本實(shí)用新型涉及被配置成用于將至少一個(gè)功能涂層沉積在眼鏡片上的真空處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

存在多種被配置成用于將至少一個(gè)功能涂層沉積在眼鏡片上的已知真空處理系統(tǒng)，這些系統(tǒng)包括一個(gè)處理機(jī)器(例如Leybold LH1104型)，該處理機(jī)器包括一個(gè)真空室和一個(gè)處理裝置，例如用于通過(guò)蒸發(fā)或通過(guò)等離子體進(jìn)行處理；一個(gè)主泵，該主泵被配置成連接至該機(jī)器的真空室并且用于從該真空室抽吸氣體直至該真空室達(dá)到第一預(yù)定內(nèi)部壓力；以及一個(gè)擴(kuò)散泵，該擴(kuò)散泵也被配置成連接至該機(jī)器的真空室并且用于從該真空室抽吸氣體直至該真空室達(dá)到低于該第一預(yù)定內(nèi)部壓力的第二預(yù)定內(nèi)部壓力。

這樣的擴(kuò)散泵(例如Balzers DIF501型)包括一個(gè)具有底部部件和頂部部件的本體以及被布置在該本體的底部部件中的運(yùn)動(dòng)流體，例如油。該底部部件具體是旨在被加熱用于加熱并蒸發(fā)該運(yùn)動(dòng)流體的熱部件，并且該頂部部件具體是旨在被冷卻用于冷卻并冷凝該被加熱的運(yùn)動(dòng)流體的冷部件。

因此，這些系統(tǒng)進(jìn)一步包括一個(gè)加熱裝置和一個(gè)冷卻裝置，該加熱裝置被配置成用于將存在于該擴(kuò)散泵的本體的第一部分中的運(yùn)動(dòng)流體進(jìn)行加熱并且該冷卻裝置被配置成用于冷卻這個(gè)本體的第二部分，被加熱的運(yùn)動(dòng)流體分子在該冷卻裝置中循環(huán)。

這樣的加熱裝置具有最大運(yùn)行功率并且已知的處理系統(tǒng)一般將這樣的裝置以其最大功率來(lái)使用以便將運(yùn)動(dòng)流體加熱至最大溫度。這樣的裝置所消耗的電功率一般表示，在使用處理系統(tǒng)將功能涂層沉積在 眼鏡片上時(shí)該處理系統(tǒng)所消耗的總功率的一個(gè)重要部分。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種類似類型的、被配置成用于將至少一個(gè)功能涂層沉積在眼鏡片上的真空處理系統(tǒng)，該真空處理系統(tǒng)對(duì)于制造商并且對(duì)使用而言是特別簡(jiǎn)單、方便且經(jīng)濟(jì)的。

因此，本實(shí)用新型在于一種被配置成用于將至少一個(gè)功能涂層沉積在眼鏡片上的真空處理系統(tǒng)，該真空處理系統(tǒng)包括：

-一個(gè)擴(kuò)散泵，該擴(kuò)散泵具有一個(gè)本體，該本體包括被配置成被加熱的一個(gè)熱部件和被配置成被冷卻的一個(gè)冷部件；以及

-一個(gè)隔熱裝置，該隔熱裝置被安裝在所述擴(kuò)散泵的所述本體的熱部件的大部分上、并且被配置成用于減少在所述熱部件與所述本體的外部環(huán)境之間的熱交換。

根據(jù)本實(shí)用新型的系統(tǒng)的、圍繞該熱部件而安裝的隔熱裝置使得在該擴(kuò)散泵的本體的這個(gè)熱部件(又被稱為底部部件)的水平處熱量損失能夠明顯減少。

根據(jù)本實(shí)用新型的系統(tǒng)的隔熱裝置能夠通過(guò)將在該處理系統(tǒng)附近四處走動(dòng)的維護(hù)作業(yè)人員的燒傷風(fēng)險(xiǎn)降到最低來(lái)使得該處理系統(tǒng)的周圍是安全的。

在此，該隔熱裝置可以由安裝在擴(kuò)散泵的本體的熱部件的外壁上的隔熱氈片形成。

所述擴(kuò)散泵優(yōu)選地被配置成連接至所述系統(tǒng)的真空室并且優(yōu)選地被配置成用于從所述真空室抽吸氣體直至所述真空室達(dá)到預(yù)定的內(nèi)部壓力，所述擴(kuò)散泵包括一個(gè)本體，該本體具有第一部分和第二部分，該第一部分位于所述熱部件中并且被配置成用于接納運(yùn)動(dòng)流體，該第二部分位于所述冷部件中并且是與所述第一部分分離的，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括：

-一個(gè)加熱裝置，該加熱裝置被配置成用于將存在于所述本體的所述第一部分中的所述運(yùn)動(dòng)流體加熱，所述本體的所述第二部分被 配置成用于接納從所述被加熱的運(yùn)動(dòng)流體蒸發(fā)的分子并且將其冷卻，以及

-一個(gè)冷卻裝置，該冷卻裝置被配置成用于冷卻所述本體的所述第二部分，

并且該隔熱裝置優(yōu)選地被安裝在所述第一部分的大部分上。

根據(jù)本實(shí)用新型的系統(tǒng)的、圍繞該熱部件的第一部分而安裝的隔熱裝置使得能夠明顯減少在這個(gè)第一部分的水平處的熱量損失。

對(duì)于該加熱裝置的相同或類似的最大功率而言，因此能夠在消耗較少能量的同時(shí)將該運(yùn)動(dòng)流體(一般呈油的形式)與上文所描述的現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)相比更快地加熱至特定溫度和/或更容易將該流體維持在其特定溫度。

對(duì)于用于將該運(yùn)動(dòng)流體加熱至特定溫度的相同或類似時(shí)間段而言，根據(jù)本實(shí)用新型的處理系統(tǒng)還能夠使用具有比上文所描述的現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)中所使用的更低的最大功率的加熱裝置。

應(yīng)注意的是，該運(yùn)動(dòng)流體是液體并且優(yōu)選地是油。

應(yīng)注意的是，該運(yùn)動(dòng)流體的溫度表示該本體的第一部分中的內(nèi)部溫度。

在此，該隔熱裝置可以由安裝在該熱部件的第一部分的外壁上的隔熱氈片形成。

根據(jù)本實(shí)用新型系統(tǒng)的優(yōu)選、簡(jiǎn)單、方便、且經(jīng)濟(jì)的特征：

-所述加熱裝置具有最大功率并且能夠?qū)⑺鲞\(yùn)動(dòng)流體加熱至最大溫度，并且所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括一個(gè)調(diào)節(jié)裝置，該調(diào)節(jié)裝置被配置成用于控制并命令由所述加熱裝置遞送的加熱功率來(lái)將所述運(yùn)動(dòng)流體加熱至低于所述最大溫度的最佳溫度；

-所述調(diào)節(jié)裝置包括一個(gè)測(cè)量構(gòu)件(例如，熱電偶)和一個(gè)控制與命令單元，該測(cè)量構(gòu)件被容納在所述擴(kuò)散泵的所述本體的所述第一部分內(nèi)并且被配置成用于測(cè)量所述運(yùn)動(dòng)流體的溫度，該控制與命令單元包括多個(gè)系統(tǒng)元件，這些系統(tǒng)元件被配置成用于控制所述運(yùn)動(dòng)流體的所述溫度并且命令所述加熱功率；

-所述控制與命令單元的所述系統(tǒng)元件被進(jìn)一步配置成：

-用于命令所述加熱裝置處于其最大功率，

-用于接收并儲(chǔ)存所述運(yùn)動(dòng)流體的最大溫度值，

-用于接收并儲(chǔ)存根據(jù)多個(gè)預(yù)定參數(shù)而采取的至少一個(gè)特征，該至少一個(gè)特征表示所述真空室的最小內(nèi)部壓力，

-用于命令所述加熱裝置處于低于所述加熱裝置的最大功率的加熱功率，

-用于接收并儲(chǔ)存所述運(yùn)動(dòng)流體的溫度值，

-用于接收并儲(chǔ)存根據(jù)所述預(yù)定參數(shù)而采取的至少一個(gè)特征，該至少一個(gè)特征表示所述真空室的內(nèi)部壓力，

所述控制與命令單元的所述系統(tǒng)元件被進(jìn)一步配置成用于命令所述加熱裝置處于低于其最大功率的加熱功率直至達(dá)到所述擴(kuò)散泵對(duì)所述真空室中氣體的泵送效率損失，并且用于從其中推斷出所述運(yùn)動(dòng)流體的臨界溫度；

-所述擴(kuò)散泵對(duì)所述真空室中氣體的所述泵送效率損失表示所述真空室內(nèi)的、高于預(yù)定閾值的內(nèi)部壓力，該閾值可以例如對(duì)應(yīng)于當(dāng)該流體以該加熱裝置的最大功率被加熱時(shí)所獲得的內(nèi)部壓力，或者該泵送效率損失表示高于這個(gè)預(yù)定閾值的壓力變化，這可以例如表達(dá)為當(dāng)該流體以該最大功率被加熱時(shí)所獲得的內(nèi)部壓力的百分比；

-所述控制與命令單元的所述系統(tǒng)元件被進(jìn)一步配置成用于從所述臨界溫度來(lái)確定所述最佳溫度，所述最佳溫度優(yōu)選地至少高于該臨界溫度；

-所述臨界溫度是恰在達(dá)到所述泵送效率損失前接收到的所述運(yùn)動(dòng)流體的溫度并且所述最佳溫度在以下范圍內(nèi)：[臨界溫度+5°；臨界溫度+15°]；

-所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括一個(gè)注氣裝置，該注氣裝置被配置成連接至所述系統(tǒng)的所述真空室并且被配置成用于將氣體(優(yōu)選地氧氣)以特定的流速注入所述真空室中，并且所述預(yù)定參數(shù)對(duì)應(yīng)于所述氣體流速；

-所述系統(tǒng)包括所述真空室以及至少一個(gè)處理裝置，例如用于通過(guò)蒸發(fā)和/或通過(guò)等離子體進(jìn)行處理；和/或

-所述系統(tǒng)被配置成用于將至少一個(gè)抗劃傷和/或減反射涂層沉積在眼鏡片上。

附圖說(shuō)明

接下來(lái)以通過(guò)非限制性圖示的方式并且參考附圖在下文給出的一個(gè)實(shí)施例的描述來(lái)繼續(xù)對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行披露，在附圖中：

-圖1根據(jù)本實(shí)用新型的、被配置成用于將至少一個(gè)功能涂層沉積在眼鏡片上的真空處理系統(tǒng)的局部圖形表示；

-圖2是圖1系統(tǒng)的子系統(tǒng)的圖形表示，該子系統(tǒng)由與加熱裝置和與冷卻裝置相關(guān)聯(lián)的擴(kuò)散泵形成；并且

-圖3和圖4是框圖，展示了圖1和圖2中所示的系統(tǒng)及其子系統(tǒng)的操作中的各個(gè)步驟。

具體實(shí)施方式

圖1示出了被配置成用于將至少一個(gè)功能涂層3沉積在眼鏡片2上的真空處理系統(tǒng)1。

在此，系統(tǒng)1被配置成用于將抗劃傷/或減反射涂層3沉積在眼鏡片2的至少一面上。

系統(tǒng)1包括真空室4、連接至真空室4的真空泵5(又被稱為主泵)、同樣連接至真空室4的擴(kuò)散泵6(也被稱為輔助泵)、同樣連接至真空室4的注氣裝置7、以及控制與命令單元8。

系統(tǒng)1進(jìn)一步包括將真空室4連接至注氣裝置7的入口回路20、將真空室4連接至真空泵5的主出口回路22、以及將真空室4連接至擴(kuò)散泵6的輔助出口回路21。

系統(tǒng)1還包括在此由均直接連接至真空室4的等離子體發(fā)生器12和蒸發(fā)裝置13形成的一個(gè)或多個(gè)處理裝置。

等離子體發(fā)生器12和蒸發(fā)裝置13總體上與真空室4鄰接或者被 布置在其內(nèi)部空間10中。

真空室4包括一個(gè)可移動(dòng)或可移除的門(mén)11并且包括內(nèi)部空間10，該內(nèi)部空間被配置成用于接收一個(gè)或多個(gè)處理的眼鏡片2、或者甚至用于直接接收一副包含鏡片和鏡架在內(nèi)的眼鏡。

真空室4進(jìn)一步包括連接至入口回路20的入口孔口14、連接至主出口回路22上的主出口孔口16、以及連接至輔助出口回路21上的輔助出口孔口15。

系統(tǒng)1進(jìn)一步包括經(jīng)由第一分支點(diǎn)24連接至主出口回路22的第一壓力傳感器26以及經(jīng)由第二分支點(diǎn)23連接至輔助出口回路21上的第二壓力傳感器25。

真空泵5被配置成用于從真空室4抽吸氣體直至該真空室達(dá)到內(nèi)部壓力P，該內(nèi)部壓力優(yōu)選地等于或小于第一預(yù)定閾值S1。

真空泵5經(jīng)由入口孔口(未示出)并且還經(jīng)由出口孔口(未示出)連接至主出口回路22，這樣使得這個(gè)主出口回路22穿過(guò)真空泵5。

在此，真空泵5連接至一個(gè)閥(未示出)，該閥安裝在主出口回路22上、在第一分支點(diǎn)24與其入口孔口之間。

真空泵5還連接至過(guò)濾器裝置(未示出)，該過(guò)濾器裝置經(jīng)由這個(gè)過(guò)濾器裝置的入口孔口和排放孔口連接至主出口回路22。

在此，運(yùn)動(dòng)流體類型(例如，油類型)的擴(kuò)散泵6被配置成用于接替真空泵4并且因此用于從真空室4抽吸氣體直至該真空室達(dá)到內(nèi)部壓力P，該內(nèi)部壓力優(yōu)選地等于或低于比第一預(yù)定閾值S1更低的第二預(yù)定閾值S2。

擴(kuò)散泵6連接至一個(gè)閥(未示出)，該閥安裝在輔助出口回路21上、在第二分支點(diǎn)23與其入口孔口之間。

系統(tǒng)1進(jìn)一步包括被配置成用于加熱并蒸發(fā)運(yùn)動(dòng)流體的加熱裝置30、以及被配置成用于冷卻擴(kuò)散泵6并且因此將油蒸氣與從真空室4中抽吸的氣體分離的冷卻裝置31(如在下文中更詳細(xì)地解釋)。

加熱裝置30具有用于加熱運(yùn)動(dòng)流體9的最大功率Pmax。

系統(tǒng)1還包括調(diào)節(jié)裝置32，該調(diào)節(jié)裝置被配置成用于控制并命令 由加熱裝置32遞送的加熱功率P來(lái)加熱運(yùn)動(dòng)流體。

在此，擴(kuò)散泵6經(jīng)由中間回路19也連接至真空泵5。因此，能夠關(guān)上輔助出口回路21與連接至其上的第二壓力傳感器25而僅使用主出口回路22和經(jīng)由中間回路19連接至其上的第一壓力傳感器26。

注氣裝置7被配置成用于將氣體(在此是氧氣)以預(yù)定流速注入真空室4中。

控制與命令單元8包括多個(gè)系統(tǒng)元件，這些系統(tǒng)元件被配置成用于控制、命令以下各項(xiàng)并且與之交換數(shù)據(jù)：真空泵5、擴(kuò)散泵6、注氣裝置7、這個(gè)或這些處理裝置12和13、第一壓力傳感器25和第二壓力傳感器26、與擴(kuò)散泵6相關(guān)聯(lián)的加熱裝置30和冷卻裝置31、以及調(diào)節(jié)裝置32。

控制與命令單元8包括一個(gè)包含微處理器40的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，該微處理器裝配有存儲(chǔ)器41、尤其是非易失性存儲(chǔ)器，從而使得它能夠加載并儲(chǔ)存軟件(換言之，計(jì)算機(jī)程序)，當(dāng)該計(jì)算機(jī)程序在微處理器40中執(zhí)行時(shí)通過(guò)使用處理系統(tǒng)1來(lái)執(zhí)行真空處理過(guò)程。

這個(gè)非易失性存儲(chǔ)器41例如是ROM(“只讀存儲(chǔ)器”)類型。

單元8進(jìn)一步包括存儲(chǔ)器42、尤其是易失性存儲(chǔ)器，以用于在軟件執(zhí)行和方法實(shí)施過(guò)程中儲(chǔ)存數(shù)據(jù)。

這個(gè)易失性存儲(chǔ)器42例如是RAM(隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)或EEPROM(電可擦除可編程只讀存儲(chǔ)器)類型。

單元8進(jìn)一步包括被配置成用于與該數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)通信的通信接口。

該通信接口在此由圖形用戶界面43和鍵盤(pán)44形成。

圖2更詳細(xì)地示出了與加熱裝置30和冷卻裝置31相關(guān)聯(lián)的擴(kuò)散泵6，這整個(gè)形成了處理系統(tǒng)1的子系統(tǒng)。

擴(kuò)散泵6包括一個(gè)總體上圓柱形的本體34，該本體限定內(nèi)部空間17并且具有熱部件或底部部件27以及冷部件或頂部部件28。

本體34包括在熱部件27中的第一部分35以及在冷部件28中并且與該第一部件35分離的第二部分36。

第一部分35是由圓柱形側(cè)壁39和底壁49界定的并且被配置成用于接納運(yùn)動(dòng)流體9(在此是油)。

第二部分36是由與圓柱形側(cè)壁39一致的圓柱形側(cè)壁38并且由頂壁50界定的。

在此，第一部分35與第二部分36之間的分隔由虛線47表示。

擴(kuò)散泵6進(jìn)一步包括用于使運(yùn)動(dòng)流體9循環(huán)的裝置，該裝置在此包括多個(gè)錐形壁45，這些錐形壁產(chǎn)生內(nèi)部空間46并且在其上端處形成多個(gè)噴嘴、或風(fēng)口48。

在此，加熱裝置30被布置在本體34的底壁49下方并且被配置成用于將存在于本體34的第一部分35中的運(yùn)動(dòng)流體9加熱至特定的最佳溫度Topt。

最佳溫度Topt表示本體34的內(nèi)部溫度并且在此具體是表示其第一部分35中的內(nèi)部溫度。

調(diào)節(jié)裝置32包括測(cè)量裝置18(例如，熱電偶)，該測(cè)量裝置在此被容納在本體34的第一部分35內(nèi)、在其底壁49附近并且被配置成用于測(cè)量運(yùn)動(dòng)流體9的溫度和/或本體34的內(nèi)部溫度。

系統(tǒng)1進(jìn)一步包括隔熱裝置33，該隔熱裝置在此由安裝在圓柱形側(cè)壁39的外部輪廓37的所有部分或至少大部分上的絕緣氈片、或甚至擴(kuò)散泵6的本體34的底壁49形成。

圍繞第一部分35安裝的隔熱裝置33能夠明顯地減少在擴(kuò)散泵6的本體34的這個(gè)第一、底部、和/或熱部分35的水平處的熱量損失。

隔熱裝置33還能夠通過(guò)將在處理系統(tǒng)1附近四處走動(dòng)的維護(hù)作業(yè)人員的燒傷風(fēng)險(xiǎn)降到最低來(lái)使得處理系統(tǒng)1并且尤其是擴(kuò)散泵6的周圍是安全的。

運(yùn)動(dòng)流體9因此被高效且安全地加熱直至它蒸發(fā)，其中蒸氣分子穿過(guò)由這些錐形壁45形成的內(nèi)部空間46，此后它們?cè)趪娮?8的水平處、以被引導(dǎo)朝向本體34的圓柱形側(cè)壁38的射流的形式被排放至第二部分36中，來(lái)自真空室4的氣體擴(kuò)散至該第二部分中。

冷卻裝置31被布置成圍繞本體34的圓柱形側(cè)壁38并且被配置成 用于冷卻第二部分36。

油蒸氣與來(lái)自真空室4的氣體的混合物與本體34的圓柱形側(cè)壁38相接觸并且被分餾。

油9冷凝并且落回至本體34的第一部分35中，同時(shí)這些氣體被引導(dǎo)朝向排放至將真空泵5連接至擴(kuò)散泵6上的中間回路19之中的噴嘴(未示出)、有待排放至外部。

接下來(lái)將參照?qǐng)D3和圖4來(lái)描述真空處理系統(tǒng)1的操作。

在步驟100中，系統(tǒng)1的使用者打開(kāi)真空室4的門(mén)11并且向其中引入有待涂覆的眼鏡片2或替代地一副眼鏡(包括鏡架)。關(guān)閉門(mén)11。

使用者接著運(yùn)行對(duì)眼鏡片2涂覆至少一個(gè)預(yù)定涂層(例如抗劃傷涂層和/或減反射涂層3)的處理程序。

系統(tǒng)1的控制與命令單元8控制并命令該處理的這些步驟。

在這個(gè)步驟101中，命令注氣裝置7將氣體以對(duì)應(yīng)于該處理方法的預(yù)定參數(shù)的特定流速注入真空室4中。

在尤其在溫度和壓力方面的預(yù)定條件下，氣體流速例如可以大約30sccm或100sccm(標(biāo)準(zhǔn)立方米每分鐘)。

在步驟102中，命令真空泵5經(jīng)由主出口回路22來(lái)從真空室4中抽吸氣體。

當(dāng)真空泵5運(yùn)行時(shí)，控制與命令單元8通過(guò)使用壓力傳感器26來(lái)測(cè)量真空室4的內(nèi)部壓力Pch、并且將所測(cè)量的壓力值與第一預(yù)定閾值S1進(jìn)行比較。

當(dāng)真空室4中的內(nèi)部壓力Pch低于這個(gè)第一預(yù)定閾值S1時(shí)，真空泵5停止。

在此，第一預(yù)定閾值S1對(duì)應(yīng)于所謂的啟動(dòng)壓力，例如在10^-3mBar與10^-2mBar之間、例如等于大致7.10^-2mBar。

在步驟103中，命令擴(kuò)散泵6接替真空泵5來(lái)經(jīng)由輔助出口回路21從真空室4抽吸氣體。

被配置成用于控制并命令所遞送的加熱功率的調(diào)節(jié)裝置32命令加熱裝置30在特定壓力P下將運(yùn)動(dòng)流體9加熱至特定最佳溫度Topt。

運(yùn)動(dòng)流體9的加熱功率P和溫度因此被控制與命令單元8控制。

應(yīng)注意的是，加熱裝置30具有最大功率Pmax并且在此能夠?qū)⑦\(yùn)動(dòng)流體9加熱至最大溫度Tmax，并且在此調(diào)節(jié)裝置32被配置成用于控制并命令由加熱裝置32遞送的加熱功率P來(lái)將運(yùn)動(dòng)流體9加熱至低于該最大溫度Tmax的最佳溫度Topt。

可替代地，調(diào)節(jié)裝置32命令加熱裝置30遞送其最大功率Pmax并且因此將運(yùn)動(dòng)流體9加熱至該最大溫度Tmax。

應(yīng)注意的是，絕緣氈片33有利地能夠快速地加熱運(yùn)動(dòng)流體9并且容易地將該流體維持在其特定溫度、同時(shí)消耗極少的能量(因?yàn)榭梢詼p少必要的加熱功率和/或加熱時(shí)間)。

當(dāng)真空泵6運(yùn)行時(shí)，控制與命令單元8通過(guò)使用壓力傳感器25來(lái)測(cè)量真空室4的內(nèi)部壓力Pch、并且將所測(cè)量的壓力值與低于第一預(yù)定閾值S1的第二預(yù)定閾值S2進(jìn)行比較。

當(dāng)真空室4中的內(nèi)部壓力Pch低于第二預(yù)定閾值S2時(shí)，擴(kuò)散泵6停止。注氣裝置7也被停止。

第二預(yù)定閾值S2在此對(duì)應(yīng)于所謂的處理壓力、例如在大致10^-6mBar與大致10^-4mBar之間、優(yōu)選地在3×10^-5mBar與大致1.5×10^-4mBar之間。

在步驟104中，使用尤其時(shí)間和功率方面的預(yù)定參數(shù)，根據(jù)有待沉積在鏡片2上的功能涂層3來(lái)控制處理裝置12、13。

接著進(jìn)行將真空室4通風(fēng)以使其中的內(nèi)部壓力Pch回到大氣壓力的步驟105。

在使真空室4中的壓力Pch再平衡的這個(gè)步驟之前，可以命令真空泵5經(jīng)由主出口回路22來(lái)抽吸該處理過(guò)程中在真空室4所排出的這些氣體。在這些氣體被排放至外部之前可以通過(guò)該過(guò)濾器裝置(未示出)進(jìn)行過(guò)濾。

這終止了處理鏡片2的過(guò)程并且在步驟106中，系統(tǒng)1的使用者可以打開(kāi)真空室4的門(mén)11以便從中取出經(jīng)處理的鏡片2。

接下來(lái)參照?qǐng)D4來(lái)描述確定被加熱的運(yùn)動(dòng)流體9的最佳溫度Topt 的方法。

在步驟200中，控制與命令單元8的系統(tǒng)元件被配置成用于命令加熱裝置30處于其最大功率。

在步驟201中，運(yùn)動(dòng)流體9的最大溫度值Tmax是由測(cè)量裝置18測(cè)量的，該測(cè)量裝置在此采用了被布置在擴(kuò)散泵6的本體34中的熱電偶的形式?？刂婆c命令單元8的這些系統(tǒng)元件因此被配置成用于接收并且儲(chǔ)存這個(gè)最大溫度值Tmax。

在步驟202中，真空室4中的內(nèi)部壓力值Pch是由壓力傳感器25根據(jù)這些預(yù)定參數(shù)(尤其是用于將注氣真空室4中的裝置7所供應(yīng)的氧氣流速值)而測(cè)量的。控制與命令單元8的這些系統(tǒng)元件因此被配置成用于接收并儲(chǔ)存真空室4中的內(nèi)部壓力Pch的這個(gè)值。

在步驟203中，調(diào)節(jié)裝置32命令加熱裝置30處于低于其最大功率Pmax的加熱功率Pi。

在步驟204中，運(yùn)動(dòng)流體9的溫度Ti的值是由測(cè)量單元18測(cè)量的?？刂婆c命令單元8的這些系統(tǒng)元件因此被配置成用于接收并儲(chǔ)存這個(gè)溫度值Ti。

此外，在步驟205中，真空室4中的內(nèi)部壓力Pi-ch的值是由壓力傳感器25在相同的預(yù)定參數(shù)下測(cè)量的。控制與命令單元8的這些系統(tǒng)元件因此被配置成用于接收并且儲(chǔ)存真空室4中的內(nèi)部壓力Pi-ch的這個(gè)值。

在步驟206中，控制與命令單元8的這些系統(tǒng)元件被進(jìn)一步配置成用于接收例如與壓力值或壓力變化(被表述為百分比)相對(duì)應(yīng)的預(yù)定閾值Ps。

在步驟207中，將真空室4中的內(nèi)部壓力Pi-ch的測(cè)量值與預(yù)定閾值Ps進(jìn)行比較。

預(yù)定閾值Ps可以例如對(duì)應(yīng)于當(dāng)流體以擴(kuò)散泵6的最大功率Pmax被加熱時(shí)所獲得的內(nèi)部壓力Pch、或者對(duì)應(yīng)于被表達(dá)為當(dāng)流體9以擴(kuò)散泵6的最大功率Pmax被加熱時(shí)獲得的內(nèi)部壓力P的百分比的一個(gè)壓力變化。

應(yīng)注意的是，控制與命令單元8的這些系統(tǒng)元件在此被配置成用于命令加熱裝置30處于低于其最大功率Pmax的加熱功率Pi直至達(dá)到擴(kuò)散泵6對(duì)真空室4中氣體的泵送效率損失。

擴(kuò)散泵6對(duì)真空室4中的氣體的泵送效率損失表示真空室4內(nèi)、高于預(yù)定閾值Ps的內(nèi)部壓力。

在此，如果內(nèi)部壓力Pi-ch的測(cè)量值低于或等于預(yù)定閾值Ps，則該方法返回至步驟203并且調(diào)節(jié)裝置32以甚至更低的加熱功率Pi(Pi<Pi-1<Pmax)來(lái)命令加熱裝置30。

測(cè)量運(yùn)動(dòng)流體9的溫度Ti和內(nèi)部壓力Pi-ch的新值(在步驟204和205中)并且進(jìn)行新的比較(在步驟207中)直至內(nèi)部壓力Pi-ch的測(cè)量值高于預(yù)定閾值Ps。

當(dāng)內(nèi)部壓力Pi-ch的測(cè)量值高于預(yù)定閾值Ps時(shí)，控制與命令單元8的這些系統(tǒng)元件在步驟208中被配置成用于推斷運(yùn)動(dòng)流體9的臨界溫度Tc是等于真空室4中流體9的溫度Ti的最后測(cè)量值。

在步驟209中，最佳溫度Topt是根據(jù)已經(jīng)推斷的臨界溫度Tc來(lái)確定的。

最佳溫度Topt優(yōu)選地至少高于臨界溫度Tc；更確切地說(shuō)，臨界溫度Tc是恰在達(dá)到該泵送效率損失前接收到的運(yùn)動(dòng)流體9的溫度并且最佳溫度Topt在以下范圍內(nèi)：[Tc+5°；Tc+15°]。

更一般來(lái)講，應(yīng)指出的是，本實(shí)用新型不局限于所描述和所示的這些實(shí)例。