專利名稱：一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，特別是一種氟化氬準(zhǔn)分子激光氣體配置裝置的鈍化方法。
背景技術(shù)：
準(zhǔn)分子激光氣用于眼科疾病的治療已經(jīng)有約三十年的發(fā)展歷史。各種含F(xiàn)2準(zhǔn)分子激光氣體種類眾多，其中F2氣體是組成其中比不可少的成分，是手術(shù)時激光的主要能量提供源。我國從90年代初開始進(jìn)口準(zhǔn)分子激光機(jī)，國產(chǎn)機(jī)型亦于2001年研制成功。但是其昂貴且消耗大量工作氣源激光氣，激光氣基本上依賴進(jìn)口，雖有少量國產(chǎn)氣投放入市場， 但是大多存在能量不穩(wěn)當(dāng)，保存期短等不足之處。分析其原因可知，在激光氣中，F(xiàn)2含量甚微，并對組成成分誤差要求又極為嚴(yán)格。因此在配置過程中，不允許F2的含量有任何變化。 而保證上述要求的關(guān)鍵問題之一，是配置裝置需要有極強(qiáng)的抗F2腐蝕能力。眾所周知，F(xiàn)是世界上最活潑的元素。幾乎可以和所有元素發(fā)生反應(yīng)。目前，常用的金屬耐F2腐蝕的方法一般是以N2為基質(zhì)氣體，通入不同F(xiàn)2含量的混合氣，讓其自發(fā)在金屬表面形成一層金屬氟化膜。這種方法可以滿足一般要求。但是，對于F2含量甚微，且需要含量極其穩(wěn)定的特殊氣體，使用上述方法并不能滿足需求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種抗F2腐蝕能力強(qiáng)，可以使激光輸出能量穩(wěn)定的一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法。本發(fā)明提供一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，其特征在于其包括以下步驟，
步驟一鈍化前處理清理準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中的雜質(zhì)，并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；
步驟二 鈍化處理在準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中通入F2和He的混合氣體，恒溫恒壓一段時間后用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；
步驟三通入N2后密封，完成準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化。在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，所述步驟二具體包括以下步驟
A)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置溫度保持在40-60°C并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. 2^0. 5MPa、F2的含量為2飛％，其余為He的混合氣體， 其中F 2的含量為2飛％，其余為He，恒溫恒壓8小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；
B)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置溫度保持在-2(T-40°C并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. 2^0. 5MPa、F2的含量為0. 5 1%，其余為He的混合氣體，恒溫恒壓8小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；
C)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置保持在常溫并恒溫0. 5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. Γ0. 2MPa、F2的含量為0. 05、. 1%，其余為He的混合氣體，恒溫恒壓M小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置。在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，所述步驟三中通入的N2壓力為0. 05MPa。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明使用分子量小、擴(kuò)散能力強(qiáng)的He氣體替代了現(xiàn)有技術(shù)中N2，并且變化了鈍化的溫度條件，因此，氧化膜的形成穩(wěn)定而且致密，因滲透程度的增加而堅(jiān)韌牢固，有效的防治了金屬基體的進(jìn)一步腐蝕。配置的準(zhǔn)分子激光器輸出能量穩(wěn)定，能量分布均勻。完全能滿眼科手術(shù)激光治療的要求，并且成本低。


圖1為本發(fā)明一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法示意圖；具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。情參考圖1，本發(fā)明一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，該方法包括以下步驟
第一步鈍化前處理清理配置裝置中的雜質(zhì)，并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；具體為清理配置裝置中管道內(nèi)污垢等雜質(zhì)，再用高純度的N2吹除，之后密封待用。
步驟二 鈍化處理在準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中通入F2和He的混合氣體，恒溫恒壓一段時間后用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；具體分三個步驟
A)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置溫度保持在40-60°C并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. 2^0. 5MPa、F2的含量為2飛％，其余為He的混合氣體， 其中F 2的含量為2飛％，其余為He，恒溫恒壓8小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；
B)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置溫度保持在-2(T-4(TC并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. 2^0. 5MPa、F2的含量為0. 5 1%，其余為He的混合氣體，恒溫恒壓8小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；
C)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置保持在常溫并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. Γ0. 2MPa、F2的含量為0. 05、. 1%，其余為He的混合氣體，恒溫恒壓M小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置。最后通入壓力為0. 05MPa的N2作為保護(hù)氣體。密封后待用及完成整個鈍化過程。請?jiān)俅螀⒖紙D1，本發(fā)明準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法包括控制閥1、10、11、 12、13、14、15、16、17、18、19，壓力表2、管線3、真空計(jì)4，凈化器5以及真空泵6，其中管線3 連接罐裝的產(chǎn)品氣、F2、Ar、He、Ne。通有N2的管線設(shè)有控制閥1。鈍化前，關(guān)閉控制閥1、 10、12、14、15，F(xiàn)2和He混合氣由控制閥11、13進(jìn)入準(zhǔn)分子激光氣配置裝置，當(dāng)達(dá)到規(guī)定量后，關(guān)閉控制閥11、13，混合氣體被密封在準(zhǔn)分子激光氣配置裝置內(nèi)。這時，準(zhǔn)分子激光氣配置裝置與外界接觸的控制閥1、10關(guān)閉。抽真空時，僅開啟與真空泵相聯(lián)的控制閥15、17、 19，其余控制閥10、11、12、13、14、16、18關(guān)閉。將裝置內(nèi)部抽成真空。用N2吹除時，僅開啟與凈化器相聯(lián)的控制閥15、17、18，其余控制閥10、11、12、13、14、16、19關(guān)閉。
本發(fā)明使用分子量小擴(kuò)散能力強(qiáng)的He氣體替代了現(xiàn)有技術(shù)中N2，并且變化了鈍化的溫度條件，因此，氧化膜的形成穩(wěn)定而且致密，因滲透程度的增加而堅(jiān)韌牢固，有效的防治了金屬基體的進(jìn)一步腐蝕。配置的準(zhǔn)分子激光器輸出能量穩(wěn)定，能量分布均勻。完全能滿眼科手術(shù)激光治療的要求，并且成本低。本發(fā)明不僅局限于上述最佳實(shí)施方式，任何人在本發(fā)明的啟示下都可以得出其他各種形式的產(chǎn)品，但不論在其形狀或結(jié)構(gòu)及方法上作任何變化，凡是具有與本發(fā)明相同或相近似的技術(shù)方案，均在其保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，其特征在于其包括以下步驟，步驟一鈍化前處理清理準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中的雜質(zhì)，并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；步驟二 鈍化處理在準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中通入F2和He的混合氣體，恒溫恒壓一段時間后用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；步驟三通入N2后密封，完成準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化。
2.如權(quán)利要求1所述的一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，其特征在于所述步驟二具體包括以下步驟A)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置溫度保持在40-60°C并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. 2^0. 5MPa、F2的含量為2 5%，其余為He的混合氣體， 恒溫恒壓8小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；B)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置溫度保持在-2(T-4(TC并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. 2^0. 5MPa、F2的含量為0. 5 1%，其余為He的混合氣體，恒溫恒壓8小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；C)將準(zhǔn)分子激光氣配置裝置保持在常溫并恒溫0.5^1小時，將所述準(zhǔn)分子激光氣配置裝置抽真空，并通入壓力為0. Γ0. 2MPa、F2的含量為0. 05、. 1%，其余為He的混合氣體，恒溫恒壓M小時后減壓并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置。
3.如權(quán)利要求1所述的一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，其特征在于所述步驟三中通入的N2壓力為0. 05MPa。
全文摘要
一種準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化方法，其特征在于其包括以下步驟，步驟一鈍化前處理清理準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中的雜質(zhì)，并用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；步驟二鈍化處理在準(zhǔn)分子激光氣配置裝置中通入F2和He的混合氣體，恒溫恒壓一段時間后用N2吹除準(zhǔn)分子激光氣配置裝置；步驟三通入N2后密封，完成準(zhǔn)分子激光氣配置裝置的鈍化。使用分子量小擴(kuò)散能力強(qiáng)的He氣體替代了現(xiàn)有技術(shù)中N2，并且變化了鈍化的溫度條件，因此，氧化膜的形成穩(wěn)定而且致密，因滲透程度的增加而堅(jiān)韌牢固，有效的防治了金屬基體的進(jìn)一步腐蝕。配置的準(zhǔn)分子激光器輸出能量穩(wěn)定，能量分布均勻。完全能滿眼科手術(shù)激光治療的要求，并且成本低。
文檔編號C23C8/08GK102517540SQ20111042941
公開日2012年6月27日 申請日期2011年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月20日
發(fā)明者張智宏, 趙克連, 陳平 申請人:廣東華南特種氣體研究所有限公司