一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，包括依次連接的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室；進片室的入口處設有真空鎖，進片室和前過渡室之間設有真空鎖，前過渡室和前緩沖室之間設有真空鎖，后緩沖室和后過渡室之間設有真空鎖，后過渡室和出片室之間設有真空鎖，出片室的出口處設有真空鎖；連通的前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室形成相通的真空室；鍍膜室內(nèi)設有鍍膜源。所述進片室的入口端設有進料架，出片室的出口端設有出料架。本實用新型能采用環(huán)保的方式對線路板的開孔進行金屬化的處理，屬于線路板開孔的金屬化處理的技術領域。
【專利說明】
一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備
技術領域
[0001]本實用新型涉及線路板開孔的金屬化處理的技術領域，尤其涉及一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有的線路板，在設計線路定型后，線路板上下表面需連通位置或者安裝電子元件時，需在線路板上設置貫通的開孔，再將此線路板開孔進行金屬化處理?，F(xiàn)行的開孔金屬化處理方式基本上都是采用化學鍍或者水電鍍的方法。但是因為化學鍍或者水電鍍的制作過程不環(huán)保，甚至還會產(chǎn)生廢水、廢渣或污染、腐蝕性氣體。因此采用環(huán)保式干法處理是一個必由趨勢。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]針對現(xiàn)有技術中存在的技術問題，本實用新型的目的是:提供一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，能采用環(huán)保的方式對線路板的開孔進行金屬化的處理；
[0004]為了達到上述目的，本實用新型采用如下技術方案:
[0005]—種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，包括依次連接的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室;進片室的入口處設有真空鎖，進片室和前過渡室之間設有真空鎖，前過渡室和前緩沖室之間設有真空鎖，后緩沖室和后過渡室之間設有真空鎖，后過渡室和出片室之間設有真空鎖，出片室的出口處設有真空鎖;連通的前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室形成相通的真空室;鍍膜室內(nèi)設有鍍膜源。線路板依次經(jīng)過各個真空室，即可實現(xiàn)線路板開孔的金屬化處理。
[0006]進一步的是:所述進片室的入口端設有進料架，出片室的出口端設有出料架。
[0007]進一步的是:所述的鍍膜源為磁控濺射陰極或電弧離子陰極。
[0008]進一步的是:所述的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室均設置有抽真空機組。抽真空機組用于保證各個真空室內(nèi)處于真空環(huán)境。
[0009]進一步的是:所述的鍍膜室內(nèi)充入惰性氣體。
[0010]進一步的是:所述進片室和出片室的工作壓力的范圍為O?lOOPa，前過渡室和后過渡室的工作壓力<10—1Pa,所述線路板在鍍膜室的移動速度的范圍為0.05?5m/min。
[0011]進一步的是:所述的進片室或者前過渡室設有等離子清洗裝置。
[0012]進一步的是:所述鍍膜室的下部設有傳動輥，線路板通過托盤放置在傳動輥上。
[0013]總的說來，本實用新型具有如下優(yōu)點:
[0014]1.本實用新型中線路板開孔的金屬化處理，是在真空環(huán)境下完成的，沒有任何污染液體和氣體，而且真空過程中也無廢氣排放入空氣中，實現(xiàn)了環(huán)保無污染，提升了產(chǎn)品市場的競爭力。
[0015]2.本實用新型采用磁控濺射陰極或電弧離子陰極的鍍膜方法，可以獲得線路板開孔處的金屬層，開孔處的金屬層厚度能保持一致，提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0016]3.采用磁控濺射陰極或電弧離子陰極的鍍膜方法可以獲得致密和高純度的膜層，確保了產(chǎn)品的質(zhì)量。
【附圖說明】

[0017]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0018]圖2是傳動輥、托盤、線路板和鍍膜源處的結構原理圖。
[0019]其中，I為進料架，2為真空鎖，3為進片室，4為抽真空機組，5為前過渡室，6為前緩沖室，7為鍍膜室，8為后緩沖室，9為后過渡室，10為出片室，11為出料架，12為鍍膜源，13為線路板，14為托盤，15為傳動輥。
【具體實施方式】
[0020]下面將結合附圖和【具體實施方式】來對本實用新型做進一步詳細的說明。
[0021]為敘述方便，下文所說的左右方向與圖1本身的左右方向一致。
[0022]結合圖1所示，一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，包括依次連接的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室;進片室的入口處(即進片室的左端)設有真空鎖，進片室和前過渡室之間設有真空鎖，前過渡室和前緩沖室之間設有真空鎖，后緩沖室和后過渡室之間設有真空鎖，后過渡室和出片室之間設有真空鎖，出片室的出口處(即出片室的右端)設有真空鎖;連通的前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室形成相通的真空室，即前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室之間是相通的;鍍膜室內(nèi)設有鍍膜源。進片室是線路板進入鍍膜設備的第一個室，在進片室或者前過渡室可以設置等離子清洗裝置，對線路板進行離子處理，保障鍍膜的結合力。前緩沖室、鍍膜室和后緩沖室是連通的，在這個區(qū)域完成膜層的沉積。后過渡室為了實現(xiàn)真空隔離，即將后緩沖室和出片室隔離開來，保障鍍膜品質(zhì)和提高工作效率。出片室則實現(xiàn)將加工完成的產(chǎn)品輸送出來。
[0023]所述進片室的入口端設有進料架，進料架設置在進片室的左邊，出片室的出口端設有出料架，出料架設置在出片室的右邊。
[0024]所述的鍍膜源為磁控濺射陰極或電弧離子陰極。
[0025]所述的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室均設置有抽真空機組。抽真空機組的一種設置方式是:進片室和出片室設有一個抽真空機組，前過渡室、前緩沖室、后緩沖室、后過渡室分別設有兩個抽真空機組，鍍膜室設有六個抽真空機組。抽真空機組的數(shù)量可根據(jù)實際需要合理設置。
[0026]所述的鍍膜室內(nèi)充入惰性氣體，該惰性氣體為氬氣。
[0027]所述進片室和出片室的工作壓力的范圍為O?lOOPa，前過渡室和后過渡室的工作壓力 <10—1Pa13
[0028]所述線路板在鍍膜室的移動速度的范圍為0.05?5m/min。
[0029]結合圖2所示，所述鍍膜室的下部設有傳動輥，線路板通過托盤放置在傳動輥上。
[0030]使用該鍍膜設備進行鍍膜時，方法如下:
[0031 ] (I)將線路板放置在托盤上，線路板隨托盤一起從進料架進入進片室，對進片室進行初步抽真空處理(即粗真空的排氣)，打開進片室和前過渡室之間的真空鎖，線路板再進入前過渡室，進入前過渡室后，關閉進片室和前過渡室之間的真空鎖，對前過渡室進行進一步的抽真空處理(即尚真空的排氣);
[0032](2)然后將線路板送入前緩沖室，線路板在前緩沖室停留設定的時間后(該設定的時間一般很短，只是稍作停留)，再將線路板送入鍍膜室，線路板隨托盤在鍍膜室內(nèi)運動，鍍膜室內(nèi)的鍍膜源對線路板進行鍍膜；
[0033](3)完成鍍膜后，將線路板送入后緩沖室，線路板在后緩沖室停留設定的時間后，再將線路板送入后過渡室，然后由后過渡室進入出片室，最終從出片室輸送到出料架。
[0034]在線路板進出進片室和出片室、前過渡室和后過渡室、前緩沖室和后緩沖室，均需要打開或關閉相應的真空鎖。在線路板進入前緩沖室后，由于前過渡室和前緩沖室之間的真空鎖被打開，使得鍍膜室的真空環(huán)境被改變，所以需要在前緩沖室停留設定的時間，直至鍍膜室回復到適合鍍膜的真空環(huán)境。在線路板鍍膜完成后，也需要在后緩沖室停留設定的時間，等后緩沖室和后過渡室之間的真空鎖打開后，線路板再進入后過渡室，此時向后過渡室處于高真空的狀態(tài)，線路板進入出片室后，向出片室充氣。后過渡室和出片室是逐步接近大氣環(huán)境的過程，進片室和前過渡室是逐步接近真空環(huán)境的過程。后過渡室可以將后緩沖室和出片室隔離開，避免出片室的雜質(zhì)氣體污染鍍膜室。
[0035]在對線路板進行鍍膜時，向鍍膜室充入惰性氣體，線路板在鍍膜室的移動速度的范圍為0.05?5m/min。
[0036]有些線路板上設有開孔，本實用新型用于對線路板上開孔位置的孔洞進行開孔的金屬化處理。線路板在鍍膜室的鍍膜過程中，向鍍膜室充入惰性氣體(本實用新型充入氬氣)，氬氣在一定的壓力下放電形成等離子體，再由等離子體中離子轟擊磁控濺射陰極的靶材，濺射出靶材原子或分子形成膜層，線路板經(jīng)過鍍膜源下端時被鍍上金屬薄膜，即完成線路板開孔的金屬化處理，鍍膜完成后經(jīng)過后緩沖室，進入后過渡室，再到出片室，最后破除真空出到出料架上，線路板完成進行包裝或進入下一道工序。
[0037]若鍍膜室里的鍍膜源為電弧離子陰極，則電弧離子鍍膜的原理是，鍍膜室內(nèi)充入惰性氣體，在一定的工作壓強下，通過電弧放電產(chǎn)生等離子體，電弧離子陰極的靶材粒子在電弧的局部高溫作用下，實現(xiàn)了粒子的熱噴射，而形成膜層。
[0038]因為線路板在該鍍膜設備上經(jīng)過各個真空室時，由于內(nèi)部是真空環(huán)境，是環(huán)保無污染的，在磁控濺射區(qū)域(即鍍膜室內(nèi))鍍膜時，磁控濺射陰極在工作過程只需充入惰性氣體，無需任何化學藥劑等，而且整個過程都在干燥、潔凈的空間內(nèi)完成，所以此方法是干式鍍膜法，從而實現(xiàn)了線路板開孔金屬化的環(huán)保型干式鍍膜。
[0039]上述實施例為本實用新型較佳的實施方式，但本實用新型的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本實用新型的精神實質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1.一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:包括依次連接的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室;進片室的入口處設有真空鎖，進片室和前過渡室之間設有真空鎖，前過渡室和前緩沖室之間設有真空鎖，后緩沖室和后過渡室之間設有真空鎖，后過渡室和出片室之間設有真空鎖，出片室的出口處設有真空鎖;連通的前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室形成相通的真空室;鍍膜室內(nèi)設有鍍膜源。2.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述進片室的入口端設有進料架，出片室的出口端設有出料架。3.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述的鍍膜源為磁控濺射陰極或電弧離子陰極。4.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述的進片室、前過渡室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后過渡室、出片室均設置有抽真空機組。5.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述的鍍膜室內(nèi)充入惰性氣體。6.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述進片室和出片室的工作壓力的范圍為O?lOOPa，前過渡室和后過渡室的工作壓力<10—1Pa,所述線路板在鍍膜室的移動速度的范圍為0.05?5m/min。7.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述的進片室或者前過渡室設有等離子清洗裝置。8.按照權利要求1所述的一種線路板開孔金屬化的連續(xù)鍍膜設備，其特征在于:所述鍍膜室的下部設有傳動輥，線路板通過托盤放置在傳動輥上。
【文檔編號】C23C14/32GK205710895SQ201620677326
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年6月28日
【發(fā)明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請人】廣東騰勝真空技術工程有限公司