本公開涉及輪廓顯示裝置、激光裝置以及電子器件的制造方法。

背景技術(shù)：

1、近年來，在半導(dǎo)體曝光裝置中，隨著半導(dǎo)體集成電路的微細(xì)化及高集成化，要求分辨率的提高。因此，正在推進從曝光用光源發(fā)射的光的短波長化。例如，作為曝光用的氣體激光裝置，使用輸出波長約248nm的激光的krf準(zhǔn)分子激光裝置、以及輸出波長約193nm的激光的arf準(zhǔn)分子激光裝置。

2、krf準(zhǔn)分子激光裝置及arf準(zhǔn)分子激光裝置的自然振蕩光的譜線寬度寬，為350～400pm。因此，若由使krf以及arf激光那樣的紫外線透過的材料構(gòu)成投影透鏡，則有時產(chǎn)生色差。其結(jié)果，分辨率可能降低。因此，需要將從氣體激光裝置輸出的激光的譜線寬度窄帶化至色差能夠忽略的程度。因此，在氣體激光裝置的激光諧振器內(nèi)，為了使譜線寬度窄帶化，有時具備包含窄帶化元件(標(biāo)準(zhǔn)具、光柵等)的窄帶化模塊(line?narrowing?module：lnm)。將譜線寬度窄帶化的氣體激光裝置稱為窄帶化氣體激光裝置。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：美國專利申請公開第2014/348188號說明書

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開的一個觀點的輪廓顯示裝置具備：接口，其接收激光的射束輪廓；處理器，其根據(jù)射束輪廓中的光強度分布的偏差使射束輪廓的外形線的位置偏移，由此生成偏移外形線；以及顯示器，其顯示射束輪廓和偏移外形線。

2、本公開的一個觀點的激光裝置具備：激光振蕩器，其輸出激光；射束分析儀，其取得激光的射束輪廓；處理器，其根據(jù)射束輪廓中的光強度分布的偏差來使射束輪廓的外形線的位置偏移，由此生成偏移外形線；以及顯示器，其顯示射束輪廓和偏移外形線。

3、本公開的一個觀點的電子器件的制造方法包括如下工序：通過激光裝置生成激光，將激光輸出到曝光裝置，在曝光裝置內(nèi)將激光曝光到感光基板上，以制造電子器件，該激光裝置具備：激光振蕩器，其輸出激光；射束分析儀，其取得激光的射束輪廓；處理器，其根據(jù)射束輪廓中的光強度分布的偏差使射束輪廓的外形線的位置偏移，由此生成偏移外形線；以及顯示器，其顯示射束輪廓和偏移外形線。

技術(shù)特征：

1.一種輪廓顯示裝置，其具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的輪廓顯示裝置，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的輪廓顯示裝置，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的輪廓顯示裝置，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪廓顯示裝置，其中，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的輪廓顯示裝置，其中，

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的輪廓顯示裝置，其中，

14.一種激光裝置，其具備：

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的激光裝置，其中，

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的激光裝置，其中，

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光裝置，其中，

18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光裝置，其中，

19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光裝置，其中，

20.一種電子器件的制造方法，其包括如下工序：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供輪廓顯示裝置、激光裝置以及電子器件的制造方法。輪廓顯示裝置具備：接口，其接收激光的射束輪廓；處理器，其根據(jù)射束輪廓中的光強度分布的偏差使射束輪廓的外形線的位置偏移，由此生成偏移外形線；以及顯示器，其顯示射束輪廓和偏移外形線。

技術(shù)研發(fā)人員：五十嵐豐,丸茂昭彥
受保護的技術(shù)使用者：極光先進雷射株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15