一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其包括晶片研磨臺(tái)與晶片研磨漿料回收裝置；所述晶片研磨漿料回收裝置包括采用空心結(jié)構(gòu)的研磨漿料處理室；所述晶片研磨漿料回收裝置設(shè)置有連接至晶片研磨機(jī)臺(tái)的漿料流入管道，以及漿料流出管道；所述研磨漿料處理室內(nèi)部設(shè)置有多級(jí)過(guò)濾裝置；采用上述技術(shù)方案的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其可對(duì)晶片研磨中的漿料進(jìn)行回收，避免漿料的浪費(fèi)；同時(shí)，晶片研磨漿料回收裝置可對(duì)回收后的漿料進(jìn)行篩選，獲取含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料投入研磨工作，從而避免在研磨過(guò)濾中，過(guò)大研磨粉末造成晶片粗糙度過(guò)大，或過(guò)小研磨粉末造成的研磨效率低下。
【專利說(shuō)明】一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種晶片加工裝置，尤其是一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在晶片加工中，往往在研磨機(jī)臺(tái)內(nèi)通過(guò)含有研磨粉料的研磨漿料對(duì)晶片進(jìn)行研磨。而研磨漿料往往在加工中會(huì)出現(xiàn)不同程度的滲出或流失，其會(huì)造成相當(dāng)?shù)睦速M(fèi)。同時(shí)研磨粉料在研磨過(guò)程中，其直徑會(huì)隨研磨時(shí)間逐漸減小；較大的研磨粉料可以提高研磨加工的效率，但同時(shí)會(huì)使得晶片粗糙度有所增加；較小的研磨粉料可以加工中低粗糙度的晶片，但其研磨效率低下，而且當(dāng)研磨粉料的直徑小于一定數(shù)值，其將無(wú)法對(duì)晶片進(jìn)行研磨；故而在研磨過(guò)程中對(duì)漿料內(nèi)的研磨粉料的直徑進(jìn)行控制直接影響晶片加工的效率與質(zhì)量。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種晶片研磨輔助系統(tǒng)，其可對(duì)晶片研磨中的研磨漿料進(jìn)行回收，并篩選出含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其包括晶片研磨臺(tái)與晶片研磨漿料回收裝置。所述晶片研磨漿料回收裝置包括采用空心結(jié)構(gòu)的研磨漿料處理室；所述晶片研磨漿料回收裝置設(shè)置有連接至晶片研磨機(jī)臺(tái)的漿料流入管道，以及漿料流出管道，其分別通過(guò)漿料流入口、漿料流出口與研磨漿料處理室連接，漿料流出管道端口處設(shè)置有漿料收集槽；所述研磨漿料處理室內(nèi)部設(shè)置有多級(jí)過(guò)濾裝置，過(guò)濾裝置中至少包含有一級(jí)大孔徑過(guò)濾裝置，以及一級(jí)小孔徑過(guò)濾裝置；所述大孔徑過(guò)濾裝置設(shè)置在漿料流入管道對(duì)應(yīng)位置；所述小孔徑過(guò)濾裝置設(shè)置在漿料流出管道對(duì)應(yīng)位置，且其與漿料流出管道之間設(shè)置有阻隔層。
[0005]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述大孔徑過(guò)濾裝置由支架與過(guò)濾網(wǎng)組成；所述支架包括多根長(zhǎng)度相同，且由漿料流入口邊緣向研磨漿料處理室內(nèi)部延伸的條形支架，以及設(shè)置在條形支架端點(diǎn)上的環(huán)形支架；所述過(guò)濾網(wǎng)設(shè)置在支架內(nèi)側(cè)，且與支架緊密連接。采用上述設(shè)計(jì)，其可有效過(guò)濾去漿料中的較大粉末；采用錐臺(tái)狀的過(guò)濾裝置，其與漿料自漿料流入管道流出后的自然傾瀉角度相符，從而避免漿料的沖擊對(duì)條形支架間的過(guò)濾網(wǎng)造成破壞；同時(shí)將過(guò)濾網(wǎng)設(shè)置在支架內(nèi)側(cè)，其可避免過(guò)濾網(wǎng)在長(zhǎng)期沖擊下與支架之間剝離。
[0006]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述大孔徑過(guò)濾裝置中設(shè)置有四根條形支架，其與漿料流入口所在平面所處銳角大小均相等；相鄰條形支架之間夾角均相等，其可有效確保過(guò)濾裝置的穩(wěn)定程度，有效增加其使用壽命。
[0007]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述小孔徑過(guò)濾裝置包括框架與過(guò)濾網(wǎng)；所述框架包括上邊部、下邊部，以及側(cè)邊部，其中，上邊部與研磨漿料處理室中漿料流出口所在端面活動(dòng)連接，下邊部與研磨漿料處理室底面活動(dòng)連接，側(cè)邊部與研磨漿料處理室側(cè)邊部活動(dòng)連接；所述過(guò)濾網(wǎng)在設(shè)置在框架邊部之間；所述阻隔層設(shè)置在框架所在平面與漿料流出口之間，其與框架所在平面平行；所述阻隔層上設(shè)置有漿料流出閥。[0008]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述框架的側(cè)邊部上均設(shè)置有卡扣，研磨漿料處理室對(duì)應(yīng)端面在其對(duì)應(yīng)位置設(shè)置有與卡扣相對(duì)應(yīng)的卡槽，其可輕易取下小孔徑過(guò)濾裝置，從而使得漿料流入漿料流出管道。
[0009]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述框架下邊部與阻隔閥之間的研磨漿料處理室內(nèi)壁上設(shè)置有電控閥，且與通過(guò)PLC控制，其可以有效清除過(guò)濾去的較小粉末，避免其再次混入漿料之中。
[0010]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述大孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)的網(wǎng)眼直徑為4至5微米，所述小孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)的網(wǎng)眼直徑為0.1至0.25微米，其可有效通過(guò)大孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去研磨漿料中的較大粉末，并通過(guò)小孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去研磨漿料中的較小粉末。
[0011]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述晶片研磨漿料回收裝置上設(shè)置有漿料攪拌栗，其由設(shè)置在研磨漿料處理室外部的外殼，與設(shè)置在外殼內(nèi)部的電機(jī)與攪拌棒連接；所述攪拌棒延伸至研磨漿料處理室內(nèi)部，其末端設(shè)置有攪拌葉片；所述攪拌葉片位于大孔徑過(guò)濾裝置與小孔徑過(guò)濾裝置之間。采用上述設(shè)計(jì)，其可對(duì)已篩選的含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料進(jìn)行攪拌，使其分布更為均勻，從而使其研磨質(zhì)量得以改善。
[0012]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述研磨漿料處理室上設(shè)置有延伸至晶片研磨臺(tái)的漿料回流裝置，其由連接至研磨漿料處理室內(nèi)漿料流出口位置的漿料回流管道，設(shè)置在漿料處理室上的漿料回流栗，以及與晶片研磨臺(tái)相連接的漿料回收管道構(gòu)成；所述漿料回流管道設(shè)置在研磨漿料處理室外側(cè)，且固定在研磨漿料處理室外壁上；所述漿料回流栗上設(shè)置有連通至漿料回收管道的備用漿料回收管道；備用漿料回收管道上設(shè)置有備用漿料回收管道控制閥。采用上述設(shè)計(jì)，其可自動(dòng)將處理完畢后的研磨漿料回收至研磨機(jī)臺(tái)中，避免了人工進(jìn)行操作；備用漿料回收管道平時(shí)通過(guò)控制閥關(guān)閉，當(dāng)管道堵塞時(shí)通過(guò)備用管道進(jìn)行漿料的回收使用。
[0013]上述晶片研磨漿料回收系統(tǒng)其在工作時(shí)，研磨漿料沿漿料流入管道流入研磨漿料處理室后，通過(guò)大孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去漿料中的較大粉末，并通過(guò)小孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去漿料中的較小粉末，其余漿料于大孔徑過(guò)濾裝置與小孔徑過(guò)濾裝置之間受攪拌葉片攪拌均勻；此后，控制框架下邊部與阻隔閥之間的研磨漿料處理室內(nèi)壁上的電控閥開(kāi)啟，清除去過(guò)濾出的較小粉末，并取下小孔徑過(guò)濾裝置，打開(kāi)阻隔層上的漿料流出閥，使得含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料沿漿料流出管道流出。
[0014]采用上述技術(shù)方案的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其可對(duì)晶片研磨中的漿料進(jìn)行回收，避免漿料的浪費(fèi)；同時(shí)，晶片研磨漿料回收裝置可對(duì)回收后的漿料進(jìn)行篩選，獲取含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料投入研磨工作，從而避免在研磨過(guò)濾中，過(guò)大研磨粉末造成晶片粗糙度過(guò)大，或過(guò)小研磨粉末造成的研磨效率低下。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型示意圖；
[0016]圖2為本實(shí)用新型中研磨漿料處理室內(nèi)部示意圖；
[0017]圖3為本實(shí)用新型中研磨漿料處理室內(nèi)部俯視圖；
[0018]圖4為本實(shí)用新型中小孔徑過(guò)濾裝置安裝示意圖；[0019]圖5為本實(shí)用新型中漿料回流裝置示意圖；
[0020]附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0021]I 一晶片研磨臺(tái)、2—研磨漿料處理室、3—漿料流入管道、4 一漿料流出管道、5—漿料流入口、6—漿料流出口、7—漿料收集槽、8—大孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)、9一條形支架、10—環(huán)形支架、11—小孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)、12—楽料流出閥、13—卡扣、14 一卡槽、15—電控閥、16—漿料攪拌栗外殼、17—電機(jī)、18—攪拌棒、19 一攪拌葉片、20—框架、21—阻隔層、22—漿料回流管道、23—漿料回流栗、24—楽料回收管道、25—備用漿料回收管道、26—備用漿料回收管道控制閥。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型，應(yīng)理解下述【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。
[0023]如圖1所示的一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其包括晶片研磨臺(tái)I與晶片研磨漿料回收裝置。所述晶片研磨漿料回收裝置包括采用空心結(jié)構(gòu)的研磨漿料處理室2 ;所述晶片研磨漿料回收裝置設(shè)置有連接至晶片研磨機(jī)臺(tái)I的漿料流入管道3，以及漿料流出管道4，其分別通過(guò)漿料流入口 5、漿料流出口 6與研磨漿料處理室2連接，漿料流出管道3端口處設(shè)置有漿料收集槽7 ;所述研磨漿料處理室I內(nèi)部設(shè)置有多級(jí)過(guò)濾裝置，過(guò)濾裝置中至少包含有一級(jí)大孔徑過(guò)濾裝置，以及一級(jí)小孔徑過(guò)濾裝置；所述大孔徑過(guò)濾裝置設(shè)置在漿料流入管道3對(duì)應(yīng)位置；所述小孔徑過(guò)濾裝置設(shè)置在漿料流出管道4對(duì)應(yīng)位置，且其與漿料流出管道4之間設(shè)置有阻隔層21。
[0024]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，如圖2與圖3所示，所述大孔徑過(guò)濾裝置由支架與過(guò)濾網(wǎng)8組成；所述支架包括多根長(zhǎng)度相同，且由漿料流入口 5邊緣向研磨漿料處理室2內(nèi)部延伸的條形支架9，以及設(shè)置在條形支架端點(diǎn)上的環(huán)形支架10;所述過(guò)濾網(wǎng)8設(shè)置在支架內(nèi)偵L且與支架緊密連接。采用上述設(shè)計(jì)，其可有效過(guò)濾去漿料中的較大粉末；采用錐臺(tái)狀的過(guò)濾裝置，其與漿料自漿料流入管道流出后的自然傾瀉角度相符，從而避免漿料的沖擊對(duì)條形支架間的過(guò)濾網(wǎng)造成破壞；同時(shí)將過(guò)濾網(wǎng)設(shè)置在支架內(nèi)側(cè)，其可避免過(guò)濾網(wǎng)在長(zhǎng)期沖擊下與支架之間剝離。
[0025]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述大孔徑過(guò)濾裝置中設(shè)置有四根條形支架9，其與漿料流入口 5所在平面所處銳角大小均相等；相鄰條形支架9之間夾角均相等，其可有效確保過(guò)濾裝置的穩(wěn)定程度，有效增加其使用壽命。
[0026]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，如圖2、圖3與圖4所示，所述小孔徑過(guò)濾裝置包括框架20與過(guò)濾網(wǎng)11 ;所述框架20包括上邊部、下邊部，以及側(cè)邊部，其中，上邊部與研磨漿料處理室2中漿料流出口 6所在端面活動(dòng)連接，下邊部與研磨漿料處理室2底面活動(dòng)連接，側(cè)邊部與研磨漿料處理室2側(cè)邊部活動(dòng)連接；所述過(guò)濾網(wǎng)11在設(shè)置在框架20邊部之間；所述阻隔層21設(shè)置在框架20所在平面與漿料流出口 6之間，其與框架所在平面平行；所述阻隔層21上設(shè)置有漿料流出閥12。
[0027]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述框架20的側(cè)邊部上均設(shè)置有卡扣13，研磨漿料處理室2對(duì)應(yīng)端面在其對(duì)應(yīng)位置設(shè)置有與卡扣13相對(duì)應(yīng)的卡槽14，其可輕易取下小孔徑過(guò)濾裝置，從而使得漿料流入漿料流出管道。[0028]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述框架20下邊部與阻隔閥7之間的研磨漿料處理室I內(nèi)壁上設(shè)置有電控閥15，且與通過(guò)PLC控制，其可以有效清除過(guò)濾去的較小粉末，避免其再次混入漿料之中。
[0029]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述大孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)8的網(wǎng)眼直徑為4至5微米，所述小孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)11的網(wǎng)眼直徑為0.1至0.25微米，其可有效通過(guò)大孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去研磨漿料中的較大粉末，并通過(guò)小孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去研磨漿料中的較小粉末。
[0030]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述晶片研磨漿料回收裝置上設(shè)置有漿料攪拌栗，其由設(shè)置在研磨漿料處理室外部的外殼16，與設(shè)置在外殼16內(nèi)部的電機(jī)17與攪拌棒18連接；所述攪拌棒18延伸至研磨漿料處理室2內(nèi)部，其末端設(shè)置有攪拌葉片19 ;所述攪拌葉片19位于大孔徑過(guò)濾裝置與小孔徑過(guò)濾裝置之間。采用上述設(shè)計(jì)，其可對(duì)已篩選的含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料進(jìn)行攪拌，使其分布更為均勻，從而使其研磨質(zhì)量得以改善。
[0031]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，如圖5所示，所述研磨漿料處理室2上設(shè)置有延伸至晶片研磨臺(tái)I的漿料回流裝置，其由連接至研磨漿料處理室2內(nèi)漿料流出口 6位置的漿料回流管道22，設(shè)置在漿料處理室上的漿料回流栗23，以及與晶片研磨臺(tái)相連接的漿料回收管道24構(gòu)成；所述漿料回流管道22設(shè)置在研磨漿料處理室2外側(cè)，且固定在研磨漿料處理室2外壁上；所述漿料回流栗23上設(shè)置有連通至漿料回收管道24的備用漿料回收管道25，備用漿料回收管道25上設(shè)置有備用漿料回收管道控制閥26。采用上述設(shè)計(jì)，其可自動(dòng)將處理完畢后的研磨漿料回收至研磨機(jī)臺(tái)中，避免了人工進(jìn)行操作，備用漿料回收管道平時(shí)通過(guò)控制閥關(guān)閉，當(dāng)管道堵塞時(shí)通過(guò)備用管道進(jìn)行漿料的回收使用。
[0032]上述晶片研磨漿料回收系統(tǒng)其在工作時(shí)，研磨漿料沿漿料流入管道流入研磨漿料處理室后，通過(guò)大孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去漿料中的較大粉末，并通過(guò)小孔徑過(guò)濾裝置過(guò)濾去漿料中的較小粉末，其余漿料于大孔徑過(guò)濾裝置與小孔徑過(guò)濾裝置之間受攪拌葉片攪拌均勻；此后，控制框架下邊部與阻隔閥之間的研磨漿料處理室內(nèi)壁上的電控閥開(kāi)啟，清除去過(guò)濾出的較小粉末，并取下小孔徑過(guò)濾裝置，打開(kāi)阻隔層上的漿料流出閥，使得含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料沿漿料流出管道流出。
[0033]采用上述技術(shù)方案的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其可對(duì)晶片研磨中的漿料進(jìn)行回收，避免漿料的浪費(fèi)；同時(shí)，晶片研磨漿料回收裝置可對(duì)回收后的漿料進(jìn)行篩選，獲取含有最佳規(guī)格的研磨粉末的漿料投入研磨工作，從而避免在研磨過(guò)濾中，過(guò)大研磨粉末造成晶片粗糙度過(guò)大，或過(guò)小研磨粉末造成的研磨效率低下。
[0034]本實(shí)用新型方案所公開(kāi)的技術(shù)手段不僅限于上述實(shí)施方式所公開(kāi)的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。
【權(quán)利要求】
1.一種晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其包括晶片研磨臺(tái)與晶片研磨漿料回收裝置，其特征在于，所述晶片研磨漿料回收裝置包括采用空心結(jié)構(gòu)的研磨漿料處理室；所述晶片研磨漿料回收裝置設(shè)置有連接至晶片研磨機(jī)臺(tái)的漿料流入管道，以及漿料流出管道，其分別通過(guò)漿料流入口、漿料流出口與研磨漿料處理室連接，漿料流出管道端口處設(shè)置有漿料收集槽；所述研磨漿料處理室內(nèi)部設(shè)置有多級(jí)過(guò)濾裝置，過(guò)濾裝置中至少包含有一級(jí)大孔徑過(guò)濾裝置，以及一級(jí)小孔徑過(guò)濾裝置；所述大孔徑過(guò)濾裝置設(shè)置在漿料流入管道對(duì)應(yīng)位置；所述小孔徑過(guò)濾裝置設(shè)置在漿料流出管道對(duì)應(yīng)位置，且其與漿料流出管道之間設(shè)置有阻隔層。
2.按照權(quán)利要求1所述的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其特征在于，所述大孔徑過(guò)濾裝置由支架與過(guò)濾網(wǎng)組成；所述支架包括多根長(zhǎng)度相同，且由漿料流入口邊緣向研磨漿料處理室內(nèi)部延伸的條形支架，以及設(shè)置在條形支架端點(diǎn)上的環(huán)形支架；所述過(guò)濾網(wǎng)設(shè)置在支架內(nèi)側(cè)，且與支架緊密連接。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其特征在于，所述大孔徑過(guò)濾裝置中設(shè)置有四根條形支架，其與漿料流入口所在平面所處銳角大小均相等；相鄰條形支架之間夾角均相等。
4.按照權(quán)利要求1所述的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其特征在于，所述小孔徑過(guò)濾裝置包括框架與過(guò)濾網(wǎng)；所述框架包括上邊部、下邊部，以及側(cè)邊部，其中，上邊部與研磨漿料處理室中漿料流出口所在端面活動(dòng)連接，下邊部與研磨漿料處理室底面活動(dòng)連接，側(cè)邊部與研磨漿料處理室側(cè)邊部活動(dòng)連接；所述過(guò)濾網(wǎng)在設(shè)置在框架邊部之間；所述阻隔層設(shè)置在框架所在平面與漿料流出口之間，其與框架所在平面平行；所述阻隔層上設(shè)置有漿料流出閥。
5.按照權(quán)利要求1或4所述的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其特征在于，所述框架的側(cè)邊部上均設(shè)置有卡扣，研磨漿料處理室對(duì)應(yīng)端面在其對(duì)應(yīng)位置設(shè)置有與卡扣相對(duì)應(yīng)的卡槽。
6.按照權(quán)利要求5所述的晶片研磨漿料回收系統(tǒng)，其特征在于，所述框架下邊部與阻隔閥之間的研磨漿料處理室內(nèi)壁上設(shè)置有電控閥。
7.按照權(quán)利要求1、2、4任意一項(xiàng)所述的研磨漿料回收裝置，其特征在于，所述大孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)的網(wǎng)眼直徑為4至5微米，所述小孔徑過(guò)濾裝置中過(guò)濾網(wǎng)的網(wǎng)眼直徑為0.1至0.25微米。
8.按照權(quán)利要求7所述的研磨漿料回收裝置，其特征在于，所述晶片研磨漿料回收裝置上設(shè)置有漿料攪拌栗，其由設(shè)置在研磨漿料處理室外部的外殼，與設(shè)置在外殼內(nèi)部的電機(jī)與攪拌棒連接；所述攪拌棒延伸至研磨漿料處理室內(nèi)部，其末端設(shè)置有攪拌葉片；所述攪拌葉片位于大孔徑過(guò)濾裝置與小孔徑過(guò)濾裝置之間。
9.按照權(quán)利要求8所述的研磨漿料回收裝置，其特征在于，所述研磨漿料處理室上設(shè)置有延伸至晶片研磨臺(tái)的漿料回流裝置，其由連接至研磨漿料處理室內(nèi)漿料流出口位置的漿料回流管道，設(shè)置在漿料處理室上的漿料回流栗，以及與晶片研磨臺(tái)相連接的漿料回收管道構(gòu)成；所述漿料回流管道設(shè)置在研磨漿料處理室外側(cè)，且固定在研磨漿料處理室外壁上；所述漿料回流栗上設(shè)置有連通至漿料回收管道的備用漿料回收管道；備用漿料回收管道上設(shè)置有備用漿料回收管道控制閥。
【文檔編號(hào)】B24B57/00GK203600075SQ201420067559
【公開(kāi)日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2014年2月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月17日
【發(fā)明者】廖波, 林文杰, 李燁 申請(qǐng)人:南京京晶光電科技有限公司