本發(fā)明屬于半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種曝光設(shè)備。

背景技術(shù)：

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)由于具有畫(huà)面穩(wěn)定、圖像逼真、消除輻射、節(jié)省空間以及節(jié)省能耗等優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)已占據(jù)了平面顯示領(lǐng)域的主導(dǎo)地位。TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示器)是目前主流的液晶顯示器，而薄膜晶體管陣列基板(TFT-Thin Film Transistor)以及彩膜基板是其顯示面板的主要構(gòu)成部件。陣列基板以及彩膜基板的制備效率往往關(guān)系著整個(gè)顯示裝置的生產(chǎn)節(jié)拍。

在陣列基板以及彩膜基板的制備過(guò)程中，光刻工藝是非常重要的。目前的光刻工藝通常包括：涂敷光刻膠、前烘、曝光、顯影以及后烘。其中，涂敷光刻膠是在前工序成膜后的基板上涂敷光刻膠；前烘是預(yù)熱光刻膠，以及去除光刻膠的水分，增加光刻膠與基板之間的附著力；曝光是采用曝光光線通過(guò)掩膜板(或稱光罩)照射在光刻膠上，將光刻膠感光；顯影是通過(guò)顯影液將感光部分的光刻膠去除掉，從而形成所需要的圖案；后烘是將圖案中未感光的光刻膠固化，同時(shí)增加與基板之間的附著力。

現(xiàn)有技術(shù)中的曝光設(shè)備主要包括用于提供平行曝光光線的光源、掩膜板以及曝光機(jī)臺(tái)等。在曝光過(guò)程中，涂覆有光刻膠的基板放置在曝光機(jī)臺(tái)上，光源提供的平行曝光光線經(jīng)過(guò)掩膜板后垂直照射在基板上，使其形成與掩膜板一致的圖案。但是在現(xiàn)有的曝光設(shè)備中，在一個(gè)生產(chǎn)節(jié)拍周期內(nèi)只能使用一塊掩膜板對(duì)一塊基板進(jìn)行曝光；同時(shí)，光源提供的曝光光線僅僅只有很少的一部分被利用，其他大部分光線都是沒(méi)有得到充分利用而損失掉。因此，現(xiàn)有技術(shù)中的曝光設(shè)備不但曝光效率低下，而且造成了能源的浪費(fèi)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種在提高曝光效率的同時(shí)，還能避免能源浪費(fèi)的曝光設(shè)備。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種曝光設(shè)備，其包括：多個(gè)平面曝光光罩和一個(gè)光源，所述光源與所述平面曝光光罩的平面中心的連線垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各個(gè)平面曝光光罩的平面中心的距離相等。

進(jìn)一步地，所述多個(gè)平面曝光光罩彼此對(duì)應(yīng)相連接，以合圍形成一容置空間，所述光源設(shè)置于所述容置空間內(nèi)。

進(jìn)一步地，所述多個(gè)平面曝光光罩為至少一種多邊形平面曝光光罩。

進(jìn)一步地，所述多邊形平面曝光光罩的形狀為正多邊形。

進(jìn)一步地，所述多個(gè)平面曝光光罩被制作成具有磁性，使所述多個(gè)平面曝光光罩在連接時(shí)通過(guò)磁性相互吸合。

進(jìn)一步地，彼此連接的兩個(gè)平面曝光光罩之間通過(guò)結(jié)合件相連，所述結(jié)合件為卡榫結(jié)構(gòu)、粘扣帶結(jié)構(gòu)或磁性體。

進(jìn)一步地，所述曝光設(shè)備的外觀形狀選自正四面體、正六面體、正八面體、正十二面體、正二十面體及巴克球體中的一種。

進(jìn)一步地，所述光源為球面光源，且所述光源提供給各個(gè)平面曝光光罩的光量相同。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明的曝光設(shè)備能夠在一個(gè)生產(chǎn)節(jié)拍周期內(nèi)使用多塊平面曝光光罩對(duì)多塊基板進(jìn)行曝光，同時(shí)能夠全部利用光源提供的曝光光線，從而可以提高曝光效率，同時(shí)避免能源的浪費(fèi)。

附圖說(shuō)明

通過(guò)結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備的立體示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備的立體分解示意圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的曝光設(shè)備的立體示意圖。

具體實(shí)施方式

以下，將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。在附圖中，為了清楚器件，夸大了層和區(qū)域的厚度。

為了在一個(gè)生產(chǎn)節(jié)拍周期內(nèi)使用多塊掩膜板(或稱曝光光罩)對(duì)多塊基板進(jìn)行曝光；同時(shí)，能夠全部利用光源提供的曝光光線，本發(fā)明提供了一種曝光設(shè)備，該曝光設(shè)備包括：多個(gè)平面曝光光罩和一個(gè)光源，所述光源與所述平面曝光光罩的平面中心的連線垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各個(gè)平面曝光光罩的平面中心的距離相等。以下將對(duì)上述的本發(fā)明提供的曝光設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備的立體示意圖。

參照?qǐng)D1，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備1包括：平面曝光光罩100和光源200。在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，曝光設(shè)備1的外觀形狀為正六面體。在此基礎(chǔ)上，平面曝光光罩100的形狀為正方形，并且平面曝光光罩100的數(shù)量為六個(gè)。

此外，進(jìn)一步限定地，在本實(shí)施例中，光源200的數(shù)量為一個(gè)。光源200與所述平面曝光光罩100的平面中心的連線垂直于所述平面曝光光罩100所在平面，并且光源200到各個(gè)平面曝光光罩100的平面中心的距離相等。這樣，在利用這六個(gè)平面曝光光罩100分別對(duì)各自對(duì)應(yīng)的基板進(jìn)行曝光時(shí)，可使光源200輻射到每個(gè)基板上的光量相同。

優(yōu)選地，光源200為球面光源，且光源200提供給各個(gè)平面曝光光罩100的光量相同。

繼續(xù)參照?qǐng)D1，在本實(shí)施例中，六個(gè)平面曝光光罩100彼此對(duì)應(yīng)相連接，以合圍形成一容置空間，光源200設(shè)置于該容置空間內(nèi)。當(dāng)然，作為本發(fā)明的另一實(shí)施方式，六個(gè)平面曝光光罩100可以彼此不連接；當(dāng)這六個(gè)平面曝光光罩100不連接時(shí)，可各自被固定，且六個(gè)平面曝光光罩100彼此不連接而合圍形成一正方體，光源200被設(shè)置于合圍形成的正方體內(nèi)。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備的立體分解示意圖。

參照?qǐng)D1和圖2，彼此連接的兩個(gè)平面曝光光罩100之間通過(guò)結(jié)合件110彼此相連接，其中該結(jié)合件110設(shè)置于每個(gè)平面曝光光罩100的側(cè)面。

在本實(shí)施例中，該結(jié)合件110的結(jié)構(gòu)為卡榫結(jié)構(gòu)，即一公卡榫及一母卡榫的組合，通過(guò)使用該卡榫結(jié)構(gòu)，使六個(gè)平面曝光光罩100相互組合成如圖1所示的多面體曝光設(shè)備1。作為本發(fā)明的其他實(shí)施方式，該結(jié)合件110可以選用粘扣帶結(jié)構(gòu)，或者使用具有磁性材料的結(jié)構(gòu)，以將六個(gè)平面曝光光罩100相互組合成如圖1所示的多面體曝光設(shè)備1。

此外，在本發(fā)明的其他實(shí)施方式中，可以在制作各個(gè)平面曝光光罩100時(shí)，可以摻入磁性材料來(lái)制作各個(gè)平面曝光光罩100，這樣在組合各個(gè)平面曝光光罩100時(shí)，彼此連接的兩個(gè)平面曝光光罩100之間無(wú)需再設(shè)置結(jié)合件110，可以利用平面曝光光罩100本身具有的磁性，使六個(gè)平面曝光光罩100相互組合成如圖1所示的多面體曝光設(shè)備1。

此外，以上描述了外觀形狀為正方體的多面體曝光設(shè)備1，但本發(fā)明并不限制于此，例如多面體曝光設(shè)備1的外觀形狀還可以是正四面體、正八面體、正十二面體、正二十面體或者其他合適的正多面體形狀，對(duì)應(yīng)地，每個(gè)平面曝光光罩100的形狀可以是正三角形或正五邊形等。

另外，在上述實(shí)施例的多面體曝光設(shè)備1中，每個(gè)平面曝光光罩100的形狀都相同，但本發(fā)明并不限制于此，例如可以由具有不同形狀的多個(gè)平面曝光光罩100構(gòu)成多面體曝光設(shè)備1，具體在下面描述。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的曝光設(shè)備的立體示意圖。

參照?qǐng)D3，例如，可以選擇二十個(gè)正六邊形的平面曝光光罩100A和十二個(gè)正五邊形的平面曝光光罩100B相互組合成一正三十二面體的巴克球體(Bucky Ball)，而光源(未示出)設(shè)置于外觀形狀呈巴克球體的曝光設(shè)備1A中。多個(gè)平面曝光光罩100A和多個(gè)平面曝光光罩100B彼此之間的連接方式可以參照上面的描述，在此不再贅述。

當(dāng)然，除了利用正六邊形的平面曝光光罩和正五邊形的平面曝光光罩組合成外觀形狀呈巴克球體的曝光設(shè)備之外，還可以采用正三角形的平面曝光光罩和正四邊形的平面曝光光罩組合成另外一個(gè)多面體曝光設(shè)備(未示出)。

綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的各實(shí)施例的曝光設(shè)備，能夠在一個(gè)生產(chǎn)節(jié)拍周期內(nèi)使用多塊平面曝光光罩對(duì)多塊基板進(jìn)行曝光，同時(shí)能夠全部利用光源提供的曝光光線，從而可以提高曝光效率，同時(shí)避免能源的浪費(fèi)。

雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。