晶體結(jié)構(gòu)精修分析方法的步驟。