本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種光直寫成像設(shè)備以及系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

光刻技術(shù)是用于在襯底表面上印刷具有特征的構(gòu)圖，這樣的襯底可包括用于制造半導(dǎo)體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機(jī)械電子芯片、光電子線路芯片等的芯片。

目前，多數(shù)印制電路板(Printed Circuit Board，簡(jiǎn)稱PCB板)光直接成像系統(tǒng)都是采用連續(xù)型光源，使用脈沖光源必須與空間光調(diào)制器的頻率匹配。目前在印刷電路板無掩膜連續(xù)光直接成像系統(tǒng)中，空間光調(diào)制器多基于數(shù)字微鏡器件(Digital Micro mirror Device，簡(jiǎn)稱DMD)，待曝光基板在精密位移平臺(tái)上，精密位移平臺(tái)每移動(dòng)一段固定的距離，通過同步脈沖信號(hào)觸發(fā)空間光調(diào)制器的控制器，控制空間光調(diào)制器內(nèi)部的DMD鏡片復(fù)位并翻轉(zhuǎn)一次，DMD在這一個(gè)周期的復(fù)位及翻轉(zhuǎn)的過渡過程并不是我們需要的有效工作狀態(tài)。

但是，在這期間連續(xù)光的光源一直照射在DMD的微鏡上，帶來了其技術(shù)問題：在過渡過程光源一直在打開狀態(tài)，被微鏡反射的光會(huì)投射到成像鏡筒中成為雜散光，雜散光投射到基板上的部分會(huì)影響曝光效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種光直寫成像設(shè)備以及系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了在DMD微鏡翻轉(zhuǎn)的過渡過程中，關(guān)閉光源輸出，減少了成像系統(tǒng)雜散光，提高了印制電路板的曝光效果。

第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光直寫成像設(shè)備，包括：精密位移平臺(tái)、精密位移平臺(tái)控制器、空間光調(diào)制器、空間光調(diào)制器控制模塊、光源、光源控制器；

精密位移平臺(tái)每移動(dòng)一個(gè)設(shè)定的觸發(fā)距離，精密位移平臺(tái)控制器分別向空間光調(diào)制器控制模塊與光源控制器輸出一個(gè)脈沖信號(hào)；

空間光調(diào)制器控制模塊根據(jù)每次接收到的脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿，控制空間光調(diào)制器的內(nèi)部鏡片裝置運(yùn)行一個(gè)固定時(shí)間的過渡過程；

光源控制器根據(jù)每次接收到的脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿，控制光源發(fā)出脈沖光的占空比。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第一種可能的實(shí)施方式，其中，光源控制器在接收到脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)，控制光源延遲固定時(shí)間后發(fā)出脈沖光，并在接收到下一個(gè)脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)關(guān)閉光源。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第二種可能的實(shí)施方式，其中，過渡過程包括鏡片裝置復(fù)位與加載曝光數(shù)據(jù)。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第三種可能的實(shí)施方式，其中，光源為脈沖激光光源或脈沖LED光源。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第四種可能的實(shí)施方式，其中，鏡片裝置為數(shù)字微鏡器件或液晶裝置。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第五種可能的實(shí)施方式，其中，觸發(fā)沿為上升沿或下降沿。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第六種可能的實(shí)施方式，其中，精密位移平臺(tái)控制器用于控制精密位移平臺(tái)的移動(dòng)，移動(dòng)方式為在橫向做步進(jìn)運(yùn)動(dòng)，以及在縱向做勻速直線運(yùn)動(dòng)。

第二方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種光直寫成像系統(tǒng)，包括：主控計(jì)算機(jī)、收光模塊、成像鏡頭，以及如第一方面的光直寫成像設(shè)備；

主控計(jì)算機(jī)用于將曝光數(shù)據(jù)發(fā)送到空間光調(diào)制器控制模塊；

脈沖光源控制器用于控制光源經(jīng)過收光模塊投射到空間光調(diào)制器的鏡片裝置上；

精密位移平臺(tái)用于承載曝光基板；

空間光調(diào)制器用于將鏡片裝置上顯示的圖形經(jīng)過成像鏡頭顯示在精密位移平臺(tái)上的曝光基板上。

結(jié)合第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第二方面的第一種可能的實(shí)施方式，其中，主控計(jì)算機(jī)還用于將精密位移平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)指令發(fā)送到精密位移平臺(tái)控制器。

結(jié)合第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第二方面的第二種可能的實(shí)施方式，其中，由光源、收光模塊、空間光調(diào)制器、空間光調(diào)制器控制模塊、成像鏡頭以及光源控制器組成的結(jié)構(gòu)為至少一組。

本發(fā)明實(shí)施例帶來了以下有益效果：本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像設(shè)備，包括光源、光源控制器、精密位移平臺(tái)、精密位移平臺(tái)控制器、空間光調(diào)制器以及空間光調(diào)制器控制模塊；精密位移平臺(tái)控制器在精密位移平臺(tái)每移動(dòng)一個(gè)設(shè)定的觸發(fā)距離時(shí)，分別向光源控制器以及空間光調(diào)制器控制模塊發(fā)送一個(gè)脈沖信號(hào)；空間光調(diào)制器控制模塊在每次接收到脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)，控制空間光調(diào)制器內(nèi)部的鏡片裝置運(yùn)行一個(gè)固定時(shí)間的過渡過程；光源控制器在每次接收到脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)，控制光源發(fā)出脈沖光的占空比。通過光源控制器控制光源發(fā)出脈沖光的占空比，以此來實(shí)現(xiàn)在空間光調(diào)制器內(nèi)部的鏡片裝置運(yùn)行微鏡翻轉(zhuǎn)的過渡過程中，關(guān)閉光源輸出，在空間光調(diào)制器運(yùn)行圖形加載的過渡過程完成后再打開光源，減少了成像系統(tǒng)雜散光，提升了印制電路板的曝光效果，提高了曝光的可靠性。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例中脈沖信號(hào)的時(shí)間順序圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像系統(tǒng)的具體實(shí)施過程流程圖。

圖標(biāo)：1-光直寫成像設(shè)備；2-精密位移平臺(tái)；3-精密位移平臺(tái)控制器；4-空間光調(diào)制器；5-空間光調(diào)制器控制模塊；6-光源；7-光源控制器；10-光直寫成像系統(tǒng)；11-主控計(jì)算機(jī)；12-收光模塊；13-成像鏡頭；14-曝光基板。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

目前，空間光調(diào)制器內(nèi)部的鏡片裝置在運(yùn)行過渡過程時(shí)，連續(xù)光的光源一直照射在鏡片裝置上，被鏡片裝置反射的光會(huì)投射到成像鏡筒中成為雜散光，雜散光投射到基板上的部分會(huì)影響曝光效果，基于此，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光直寫成像設(shè)備以及系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)在鏡片裝置翻轉(zhuǎn)的過渡過程中，關(guān)閉光源輸出，減少了成像系統(tǒng)雜散光，提高了印制電路板的曝光效果。

為便于對(duì)本實(shí)施例進(jìn)行理解，首先對(duì)本發(fā)明實(shí)施例所公開的一種光直寫成像設(shè)備以及系統(tǒng)進(jìn)行詳細(xì)介紹。

實(shí)施例一：

如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像設(shè)備1，包括精密位移平臺(tái)2、精密位移平臺(tái)控制器3、空間光調(diào)制器4、空間光調(diào)制器控制模塊5、光源6與光源控制器7。

本實(shí)施例中，精密位移平臺(tái)控制器3用于控制精密位移平臺(tái)2的移動(dòng)，移動(dòng)方式為在橫向X軸方向做步進(jìn)運(yùn)動(dòng)，以及在縱向Y軸方向做勻速直線運(yùn)動(dòng)。精密位移平臺(tái)2上承載待曝光基板，基板位于光直寫成像設(shè)備1的最佳焦面上，精密位移平臺(tái)2勻速運(yùn)動(dòng)進(jìn)入設(shè)定觸發(fā)信號(hào)窗口后，沿著Y軸方向每移動(dòng)間隔一個(gè)設(shè)定的觸發(fā)距離，精密位移平臺(tái)控制器3同步輸出一個(gè)脈沖信號(hào)，每一個(gè)脈沖信號(hào)分別被發(fā)送到空間光調(diào)制器控制模塊5和光源控制器7。

進(jìn)一步的是，每一個(gè)脈沖信號(hào)觸發(fā)空間光調(diào)制器控制模塊5根據(jù)每次接收到的脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿做出響應(yīng)，控制空間光調(diào)制器4內(nèi)部的鏡片裝置運(yùn)行一個(gè)固定時(shí)間的過渡過程，該過渡過程包括鏡片裝置復(fù)位與翻轉(zhuǎn)一次加載曝光數(shù)據(jù)，來控制空間光調(diào)制器4中圖形平移一個(gè)像素。

其中，鏡片裝置為DMD或液晶裝置，作為一個(gè)優(yōu)選方案，本實(shí)施例采用DMD，DMD在工作時(shí)有兩種狀態(tài)，+12°和-12°，復(fù)位時(shí)會(huì)將DMD所有的微鏡切換到-12°狀態(tài)，主控計(jì)算機(jī)將曝光數(shù)據(jù)發(fā)送到空間光調(diào)制器控制模塊5，然后加載下一幀數(shù)據(jù)，此時(shí)相關(guān)微鏡再翻轉(zhuǎn)到+12°狀態(tài)。

對(duì)于空間光調(diào)制器控制模塊5，控制DMD完成復(fù)位和加載顯示下一幀數(shù)據(jù)兩個(gè)過程，在這個(gè)過程中，復(fù)位時(shí)+12°狀態(tài)的鏡片會(huì)先恢復(fù)到-12°的狀態(tài)，加載顯示數(shù)據(jù)時(shí)需要的鏡片會(huì)從-12°翻轉(zhuǎn)到+12°的狀態(tài)，這兩次翻轉(zhuǎn)過程我們定義為過渡過程，所用時(shí)間與硬件相關(guān)，每次為固定的時(shí)間t。

如圖2所示，在這一個(gè)周期T的DMD復(fù)位及翻轉(zhuǎn)加載顯示新數(shù)據(jù)的過渡過程并不是我們需要的有效工作狀態(tài)，因此光源控制器7根據(jù)每次接收到的脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿也做出響應(yīng)，控制光源6發(fā)出脈沖光的占空比：光源控制器7在接收到脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)，控制光源6延遲固定時(shí)間t后打開光源6發(fā)出脈沖光，使光源6經(jīng)過收光系統(tǒng)投射到空間光調(diào)制器4的鏡片裝置上，并在接收到下一個(gè)脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)關(guān)閉光源6。其中，觸發(fā)沿為脈沖信號(hào)的上升沿或下降沿，本實(shí)施例采用的是上升沿。

作為一個(gè)優(yōu)選方案，光源6為脈沖激光光源或脈沖LED光源，實(shí)現(xiàn)對(duì)曝光系統(tǒng)提供能量供給。

本發(fā)明實(shí)施例提供的DMD根據(jù)加載顯示的圖形將光投射鏡成像系統(tǒng)，經(jīng)過成像系統(tǒng)將DMD顯示的圖形顯示在置于位移平臺(tái)的基板上，對(duì)基板上的感光材料進(jìn)行曝光，到下一個(gè)脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿到來時(shí)，光源控制器7做出響應(yīng)，關(guān)閉光源6完成一個(gè)同步周期T。

現(xiàn)有的空間光調(diào)制器4的過渡過程中，被微鏡反射的光會(huì)投射到成像鏡筒中成為雜散光，雜散光投射到基板上的部分會(huì)造成其它圖像影響曝光效果，本實(shí)施例提供的光直寫成像設(shè)備1避免了這個(gè)問題，本實(shí)施例中，精密位移平臺(tái)控制器3同時(shí)輸出兩路脈沖信號(hào)，輸入空間光調(diào)制器控制模塊5的信號(hào)沒有延遲直接應(yīng)用，輸入光源控制器7的信號(hào)有一個(gè)時(shí)間t的延遲，這個(gè)過程實(shí)現(xiàn)了精密位移平臺(tái)2運(yùn)動(dòng)與空間光調(diào)制器4、光源6的同步控制，并且在DMD微鏡翻轉(zhuǎn)的過渡過程時(shí)，實(shí)現(xiàn)了關(guān)閉光源6輸出。

實(shí)施例二：

如圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像系統(tǒng)10，包括主控計(jì)算機(jī)11、收光模塊12、成像鏡頭13，以及上述實(shí)施例一提供的光直寫成像設(shè)備，當(dāng)光直寫成像系統(tǒng)10要曝光時(shí)，主控計(jì)算機(jī)11內(nèi)置的控制系統(tǒng)將要曝光的柵格化數(shù)據(jù)發(fā)送給空間光調(diào)制器控制模塊5，空間光調(diào)制器控制模塊5將要曝光的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在自己的存儲(chǔ)器里，該曝光數(shù)據(jù)已經(jīng)按照要曝光順序按幀存儲(chǔ)。曝光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)完畢后，主控計(jì)算機(jī)11將精密位移平臺(tái)2的運(yùn)動(dòng)指令發(fā)送到精密位移平臺(tái)控制器3，控制精密位移平臺(tái)2帶動(dòng)基板運(yùn)動(dòng)，運(yùn)動(dòng)方式為在橫軸X方向做步進(jìn)運(yùn)動(dòng)，在縱軸Y方向做勻速直線運(yùn)動(dòng)。

如圖2所示，精密位移平臺(tái)2沿Y方向的掃描運(yùn)動(dòng)過程中，每移動(dòng)一個(gè)設(shè)定的觸發(fā)距離，精密位移平臺(tái)控制器3會(huì)發(fā)出一個(gè)脈沖信號(hào)，該脈沖信號(hào)每移動(dòng)一個(gè)觸發(fā)距離完成一個(gè)周期T。

本發(fā)明實(shí)施例提供的精密位移平臺(tái)控制器3將脈沖信號(hào)分兩路傳出，一路輸送到空間光調(diào)制器控制模塊5，空間光調(diào)制器控制模塊5接收到信號(hào)后按照收到的脈沖信號(hào)上升沿觸發(fā)響應(yīng)，空間光調(diào)制器控制模塊5控制空間光調(diào)制器4中的DMD完成復(fù)位并加載下一幀需要曝光的數(shù)據(jù)。

進(jìn)一步的是，復(fù)位和加載顯示下一幀數(shù)據(jù)是兩個(gè)動(dòng)作，在這個(gè)過程中復(fù)位時(shí)，+12°狀態(tài)的鏡片會(huì)先恢復(fù)到-12°的狀態(tài)，加載顯示時(shí)需要的鏡片會(huì)從-12°翻轉(zhuǎn)到+12°的狀態(tài)，這兩次翻轉(zhuǎn)過程我們定義為過渡過程，所用時(shí)間與硬件相關(guān)，每次為固定的時(shí)間t，該時(shí)間t可以通過實(shí)驗(yàn)測(cè)得或從硬件供應(yīng)商處獲得。

因此，完成加載后，DMD鏡片已經(jīng)顯現(xiàn)需要曝光的圖形，空間光調(diào)制器4會(huì)將收光模塊12收到光源6的光能與DMD鏡片上顯示的圖形，經(jīng)過成像鏡頭13投影顯示到精密位移平臺(tái)2上的曝光基板14完成曝光。

現(xiàn)有的印制電路板無掩膜連續(xù)光直接成像系統(tǒng)中，一個(gè)周期T的復(fù)位及加載顯示新數(shù)據(jù)的過渡過程并不是我們需要的有效工作狀態(tài)，但是連續(xù)光的光源一直照射在DMD的微鏡上，導(dǎo)致了其技術(shù)問題：在過渡過程光源一直在打開狀態(tài)，電能在持續(xù)不斷的裝換為光能，但并沒有投射到位于精密位移平臺(tái)2的基板上進(jìn)行曝光，這造成了嚴(yán)重的能量浪費(fèi)與生產(chǎn)成本上升；光源一般具有固定的壽命，過渡過程的使用浪費(fèi)了光源的有效使用時(shí)間；且過渡過程中被微鏡反射的光會(huì)投射到成像鏡筒中成為雜散光，雜散光投射到基板上的部分會(huì)造成其它影像影響曝光效果。

本實(shí)施例中，精密位移平臺(tái)控制器3將脈沖信號(hào)分兩路傳出，精密位移平臺(tái)控制器3傳送出的另一路脈沖信號(hào)被輸送到光源控制器7，光源控制器7能夠根據(jù)脈沖信號(hào)控制光源6的打開與關(guān)閉：當(dāng)光源控制器7接收到脈沖信號(hào)的觸發(fā)沿時(shí)，延遲時(shí)間t后再觸發(fā)打開光源6，持續(xù)到下一次上升沿到來時(shí)關(guān)閉光源6，如此完成一個(gè)周期T對(duì)光源6的控制。

其中，光源6為脈沖激光光源或脈沖LED光源。

如圖4所示，空心箭頭為光路路徑，實(shí)心箭頭為控制點(diǎn)信號(hào)路徑，在圖4的整個(gè)控制過程中，以精密位移平臺(tái)2為觸發(fā)源，空間光調(diào)制器4同步控制投圖，以及光源6同步開光，通過該過程實(shí)現(xiàn)了精密位移平臺(tái)2運(yùn)動(dòng)與空間光調(diào)制器4、光源6的同步控制，并且在DMD微鏡翻轉(zhuǎn)的過渡過程中，實(shí)現(xiàn)了關(guān)閉光源6輸出，因此，減少了成像系統(tǒng)雜散光，提升了印制電路板的曝光效果，而且可以有效節(jié)省能量，減小功耗，降低生產(chǎn)成本，且光源6一般具有固定的壽命，過渡過程時(shí)光源6的關(guān)閉，提高了光源6的有效使用時(shí)間，延長(zhǎng)光源6壽命，同時(shí)會(huì)減小光源6熱量的產(chǎn)生，提高了曝光的可靠性。

如圖2所示，以方波時(shí)間順序圖的方式展示了該同步過程，精密位移平臺(tái)控制器3發(fā)出脈沖信號(hào)，空間光調(diào)制器控制模塊5接收到精密位移平臺(tái)控制器3的信號(hào)后做出響應(yīng)，對(duì)空間光調(diào)制器4發(fā)送控制信號(hào)，通過圖2可以看出此過程是實(shí)時(shí)的，沒有延遲的，周期為T。光源控制器7接收到精密位移平臺(tái)控制器3的信號(hào)后做出響應(yīng)，對(duì)光源6發(fā)送控制信號(hào)。

因此，通過對(duì)比可以看出，光源控制器7的上升沿延遲時(shí)間t，即在DMD微鏡翻轉(zhuǎn)的過程狀態(tài)，光源6不打開，不形成有效曝光；在t時(shí)間后DMD鏡片加載數(shù)據(jù)完畢，光源6經(jīng)過觸發(fā)打開，光源控制器7控制光源6經(jīng)過收光模塊12投射到空間光調(diào)制器4的DMD上，DMD上呈現(xiàn)的圖形經(jīng)過成像鏡頭13成像到置于精密位移平臺(tái)2上的曝光基板14上，持續(xù)至接收到下一個(gè)上升沿時(shí)關(guān)閉光源6完成T-t時(shí)間的曝光。如此按周期反復(fù)，直到完成整個(gè)基板曝光過程，主控計(jì)算機(jī)11控制精密位移平臺(tái)2運(yùn)送已曝光的基板退出曝光區(qū)域。

作為一個(gè)優(yōu)選方案，曝光基板14通過真空吸附或夾具的方式固定在精密位移平臺(tái)2上，曝光過程中曝光基板14位于成像鏡頭13的最佳焦面上，基板上覆有對(duì)光源6敏感的感光材料。

此外，由光源6、收光模塊12、空間光調(diào)制器4、空間光調(diào)制器控制模塊5、成像鏡頭13以及光源控制器7組成的結(jié)構(gòu)為至少一組，圖3顯示的系統(tǒng)作為一種實(shí)現(xiàn)方式，僅提供了兩組該結(jié)構(gòu)，該系統(tǒng)以實(shí)用一組或多組該結(jié)構(gòu)為優(yōu)選方案。

本發(fā)明實(shí)施例提供的光直寫成像系統(tǒng)，與上述實(shí)施例提供的光直寫成像設(shè)備具有相同的技術(shù)特征，所以也能解決相同的技術(shù)問題，達(dá)到相同的技術(shù)效果。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

最后應(yīng)說明的是：以上所述實(shí)施例，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制，本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，其依然可以對(duì)前述實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改或可輕易想到變化，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改、變化或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。