技術(shù)總結(jié)
公開了用于外延生長裝置的腔室部件。反應(yīng)腔室由頂板來界定和形成。反應(yīng)氣體在側(cè)壁中所設(shè)置的反應(yīng)氣體供應(yīng)路徑中整流，使得在所述反應(yīng)腔室中的所述反應(yīng)氣體的流動(dòng)方向上的水平分量對應(yīng)于從所述反應(yīng)氣體供應(yīng)路徑的開口的中心延伸的方向上的水平分量。對所述外延生長裝置的上側(cè)壁、基座和整流板的改進(jìn)已使得提高了基板上形成的外延層的均勻性和形成速度，從而使得產(chǎn)量更高并且缺陷更少。

技術(shù)研發(fā)人員：大木慎一;森義信
受保護(hù)的技術(shù)使用者：應(yīng)用材料公司
文檔號(hào)碼：201620241726
技術(shù)研發(fā)日：2016.03.25
技術(shù)公布日：2017.01.04