專利名稱：真空顯影機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯影技術(shù)，具體為一種真空顯影機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
通常的顯影機(jī)構(gòu)，顯影腔體都是敞開式的。顯影工藝是集成電路、分立器件 制造以及微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS，Micro-Electro-Mechanical Systems)、硅通孔(TSV， Through-Silicon-Via)先進(jìn)封裝技術(shù)等生產(chǎn)中的一項(xiàng)重要的基本工藝。在MEMS、TSV器件顯影工藝中，因?yàn)榛弦延凶骱玫膱D形，多為較深的溝槽結(jié)構(gòu) 及深孔，此時(shí)在顯影過程中由于溝槽或深孔底部積聚有空氣，顯影液噴灑到基片表面后在 溝槽、深孔底部容易形成氣泡，這樣就會(huì)造成顯影不足甚至顯不到的情況。如果單純?cè)龃笠?量或顯影時(shí)間，則可能出現(xiàn)部分區(qū)域過顯。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種真空顯影機(jī)構(gòu)，解決現(xiàn)有技術(shù)在已有圖形的基片表面 進(jìn)行曝光后，顯影時(shí)容易出現(xiàn)圖形底部顯影不足甚至顯不到等問題。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種真空顯影機(jī)構(gòu)，該真空顯影機(jī)構(gòu)設(shè)有主軸、承片臺(tái)、噴頭、上蓋、顯影腔體，上 蓋和顯影腔體扣合，上蓋和顯影腔體之間加有密封圈；承片臺(tái)和承片臺(tái)底部的主軸連接，主 軸和顯影腔體間裝有密封圈，顯影和清洗的噴頭裝在上蓋上。所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，噴頭一端伸至上蓋內(nèi)側(cè)，與承片臺(tái)上的基片對(duì)應(yīng)，噴頭另一 端連接供液管路。所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，上蓋外側(cè)連接氣缸，上蓋的開合由氣缸驅(qū)動(dòng)。所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，顯影腔體接有排液管路、真空管路、氮?dú)夤苈泛痛髿夤苈罚?在各管路上分別設(shè)有閥門。所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，基片通過真空吸附在承片臺(tái)上，真空吸附的管路穿過主軸 和承片臺(tái)至基片底部。所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，在顯影時(shí)，該真空顯影機(jī)構(gòu)的顯影腔體為真空腔體，顯影工 藝過程在真空環(huán)境下完成。本發(fā)明的有益效果是1、本發(fā)明真空顯影機(jī)構(gòu)，在真空環(huán)境下加快氣體排出，使得顯影液能夠充分和基 片接觸，保證了良好的顯影效果。2、本發(fā)明設(shè)計(jì)了帶上蓋的密閉顯影腔體結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)在真空環(huán)境下顯影，以使 顯影液能夠充分和基片接觸，使溝槽或深孔結(jié)構(gòu)也能得到良好的顯影效果。


圖1-圖2為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。其中，圖1為主視圖；圖2為側(cè)視圖。
圖中，1主軸；2密封圈；3承片臺(tái)；4噴頭；5密封圈；6供液管路；7上蓋；8顯影腔 體；9閥門；10氣缸；11基片。
具體實(shí)施例方式如圖1-2所示，本發(fā)明真空顯影機(jī)構(gòu)主要包括主軸1、密封圈2、承片臺(tái)3、噴頭4、 密封圈5、供液管路6、上蓋7、顯影腔體8、閥門9、氣缸10、基片11，上蓋7和顯影腔體8緊 密的扣在一起，上蓋7和顯影腔體8之間加有密封圈5，防止漏氣。為了保證噴液時(shí)顯影腔 體8的密封，顯影和清洗噴頭4裝在上蓋7上，上蓋7 —扣到顯影腔體8上，噴頭4就處于 工作位，可以按照設(shè)定好的程序噴灑顯影液和清洗液，噴頭4 一端伸至上蓋7內(nèi)側(cè)，與基片 11對(duì)應(yīng)，噴頭4另一端連接供液管路6。上蓋7外側(cè)連接氣缸10，上蓋7的開合由氣缸10 驅(qū)動(dòng)。顯影腔體8底部及側(cè)面接有排液(EXH)管路、真空(VAC)管路、氮?dú)?N2)管路和大 氣管路，在各管路上分別設(shè)有自動(dòng)閥門9，控制各管路的通斷。承片臺(tái)3和承片臺(tái)3底部的 主軸1連在一起，為了保證主軸旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下不會(huì)泄露，主軸1和顯影腔體8間也裝有密封圈 2?；?1通過真空(強(qiáng)于顯影腔體真空)吸附在承片臺(tái)3上，真空吸附的管路可以穿過 主軸1和承片臺(tái)3至基片11底部。在工作狀態(tài)下，基片11吸附在承片臺(tái)3上，上蓋7扣下后，排液(EXH)管路、氮?dú)?(N2)管路和大氣管路上的閥門關(guān)閉，真空(VAC)管路上的閥門9打開，將顯影腔體8內(nèi)抽 真空。在顯影時(shí)，該真空顯影機(jī)構(gòu)的顯影腔體為真空腔體，顯影工藝過程在真空環(huán)境下完 成。當(dāng)達(dá)到設(shè)定值時(shí)，停止抽氣，按設(shè)定要求噴顯影液、清洗液完成顯影工藝。然后，將排液 (EXH)管路上的閥門打開，同時(shí)顯影腔體8內(nèi)通入一定量氮?dú)庵螅P(guān)閉氮?dú)?N2)管路上的 閥門。最后，打開大氣管路上的閥門，以平衡內(nèi)外壓力方便開蓋。本發(fā)明裝置可作為核心模塊嵌入全自動(dòng)或獨(dú)立式半自動(dòng)顯影設(shè)備中，用于MEMS、 TSV顯影工藝中。
權(quán)利要求
一種真空顯影機(jī)構(gòu)，其特征在于該真空顯影機(jī)構(gòu)設(shè)有主軸、承片臺(tái)、噴頭、上蓋、顯影腔體，上蓋和顯影腔體扣合，上蓋和顯影腔體之間加有密封圈；承片臺(tái)和承片臺(tái)底部的主軸連接，主軸和顯影腔體間裝有密封圈，顯影和清洗的噴頭裝在上蓋上。
2.按照權(quán)利要求1所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，其特征在于噴頭一端伸至上蓋內(nèi)側(cè)，與承片 臺(tái)上的基片對(duì)應(yīng)，噴頭另一端連接供液管路。
3.按照權(quán)利要求1所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，其特征在于上蓋外側(cè)連接氣缸，上蓋的開合 由氣缸驅(qū)動(dòng)。
4.按照權(quán)利要求1所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，其特征在于顯影腔體接有排液管路、真空管 路、氮?dú)夤苈泛痛髿夤苈?，在各管路上分別設(shè)有閥門。
5.按照權(quán)利要求1所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，其特征在于基片通過真空吸附在承片臺(tái)上， 真空吸附的管路穿過主軸和承片臺(tái)至基片底部。
6.按照權(quán)利要求1所述的真空顯影機(jī)構(gòu)，其特征在于在顯影時(shí)，該真空顯影機(jī)構(gòu)的顯 影腔體為真空腔體，顯影工藝過程在真空環(huán)境下完成。
全文摘要
本發(fā)明涉及顯影技術(shù)，具體為一種真空顯影機(jī)構(gòu)，解決現(xiàn)有技術(shù)在已有圖形的基片表面進(jìn)行曝光后，顯影時(shí)容易出現(xiàn)圖形底部顯影不足甚至顯不到等問題。該真空顯影機(jī)構(gòu)設(shè)有主軸、承片臺(tái)、噴頭、上蓋、顯影腔體，上蓋和顯影腔體扣合，上蓋和顯影腔體之間加有密封圈；承片臺(tái)和承片臺(tái)底部的主軸連接，主軸和顯影腔體間裝有密封圈，顯影和清洗的噴頭裝在上蓋上。在顯影時(shí)，該真空顯影機(jī)構(gòu)的顯影腔體為真空腔體，顯影工藝過程在真空環(huán)境下完成。本發(fā)明裝置可作為核心模塊嵌入全自動(dòng)或獨(dú)立式半自動(dòng)顯影設(shè)備中，用于MEMS、TSV制成的顯影工藝中。
文檔編號(hào)G03F7/30GK101907834SQ200910011829
公開日2010年12月8日 申請(qǐng)日期2009年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月3日
發(fā)明者宗潤福, 陳焱 申請(qǐng)人:沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司