本發(fā)明涉及一種數(shù)控銑床，尤指涉及一種自動(dòng)磨削拋光銑床。

背景技術(shù)：

對(duì)于平整度要求較高的工件來說，需要對(duì)待加工工件進(jìn)行磨削和拋光，常常使用的銑床如圖1所示，該銑床裝置的功能是腕關(guān)節(jié)裝置5轉(zhuǎn)動(dòng)作用，作為數(shù)控銑床拋光加工的附件；腕關(guān)節(jié)裝置5通過槽和錐孔定位，由數(shù)控銑床吊桿螺栓拉裝在銑床主軸6上，數(shù)控銑床主軸6固定不轉(zhuǎn)，微電機(jī)4傾斜安裝在腕關(guān)節(jié)裝置5的工作平臺(tái)上，微電機(jī)4的軸上裝有磨削頭或拋光頭3，工件2夾緊在數(shù)控銑床工作臺(tái)1上。然而，在該磨削或拋光過程中會(huì)產(chǎn)生碎屑，且一些類似于拋光液的液體物質(zhì)不易干燥去除，這使得工件在后續(xù)操作步驟中產(chǎn)生問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于解決上述問題，本發(fā)明提供了一種自動(dòng)磨削拋光銑床，包括：

承載臺(tái)；

磨削單元，用于對(duì)固定于承載臺(tái)上的工件進(jìn)行磨平；

拋光單元，用于對(duì)所述工件進(jìn)行拋光；

清洗單元，用于對(duì)所述工件進(jìn)行清洗；所述磨削單元、拋光單元和清洗單元依次排布于所述承載臺(tái)上方的數(shù)控臺(tái)上；

其特征在于，所述清洗單元除了對(duì)所述工件進(jìn)行清洗外，還能夠?qū)λ龉ぜM(jìn)行吸附拿持，以對(duì)所述工件進(jìn)行搬運(yùn)。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述清洗單元包括工質(zhì)輸入管和氣體輸出管，所述工質(zhì)輸出管用于噴灑清洗工質(zhì)以清洗所述工件，所述氣體輸出管用于排除清洗單元與所述工件表面緊密接觸時(shí)圍成腔室內(nèi)的氣體，以形成低氣壓吸附所述工件。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述工質(zhì)輸入管嵌于所述氣體輸出管內(nèi)。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述工質(zhì)輸入管和氣體輸出管連接一噴淋頭。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述噴淋頭包括中央?yún)^(qū)域和邊緣區(qū)域，所述中央?yún)^(qū)域與所述邊緣區(qū)域物理隔離，其中，所述中央?yún)^(qū)域與所述工質(zhì)輸入管相連接，所述邊緣區(qū)域與所述氣體輸出管向連接。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述噴淋頭的中央?yún)^(qū)域的噴淋板具有多個(gè)噴淋口，所述噴淋頭的邊緣區(qū)域的噴淋板具有多個(gè)排氣口，所述多個(gè)排氣口圍繞在所述多個(gè)噴淋口周圍。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述噴淋頭與所述工件接觸的底面具有環(huán)形密封圈。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述密封圈包括環(huán)繞所述多個(gè)排氣口和噴淋口的第一密封圈和隔開所述多個(gè)排氣口和多個(gè)噴淋口的第二密封圈。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述工質(zhì)輸出管的工質(zhì)為氣體或液體，例如水或空氣。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述多個(gè)排氣口的孔徑大于所述多個(gè)噴淋口的孔徑。

本發(fā)明的技術(shù)方案，利用清洗單元對(duì)經(jīng)過磨削拋光后的工件進(jìn)行清洗，例如，先進(jìn)行液體清洗，再用氣體進(jìn)行吹干清洗，可以有效地去除工件表面的碎屑雜質(zhì)以及殘留的液體；該清洗單元還集成了拿持的功能，可以利用真空泵等制造低壓以吸附工件，方便對(duì)工件進(jìn)行搬運(yùn)，并且不會(huì)對(duì)工件產(chǎn)生二次污染。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的拋光銑床的側(cè)視圖；

圖2為本發(fā)明自動(dòng)磨削拋光銑床的正視圖；

圖3為本發(fā)明自動(dòng)磨削拋光銑床的清洗單元的示意圖；

圖4為本發(fā)明清洗單元的噴淋板的仰視圖。

具體實(shí)施方式

參見圖2，本發(fā)明提供了一種自動(dòng)磨削拋光銑床，包括：

承載臺(tái)1；

磨削單元（可以包括磨削頭，參見圖1），用于對(duì)固定于承載臺(tái)1上的工件2進(jìn)行磨平；

拋光單元（可以包括拋光頭，參見圖1），用于對(duì)所述工件2進(jìn)行拋光；

清洗單元10，用于對(duì)所述工件2進(jìn)行清洗；所述磨削單元、拋光單元和清洗單元10依次排布于所述承載臺(tái)上方的數(shù)控臺(tái)7上；

所述清洗單元10除了對(duì)所述工件2進(jìn)行清洗外，還能夠?qū)λ龉ぜ?進(jìn)行吸附拿持，以對(duì)所述工件2進(jìn)行搬運(yùn)。

參見圖3，所述清洗單元10包括工質(zhì)輸入管11和氣體輸出管13，所述工質(zhì)輸出管用于噴灑清洗工質(zhì)以清洗所述工件2，所述氣體輸出管13用于排除清洗單元與所述工件2表面緊密接觸時(shí)圍成腔室內(nèi)的氣體，以形成低氣壓吸附所述工件2。

所述工質(zhì)輸入管11嵌于所述氣體輸出管13內(nèi)，所述工質(zhì)輸入管11和氣體輸出管13連接一噴淋頭。所述噴淋頭包括中央?yún)^(qū)域12和邊緣區(qū)域14，所述中央?yún)^(qū)域12與所述邊緣區(qū)域14物理隔離，其中，所述中央?yún)^(qū)域12與所述工質(zhì)輸入管11相連接，所述邊緣區(qū)域14與所述氣體輸出管13向連接。

參見圖4，所述噴淋頭的中央?yún)^(qū)域12的噴淋板15具有多個(gè)噴淋口19，所述噴淋頭的邊緣區(qū)域14的噴淋板15具有多個(gè)排氣口18，所述多個(gè)排氣口18圍繞在所述多個(gè)噴淋口19周圍。

所述噴淋頭與所述工件2接觸的底面具有環(huán)形密封圈。所述密封圈包括環(huán)繞所述多個(gè)排氣口18和噴淋口19的第一密封圈16和隔開所述多個(gè)排氣口18和多個(gè)噴淋口19的第二密封圈17。

所述工質(zhì)輸出管11的工質(zhì)為氣體或液體，例如水或空氣。所述多個(gè)排氣口18的孔徑大于所述多個(gè)噴淋口19的孔徑，這樣噴灑的壓力較大一些，且排氣的效果更優(yōu)。

最后應(yīng)說明的是：顯然，上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說明本發(fā)明所作的舉例，而并非對(duì)實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無需也無法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引申出的顯而易見的變化或變動(dòng)仍處于本發(fā)明的保護(hù)范圍之中。