用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于黑色金屬防腐耐磨處理工藝領(lǐng)域，具體而言，涉及一種用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑。該用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，包括在光軸表層形成復(fù)合化合物層與金屬氧化層，依次采用的氮碳鑭離子滲劑、離子活化滲劑、氧離子滲劑。本發(fā)明通過將非金屬元素和微量金屬元素滲入光軸的表面中，在光軸的表面形成復(fù)合化合物層以及金屬氧化層，不僅極大地提高了金屬的耐蝕性和耐磨性，并且對環(huán)境無污染。
【專利說明】用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于黑色金屬防腐耐磨處理工藝領(lǐng)域，具體而言，涉及一種用于提高光軸 耐蝕性和耐磨性的離子滲劑。

【背景技術(shù)】
[0002] 在工業(yè)生產(chǎn)中，對于黑色金屬材料的防腐耐磨處理是關(guān)鍵工藝之一，尤其一些關(guān) 鍵零部件，對材料的防腐耐磨要求較高，比如光軸，光軸包括普通光軸，鍍鉻光軸，鍍鉻軟 軸，不銹鋼軸，鍍鉻空心軸。因?yàn)閷廨S的精度要求較高，光軸在使用過程中，會(huì)與金屬或非 金屬接觸，由于摩擦而引起其表面磨損；或者會(huì)由于與四周介質(zhì)接觸時(shí)發(fā)生化學(xué)作用或電 化學(xué)作用而引起其表面銹蝕。光軸遭到腐蝕和磨損后，影響設(shè)備的傳動(dòng)性能和精度，嚴(yán)重 制約設(shè)備的穩(wěn)定性。因此，人們不斷地研究光軸的失效機(jī)理并采取相應(yīng)的防范措施。
[0003] 目前，提高光軸性能的方法主要有：一種是采用不銹鋼制造光軸，但價(jià)格較高，并 且耐磨性不夠；另一種是在光軸表面鍍鉻，但鍍鉻一方面產(chǎn)生重金屬鉻和鍍鉻零部件在使 用過程中會(huì)二次產(chǎn)生重金屬鉻，鉻被人體吸收后具有致癌和誘發(fā)基因突變的危險(xiǎn)；另一方 面鍍鉻工藝本身在性能上也存在一些局限性。所以，目前在對于提高光軸的性能方面，還存 在很大的研究空間。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的在于提供一種用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，通過將該 滲劑中的離子滲入光軸的表面而提高光軸的耐蝕性和耐磨性。
[0005] 本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的，用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，包括氮碳鑭離 子滲劑、離子活化滲劑、氧離子滲劑。
[0006] 本發(fā)明提供的離子滲劑，在光軸表面經(jīng)氮碳鑭離子滲劑處理，氮碳鑭離子滲劑中 的離子在光軸表面形成預(yù)期厚度的滲層，該滲層由金屬元素的氮碳化合物以及氮在鐵中的 固溶體組成，具有高耐磨和高耐蝕的特性。
[0007] 之后，經(jīng)活化離子滲劑進(jìn)一步滲入并向光軸基體方向擴(kuò)散，再次完成擴(kuò)散以及吸 附過程，調(diào)整金屬元素的氮碳化合物的比例和增加復(fù)合滲層厚度，從而提高光軸的抗疲勞 性能。
[0008] 最后，通過氧離子滲劑滲入處理，殘留于光軸表面的離子活化滲劑與氧離子滲劑 反應(yīng)，形成的滲層為一部分氧以間隙形式溶入化合物晶格中形成中間體，另一部分氧在表 面形成金屬氧化層，從而進(jìn)一步提高金屬的耐蝕性能。
[0009] 本發(fā)明通過將非金屬兀素和微量金屬兀素滲入光軸的表面中，在光軸的表面形成 復(fù)合化合物層以及金屬氧化層，不僅極大地提高了金屬的耐蝕性和耐磨性，并且對環(huán)境無 污染。
[0010] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氮碳鑭離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0310 % -15 %, K2C0310 % -20 %, NaCN055 % -65 %, CeC03l % -3 %, Li2C035 %-!0%, La2C030. 03-1%。 toon] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氮碳鑭離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0310 % -13 %, K2C0313 % -18 %, NaCN055 % -60 %, CeC03l % -3%, Li2C035 % -8%, La2C030 . 03-0 . 08%。
[0012] 優(yōu)選地，以重量百分比計(jì)，所述離子活化滲劑由以下組分混合制成： Na2S045% -10%, Na2C0310% -20%, K2C0310% -20%, C0(NH2)230% -45%, K2S031% -3%, CeC03l % -3 %，Li0H5 % -10 %，KC15 % -15 %。
[0013] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述離子活化滲劑由以下組分混合制成： Na2S045% -8%, Na2C0310% -15%, K2C0310% -15%, C0(NH2)235 % -40%, K2S032 % -3%, CeC032 % -3 %，Li0H8 % -10 %，KC15 % -10 %。
[0014] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氧離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0320% -30%，NaN0220% -30%，NaN0330% -40%，CeS0410% -20%。
[0015] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氧離子滲劑由以下組分混合制成：
[0016] Na2C0325 % -28 %，NaN0225 % -28 %，NaN0332 % -38 %，CeS0415 % -18 %。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017] 圖1為利用本發(fā)明提供的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑制成的黑金 光軸的剖面圖；
[0018] 圖2為利用本發(fā)明提供的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑制成的黑金 光軸的截面圖；
[0019] 圖3為利用本發(fā)明實(shí)施例1提供的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑制成 的黑金光軸試樣與鍍鉻試樣進(jìn)行中性鹽霧試驗(yàn)對比圖；
[0020] 圖4為鍍鉻試樣和本發(fā)明實(shí)施例1的提供的試樣表現(xiàn)出的耐磨性能測試對比曲線 圖；
[0021] 圖5為利用本發(fā)明實(shí)施例3提供的黑金光軸，將兩端用密封劑密封，光軸放置于垂 直方向呈15?30°的效果圖；
[0022] 圖6為利用本發(fā)明實(shí)施例3提供的黑金光軸，500小時(shí)連續(xù)試驗(yàn)，光軸連續(xù)504小 時(shí)試驗(yàn)后情況的效果圖。

【具體實(shí)施方式】
[0023] 下面通過具體的實(shí)施例子并結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
[0024] 下面詳細(xì)介紹本發(fā)明提供的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑。
[0025] 用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，包括氮碳鑭離子滲劑、離子活化滲劑、 氧離子滲劑。
[0026] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氮碳鑭離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0310 % -15 %, K2C0310 % -20 %, NaCN055 % -65 %, CeC03l % -3 %, Li2C035 % -10 %, La2C030. 03-1%。
[0027] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氮碳鑭離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0310 % -13 %, K2C0313 % -18 %, NaCN055 % -60 %, CeC03l % -3%, Li2C035 % -8%, La2C030 . 03-0 . 08%。
[0028] 優(yōu)選地，以重量百分比計(jì)，所述離子活化滲劑由以下組分混合制成： Na2S045% -10%, Na2C0310% -20%, K2C0310% -20%, C0(NH2)230% -45%, K2S031% -3%, CeC03l % -3 %，Li0H5 % -10 %，KC15 % -15 %。
[0029] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述離子活化滲劑由以下組分混合制成： Na2S045% -8%, Na2C0310% -15%, K2C0310% -15%, C0(NH2)235 % -40%, K2S032 % -3%, CeC032 % -3 %，Li0H8 % -10 %，KC15 % -10 %。
[0030] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氧離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0320% -30%，NaN0220% -30%，NaN0330% -40%，CeS0410% -20%。
[0031] 優(yōu)選地，按重量百分比計(jì)，所述氧離子滲劑由以下組分混合制成：
[0032] Na2C0325 % -28 %，NaN0225 % -28 %，NaN0332 % -38 %，CeS0415 % -18 %。
[0033] 本發(fā)明提供的離子滲劑，在光軸表面經(jīng)氮碳鑭離子滲劑處理，氮碳鑭離子滲劑中 的離子在金屬表面形成預(yù)期厚度的滲層，該滲層由金屬元素的氮碳化合物以及氮在鐵中的 固溶體組成，具有高耐磨和高耐蝕的特性。
[0034] 之后，經(jīng)活化離子滲劑進(jìn)一步滲入并向光軸方向擴(kuò)散，再次完成擴(kuò)散以及吸附過 程，調(diào)整金屬元素的氮碳化合物的比例和增加復(fù)合滲層厚度，從而提高光軸的抗疲勞性能。 [0035] 最后，通過氧離子滲劑滲入處理，殘留于金屬表面的離子活化滲劑與氧離子滲劑 反應(yīng)，形成的滲層為一部分氧以間隙形式溶入化合物晶格中形成中間體，另一部分氧在表 面形成金屬氧化層，從而進(jìn)一步提高金屬的耐蝕性能。
[0036] 本發(fā)明通過將非金屬兀素和微量金屬兀素滲入光軸的表面中，在光軸的表面形成 復(fù)合化合物層以及金屬氧化層，不僅極大地提高了光軸的耐磨性和耐蝕性，并且對環(huán)境沒 有污染。
[0037] 下面通過幾個(gè)具體實(shí)施例來說明通過使用本發(fā)明提供的離子滲劑對金屬表面進(jìn) 行滲入處理之后達(dá)到的效果。
[0038] 實(shí)施例1 :
[0039] 對材料為45鋼的光軸進(jìn)行前清洗，清除光軸表面油污和表面銹跡；將光軸在 390°C下預(yù)熱20min，后經(jīng)氮碳鑭離子滲劑在570°C下滲入處理120min ;其中氮碳鑭離子滲 劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0313%，K 2C0313%，NaCN065%，CeC032%，Li2C0 36%， La2C03l% ;之后再經(jīng)離子活化滲劑530°C下滲入處理60min ;離子活化滲劑按重量百分比 計(jì)包括以下組分：Na2S0410%，Na2C0 316%，K2C0315%，C0(NH2)245 %，K2S032%，CeC032 %， Li0H5%，KC15% ;最后經(jīng)氧離子滲劑在400°C下滲入處理30min，氧離子滲劑按重量百分比 計(jì)包括以下組分：Na2C0 320%，NaN0220%，NaN0340%，CeS0420% ;
[0040] 如圖1和圖2所示，在光軸的表面上由內(nèi)至外依次形成復(fù)合化合物層1以及金屬 氧化層2 ;清除光軸表面滲劑，用水清洗干凈，烘干；將光軸在170°C下經(jīng)離子穩(wěn)定化處理 25min ;離子穩(wěn)定劑按重量百分比包括以下組分：烷烴80%、環(huán)烷烴15%、聚烯烴4%、元明 粉1% ;經(jīng)離子穩(wěn)定化的光軸進(jìn)入盛裝10#機(jī)油的油槽，浸油時(shí)間5min。
[0041] 經(jīng)過上述方法制備出的黑金光軸中，復(fù)合化合物層以及所述金屬氧化層的厚度為 19 μ m，硬度為 540Hv。
[0042] 實(shí)施例2 :
[0043] 對材料為GCrl5的光軸進(jìn)行前清洗，清除光軸表面油污和表面銹跡，將光軸在 450°C下預(yù)熱40min，將預(yù)熱后的光軸經(jīng)氮碳鑭離子滲劑在590°C下滲入處理90min ;其 中氮碳鑭離子滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0315%，K 2C0315%，NaCN0 60%， CeC0s3%, Li2C036. 97%, La2C030 . 03% ；
[0044] 再經(jīng)離子活化滲劑550°C下滲入處理90min ;離子活化滲劑按重量百分比計(jì)包括 以下組分：Na2S045%，Na2C0 320%，K2C0314%，C0(NH2)230%，K 2S033%，CeC033%，LiOHIO%， KC1 15% ；
[0045] 之后將光軸經(jīng)氧離子滲劑430°C下滲入處理30min ;氧離子滲劑按重量百分比計(jì) 包括以下組分：Na2C0330%，NaN0230%，NaN0 330%，CeS0410% ;
[0046] 如圖1和圖2所示，在光軸的表面上由內(nèi)至外依次形成復(fù)合化合物層1以及金屬 氧化層2 ;清除光軸表面滲劑，用水清洗干凈，自然干；將光軸180°C下經(jīng)離子穩(wěn)定化處理 20min ;離子穩(wěn)定劑按重量百分比包括以下組分：烷烴93%、環(huán)烷烴5%、聚烯烴1.8%、元明 粉0. 2% ;經(jīng)離子穩(wěn)定化的光軸進(jìn)入盛裝20#機(jī)油的油槽，浸油時(shí)間9min。
[0047] 經(jīng)過上述方法制備出的黑金光軸，復(fù)合化合物層以及所述金屬氧化層的厚度為 23 μ m，硬度為 730Hv。
[0048] 實(shí)施例3 :
[0049] 對材料為40MnV的光軸進(jìn)行前清洗，清除光軸表面油污和表面銹跡，將光軸在 400°C下預(yù)熱30min ;將上述加熱后的光軸經(jīng)氮碳鑭離子滲劑61(TC下滲入處理80min ;其 中氮碳鑭離子滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0312%，K 2C0320%，NaCN0 57%， CeC0s3%, Li2C037. 95%, La2C030 . 05% ；
[0050] 再將上述步驟處理過的光軸經(jīng)離子活化滲劑在500°C下滲入處理lOOmin ;離子 活化滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2S048%，Na2C0 310%，K2C0320%，C0(NH2)241%， K2S032%, CeC032%, LiOH 7%,KC1 10% ；
[0051] 再將光軸經(jīng)氧離子滲劑400°C下滲入處理20min，氧離子滲劑按重量百分比計(jì)包 括以下組分：Na 2C0325%，NaN0225%，NaN0332%，CeS0 418% ;
[0052] 如圖1和圖2所示，在光軸的表面上由內(nèi)至外依次形成復(fù)合化合物層1以及金屬 氧化層2 ;清除光軸表面滲劑，用水清洗干凈，自然干；將光軸160°C下經(jīng)離子穩(wěn)定化處理 30min ;離子穩(wěn)定劑按重量百分比包括以下組分：烷烴93%、環(huán)烷烴5%、聚烯烴1%、元明粉 1% ;經(jīng)離子穩(wěn)定化的光軸進(jìn)入盛裝20#機(jī)油的油槽，浸油時(shí)間lOmin;
[0053] 經(jīng)過上述方法制備出的黑金光軸，復(fù)合化合物層以及所述金屬氧化層的厚度為 31 μ m，硬度為 650Hv。
[0054] 實(shí)施例4 :
[0055] 對材料為304的不銹鋼光軸進(jìn)行前清洗，清除光軸表面油污和表面銹跡；將光軸 420°C下預(yù)熱32min，預(yù)熱后的光軸經(jīng)氮碳鑭離子滲劑580°C下滲入處理lOOmin ;其中氮碳 鑭離子滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0315%，K 2C0316%，NaCN0 55%，CeC033%， Li2C0310%, La2C03l% ；
[0056] 將上述步驟處理過的光軸經(jīng)離子活化滲劑滲入處理，操作溫度為520°C，時(shí)間為 80min ;離子活化滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2S047%，Na2C0 317%，K2C0317%， C0(NH2)236%, K2S031%, CeC032%, LiOH 8%,KC1 12% ；
[0057] 再將光軸經(jīng)氧離子滲劑滲入處理，操作溫度為420°C，時(shí)間為25min ;氧離子滲劑 按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0328%，NaN022 5%，NaN0332%，CeS0415% ;如圖1和圖 2所示，在光軸的表面由內(nèi)至外依次形成復(fù)合化合物層1以及金屬氧化層2，
[0058] 清除光軸表面滲劑，用水清洗干凈，自然干；將光軸經(jīng)離子穩(wěn)定化處理，操作溫度 為150°C，時(shí)間為40min ;離子穩(wěn)定劑按重量百分比包括以下組分：烷烴89%、環(huán)烷烴5%、 聚烯烴5%、元明粉1% ;經(jīng)離子穩(wěn)定化的光軸進(jìn)入盛裝20#機(jī)油的油槽，浸油時(shí)間8min ;
[0059] 經(jīng)過上述方法制備出的黑金光軸，復(fù)合化合物層以及所述金屬氧化層的厚度為 48以111，硬度為1030辦。
[0060] 實(shí)施例5 :
[0061] 將由45#鋼制成的光軸進(jìn)行前清洗，清除光軸表面油污和表面銹跡；將光 軸370°C下預(yù)熱35min ;將上述加熱后的光軸經(jīng)氮碳鑭離子滲劑滲入處理，操作溫度為 630°C，時(shí)間為90miη ;其中氮碳鑭離子滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0315 %， K2C0320% ,NaCN0 55%, CeC0s3%, Li2C036%, La2C03l% ；
[0062] 將上述步驟處理過的光軸經(jīng)離子活化滲劑滲入處理，操作溫度為530°C，時(shí)間為 45min ;離子活化滲劑按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2S046%，Na2C0 315%，K2C0317%， CO (NH2) 240 %, K2S031 %, CeC032 %, LiOH 7 %, KC1 12 % ；
[0063] 再將光軸經(jīng)氧離子滲劑滲入處理，操作溫度為380°C，時(shí)間為30min ;氧離子滲劑 按重量百分比計(jì)包括以下組分：Na2C0325%，NaN0225%，NaN0 335%，CeS0415% ;
[0064] 如圖1和圖2所示，在光軸的表面由內(nèi)至外依次形成復(fù)合化合物層1以及金屬 氧化層2,清除光軸表面滲劑，用水清洗干凈，自然干；將光軸經(jīng)離子穩(wěn)定化處理，操作溫度 為140°C，時(shí)間為50min ;離子穩(wěn)定劑按重量百分比包括以下組分：烷烴85%、環(huán)烷烴12%、 聚烯烴2.5%、元明粉0.5% ;經(jīng)離子穩(wěn)定化的光軸進(jìn)入盛裝10#機(jī)油的油槽，浸油時(shí)間 lOmin ；
[0065] 經(jīng)過上述方法制備出的黑金光軸，復(fù)合化合物層以及所述金屬氧化層的厚度為 43 μ m，硬度為 560Hv。
[0066] 由上述5個(gè)實(shí)施例可以看出，通過本發(fā)明提供的離子滲劑，與現(xiàn)有技術(shù)中的光軸 相比，將非金屬元素和微量金屬元素滲入到光軸表面，在其表面形成高性能的耐磨防腐層， 質(zhì)量穩(wěn)定，在光軸表面形成了一定厚度的防腐耐蝕層，并且也具有很好的硬度，對環(huán)境無污 染。
[0067] 實(shí)驗(yàn)例1 :
[0068] 將本發(fā)明實(shí)施例1提供的試樣與鍍鉻試樣進(jìn)行滑動(dòng)磨損試驗(yàn)和中性鹽霧試驗(yàn)對 t匕，其中鍍鉻試樣由山西長治清華機(jī)械公司提供。
[0069] 中性鹽霧試驗(yàn)按GB/T10125相關(guān)條款進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。試驗(yàn)儀器為KD60鹽霧試驗(yàn)機(jī)，試 驗(yàn)參數(shù)為：試驗(yàn)室溫度35°C，壓力桶溫度47°C，噴霧壓力17psi，試驗(yàn)時(shí)間216h ;從試驗(yàn)結(jié) 果可以看到，鍍鉻試樣在本試驗(yàn)后，銹蝕相當(dāng)嚴(yán)重；而按本發(fā)明實(shí)施例1的方法制備出的試 樣在216小時(shí)以內(nèi)均未出現(xiàn)銹跡。具體試驗(yàn)效果見圖3。
[0070] 實(shí)驗(yàn)例2 :
[0071] 滑動(dòng)磨損試驗(yàn)按照GB/T12444. 1-1990的規(guī)定進(jìn)行。試驗(yàn)儀器為MM-200型試驗(yàn)機(jī)。 試驗(yàn)參數(shù)為：對磨副材料GCrl5圓環(huán)，外徑40mm，硬度HRC57 ;采用失重法測定磨損量，從實(shí) 驗(yàn)結(jié)果可以得到，在剛開始的兩個(gè)小時(shí)內(nèi)鍍鉻試樣和本發(fā)明實(shí)施例1的方法制備出的試樣 表現(xiàn)出的耐磨性能大體相同，后四個(gè)小時(shí)則表現(xiàn)出，鍍鉻試樣的失重斜率高于本發(fā)明實(shí)施 例1的方法制備出的試樣失重斜率，說明經(jīng)本發(fā)明實(shí)施例1的方法制備出的試樣的耐磨性 高于鍍鉻工藝處理的試樣。具體試驗(yàn)效果見圖4。
[0072] 實(shí)驗(yàn)例3 :
[0073] 分別取用本發(fā)明的實(shí)施例3的提供的黑金光軸進(jìn)行中性鹽霧試驗(yàn)。
[0074] 中性鹽霧試驗(yàn)按GB/T10125相關(guān)條款進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。試驗(yàn)儀器為KD60鹽霧試驗(yàn)機(jī)，試 驗(yàn)參數(shù)為：試驗(yàn)室溫度35°C，壓力桶溫度47°C，噴霧壓力17psi，試樣為每組4根黑金光軸， 光軸兩端用密封劑密封，光軸放置于垂直方向呈15?30°，500小時(shí)連續(xù)試驗(yàn)，間隔12小 時(shí)觀察一次，出現(xiàn)第一個(gè)繡點(diǎn)時(shí)記錄時(shí)間，取平均值為腐蝕時(shí)間；同時(shí)觀察光軸連續(xù)504小 時(shí)試驗(yàn)后的腐蝕情況；具體試驗(yàn)效果見下表1以及圖5、圖6。
[0075] 表 1
[0076]

【權(quán)利要求】
1. 用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于，包括在光軸表層形成復(fù)合 化合物層與金屬氧化層，依次采用的氮碳鑭離子滲劑、離子活化滲劑、氧離子滲劑。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于， 按重量百分比計(jì)，所述氮碳鑭離子滲劑由以下組分混合制成：Na2C0310 % -15%， K2C0310 % -20 %，NaCN055 % -65 %，CeC03l % -3 %，Li2C035 % -10 %，La2C030 . 03-1 %。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于， 按重量百分比計(jì)，所述氮碳鑭離子滲劑由以下組分混合制成：Na2C0310 % -13%， K2C0313 % -18 %，NaCN055 % -60 %，CeC03l % -3 %，Li2C035 % -8 %，La2C030 . 03-0 . 08 %。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于， 以重量百分比計(jì)，所述離子活化滲劑由以下組分混合制成：Na2S045 % -10%， Na2C0310 % -20 %, K2C0310 % -20 %, CO (NH2) 230 % -45 %, K2S031 % -3 %, CeC03l % -3 %, LiOH5% -10%，KC15% -15%。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于， 按重量百分比計(jì)，所述離子活化滲劑由以下組分混合制成：Na2S045 % -8%， Na2C0310 % -15 %, K2C0310 % -15 %, CO (NH2) 235 % -40 %, K2S032 % -3 %, CeC032 % -3 %, LiOH8% -10%，KC15% -10%。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于， 按重量百分比計(jì)，所述氧離子滲劑由以下組分混合制成：Na2C0320 % -30%， NaN0220% -30%，NaN0330% -40%，CeS0410% -20%。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于提高光軸耐蝕性和耐磨性的離子滲劑，其特征在于， 按重量百分比計(jì)，所述氧離子滲劑由以下組分混合制成： Na2C0325 % -28 %，NaN022 5 % -28 %，NaN0332 % -38 %，CeS0415 % -18 %。
【文檔編號】C23C12/00GK104152843SQ201410444336
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年9月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月2日
【發(fā)明者】羅德福, 漆世榮 申請人:成都伍田機(jī)械技術(shù)有限責(zé)任公司