技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種等離子體系統(tǒng)的腔室包括：腔室壁，其定義等離子體加工區(qū)域；襯底支架，其經(jīng)配置以支撐等離子體加工區(qū)域中的襯底；以及內(nèi)襯，其位在等離子體加工區(qū)域中并且將腔室壁與等離子體加工區(qū)域分離。還提供一種用于等離子體系統(tǒng)的內(nèi)襯以及一種用于將內(nèi)襯安裝到等離子體系統(tǒng)的方法。

技術(shù)研發(fā)人員：廖崇憲;蔡文包
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.30
技術(shù)公布日：2017.09.12