專利名稱：一種光敏復(fù)合薄膜及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于光功能復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種超快響應(yīng)光致變色復(fù)合薄膜材料及其制備方法。

背景技術(shù)：
光致變色現(xiàn)象(photochromism)是指一個化合物(A)在受到一定波長的光照射時，可進(jìn)行特定的化學(xué)反應(yīng)，獲得產(chǎn)物(B)，由于結(jié)構(gòu)的改變導(dǎo)致其吸收光譜發(fā)生明顯的變化，而在另一波長的光照下或熱的作用下，又能恢復(fù)到原來的形式。光致變色材料在光照下顏色發(fā)生改變，其潛在的應(yīng)用范圍極其廣泛，如應(yīng)用于信息存儲、電子顯示、光開關(guān)設(shè)備、變色眼鏡等。已經(jīng)比較深人研究的光致變色化化合物有二芳基乙烯類、俘精酸配類、螺毗喃類、螺惡嗦類和苯并毗喃類等。水楊醛縮芳胺類席夫堿具有良好的光致變色或熱致變色性質(zhì)，抗疲勞性好，其芳環(huán)上的基團(tuán)易于進(jìn)行修飾、變換，可以選擇性制備光致變色化合物。
由于光致變色化合物在高密度信息存儲、光學(xué)運算及信息顯示等高科技領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用前景。近年來，對光致變色化合物的研究非常活躍，能夠發(fā)生光致變色的化合物種類很多，但實際應(yīng)用中一般要考慮材料或化合物在固態(tài)時的性質(zhì)，故能夠在固態(tài)或晶態(tài)發(fā)生光致變色的有機(jī)化合物較為少見.所以尋找能夠在固態(tài)或晶態(tài)發(fā)生光致變色的化合物，揭示此類分子在光致變色方面的結(jié)構(gòu)一性能關(guān)系，從而設(shè)計并合成出性能優(yōu)異的化合物，在當(dāng)前的有機(jī)化合物光致變色研究中有著重要的意義. 水滑石類化合物包括水滑石(Hydrotalcite)和類水滑石(Hydrotalcite-like compound)，其主體一般由兩種金屬的氫氧化物構(gòu)成，因此又稱為層狀雙羥基復(fù)合金屬氧化物(Layered Double Hydroxide，簡寫為LDH)。水滑石、類水滑石和插層水滑石統(tǒng)稱為水滑石類插層材料(LDHs)。該類材料是一種具有獨特結(jié)構(gòu)特性的無機(jī)材料如元素組成在較寬范圍內(nèi)的可調(diào)變性、晶粒尺寸及分布的可調(diào)控性以及層間插層陰離子種類的可設(shè)計性等奠定了這類材料有可能成為具有潛在應(yīng)用前景的光致變色材料前驅(qū)體的基礎(chǔ)。其優(yōu)勢如下通過靜電力作用于層間的有機(jī)客體分子，由于受到無機(jī)主體層板的保護(hù)限制，復(fù)合材料的光熱穩(wěn)定性較其自身能夠顯著增強(qiáng)；通過主客體的相互作用，使得光致變色客體分子的光敏性能得到加強(qiáng)；組裝成薄膜，不但可以增強(qiáng)光致變色分子的有序排布，而且可以實現(xiàn)真正意義上的可應(yīng)用的光敏材料。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光敏復(fù)合薄膜及其制備方法，即一種希夫堿染料-一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽，英文縮寫AMH，與表面活性劑-戊烷磺酸鈉(PS)共插層水滑石薄膜及其制備方法。該薄膜為無機(jī)-有機(jī)復(fù)合功能薄膜，具有明顯的層狀結(jié)構(gòu)特征，其由有機(jī)組分希夫堿類染料-一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽和表面活性劑-戊烷磺酸鈉與無機(jī)組分鎂鋁水滑石納米片或鋅鋁水滑石納米片在三維空間利用靜電力層層堆積而成，薄膜具有平行于基底材料的取向；一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽在一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉兩組份中的摩爾百分?jǐn)?shù)在0.5-10％之間可控調(diào)變；該薄膜透明均勻，具有超快的光致變色性能和很高的光熱穩(wěn)定性，變色性能可逆，變色速度在微秒級別，有望應(yīng)用于信息存儲領(lǐng)域。
本發(fā)明直接以水滑石為基體，根據(jù)水滑石本身所具有的分子可調(diào)控性及可插層性進(jìn)行分子設(shè)計，制備一種具有特定光敏性能的光致變色材料。該材料是以層間客體AMH受紫外光照射后通過分子間氫鍵快速發(fā)生異構(gòu)反應(yīng)從而產(chǎn)生光致變色現(xiàn)象的，克服了傳統(tǒng)的希夫堿類染料有序度差，熱穩(wěn)定性低的缺點，可以實現(xiàn)光熱可逆，為有機(jī)-無機(jī)雜化體系。本發(fā)明的技術(shù)方案是首先制備出水滑石前體，再采用離子交換法制備AMH與表面活性劑兩組份共插層的水滑石復(fù)合材料，再利用溶劑蒸發(fā)法組裝成光敏薄膜材料。
本發(fā)明的具體制備步驟如下 a.制備層間陰離子為NO3-或者Cl-，層板二價、三價陽離子摩爾比M2+/M3+＝2.0-4.0的水滑石前體； b.將步驟a制備的水滑石前體加入脫CO2的去離子水中溶脹5-24h，然后用稀硝酸調(diào)節(jié)pH值為5.0-7.0； c.用脫CO2的去離子水配制一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉的溶液，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽的含量在一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉兩組份中的摩爾百分?jǐn)?shù)為0.5-10％； d.將步驟c配制的溶液滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共同的物質(zhì)的量為水滑石的2-3倍，滴加完畢后20-40℃條件下保持4-30h后離心洗滌3-5次，真空干燥，即得一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共插層水滑石復(fù)合材料； e.將步驟d所得的水滑石復(fù)合材料以1∶40-1∶100mg/ml的比例分散于無水乙醇中，得到水滑石/乙醇分散液； f.將石英片，硅片或玻璃片用體積比為2∶8-4∶6的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30-50分鐘并用去離子水充分清洗至中性，干燥，得基底，備用； g.將步驟e制得的分散液逐滴滴于步驟f處理好的基底上，20-40℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成膜。
步驟a中所述的水滑石前體的層板的二價金屬陽離子為Mg2+或Zn2+，三價金屬陽離子為Al3+；水滑石前體采用共沉淀法、成核晶化/隔離法、非平衡晶化法或水熱合成法制備。
本發(fā)明的優(yōu)選制備條件如下 a.制備層間陰離子為NO3-，層板Zn2+/Al3+＝2.0的水滑石前體； b.將步驟a制備的水滑石前體加入脫CO2的去離子水中溶脹5h，然后用稀硝酸調(diào)節(jié)pH值為5.5； c.用脫CO2的去離子水配制一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉的溶液，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽的含量在一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉兩組份中的摩爾百分?jǐn)?shù)為2％； d.將步驟c配制的溶液滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共同的物質(zhì)的量為水滑石的2倍，滴加完畢后40℃條件下保持24h后離心洗滌4次，真空干燥，即得一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共插層水滑石復(fù)合材料； e.將步驟d所得的水滑石復(fù)合材料以1∶40mg/ml的比例分散于無水乙醇中，得到水滑石/乙醇分散液； f.將石英片，硅片或玻璃片用體積比為3∶7的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30分鐘并用去離子水充分清洗至中性，干燥，得基底，備用； g.將步驟e制得的分散液逐滴滴于步驟f處理好的基底上，30℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成膜。
所述的水滑石前體的制備方法之一為配制二價、三價金屬陽離子摩爾比M2+/M3+＝2.0-4.0的混合鹽溶液，配制濃度為0.5-3.0M的NaOH堿溶液，N2保護(hù)下將堿溶液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為5.0-7.5時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于80-150℃晶化6-30h，然后離心洗滌，得到水滑石前體。
所述的二價金屬陽離子為Mg2+或Zn2+，三價金屬陽離子為Al3+。
所述的水滑石前體的優(yōu)選制備條件為配制Zn2+/Al3+＝2.0的混合硝酸鹽溶液，配制濃度為1.0M的NaOH堿溶液，N2保護(hù)下將堿溶液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到水滑石前體。
本發(fā)明的有益效果為制備出的無機(jī)-有機(jī)復(fù)合薄膜，利用主客體的相互作用，層間水、表面活性劑的協(xié)同作用使之具有超快響應(yīng)的光敏性能，應(yīng)用背景廣闊；與傳統(tǒng)熱致變色材料相比具有制備簡單易行，環(huán)境友好，對光熱穩(wěn)定性高，存儲時間長的優(yōu)點；該方法工藝簡單，產(chǎn)品性能良好，適宜工業(yè)化生產(chǎn)。



圖1是實施例1所獲得的ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜的XRD譜圖； 圖2是實施例1制得的ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜的SEM圖； 圖3是實施例1制得的ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜受350nm波長光激發(fā)后的瞬態(tài)紫外吸收可見譜圖。
下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述
具體實施例方式 實施例1 a.取0.06mol Zn(NO3)2·6H2O、0.03mol Al(NO3)3·9H2O混合，溶于80ml脫CO2的去離子水中，取0.16mol NaOH溶于80ml脫CO2的去離子水中，N2保護(hù)下將堿液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到Zn2Al-NO3水滑石前體； b.取2.5g Zn2Al-NO3水滑石前體分散于50ml脫CO2的去離子水中，溶脹5h后稀硝酸調(diào)節(jié)pH值5.5； c.0.01g AMH和0.24g PS共同溶于100ml脫CO2的去離子水中； d.將步驟c配制的溶液在N2保護(hù)下滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，滴加完畢，將溫度調(diào)至40℃，反應(yīng)24h，離心洗滌4次，真空干燥，即得AMH與PS共插層水滑石復(fù)合材料ZnAl-2％AMH/PS-LDH； e.稱取1mg步驟d所得的水滑石復(fù)合材料ZnAl-2％AMH/PS-LDH，分散于40ml無水乙醇溶液中； f.將石英片用體積比為3∶7的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30分鐘并用去離子水充分清洗后，干燥，得基底，備用； g.取步驟e所得的分散液10ml逐滴滴于步驟f處理好的石英片上，30℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜。
采用Shimadu XRD-6000型粉末X射線衍射儀對制備的復(fù)合薄膜材料進(jìn)行定性分析，結(jié)果如下 圖1為所獲得的ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜的XRD譜圖，從圖可以看出，水滑石的3個衍射強(qiáng)度較大的特征峰003、006和009分別出現(xiàn)在3.93°、7.25°和10.64°處，反映層間距的003衍射峰對應(yīng)的層間距d003值為2.25nm，衍射圖基線低平并且各衍射峰峰形尖聳，半峰寬較窄說明合成的ZnAl-2％AMH/PS-LDH具有完整的層狀結(jié)構(gòu)。譜圖中除001方向衍射峰外并沒有出現(xiàn)水滑石材料110方向的衍射峰，說明利用溶劑蒸發(fā)法制得的薄膜具有平行于基底材料的取向。
采用Hitachi-S3500N型掃描電子顯微鏡進(jìn)行樣品形貌分析，圖2為ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜的電子掃描照片，左側(cè)圖為低放大倍數(shù)；右側(cè)圖為高放大倍數(shù)。從圖中可以看出水滑石晶片均平行于基底，與XRD譜圖相對應(yīng)，整體致密、平滑、均勻。
圖3為ZnAl-2％AMH/PS-LDH薄膜受350nm波長光激發(fā)后的瞬態(tài)紫外吸收可見譜圖。隨時間的延長，在465nm處的吸收強(qiáng)度降低，說明新生成的酮式結(jié)構(gòu)逐漸復(fù)原為烯醇式結(jié)構(gòu)。
實施例2 a.取0.06mol Zn(NO3)2·6H2O、0.03mol Al(NO3)3·9H2O混合，溶于80ml脫CO2的去離子水中，取0.16mol NaOH溶于80ml脫CO2的去離子水中，N2保護(hù)下將堿液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到Zn2Al-NO3水滑石前體； b.取2.5g Zn2Al-NO3水滑石前體分散于50ml脫CO2的去離子水中，溶脹5h后稀硝酸調(diào)節(jié)pH值5.5； c.0.05g AMH和0.43g PS共同溶于100ml脫CO2的去離子水中； d.將步驟c配制的溶液在N2保護(hù)下滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，滴加完畢，將溫度調(diào)至40℃，反應(yīng)24h，離心洗滌4次，真空干燥，即得AMH與PS共插層水滑石復(fù)合材料ZnAl-10％AMH/PS-LDH； e.稱取0.5mg步驟d所得的水滑石復(fù)合材料，分散于40ml無水乙醇溶液中； f.將石英片用體積比為3∶7的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30分鐘并用去離子水充分清洗后，干燥，得基底，備用； g.取步驟e所得的分散液10ml逐滴滴于步驟f處理好的石英片上，30℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成ZnAl-10％AMH/PS-LDH薄膜。
實施例3 a.取0.06mol Zn(NO3)2·6H2O、0.03mol Al(NO3)3·9H2O混合，溶于80ml脫CO2的去離子水中，取0.16mol NaOH溶于80ml脫CO2的去離子水中，N2保護(hù)下將堿液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到Zn2Al-NO3水滑石前體； b.取2.5g Zn2Al-NO3水滑石前體分散于50ml脫CO2的去離子水中，溶脹8h后稀硝酸調(diào)節(jié)pH值5.5； c.0.005g AMH和0.47g PS共同溶于100ml脫CO2的去離子水中； d.將步驟c配制的溶液在N2保護(hù)下滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，滴加完畢，將溫度調(diào)至40℃，反應(yīng)24h，離心洗滌4次，真空干燥，即得AMH與PS共插層水滑石復(fù)合材料ZnAl-1％AMH/PS-LDH； e.稱取1mg步驟d所得的水滑石復(fù)合材料，分散于40ml無水乙醇溶液中； f.將石英片用體積比為3∶7的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30分鐘并用去離子水充分清洗后，干燥，得基底，備用； g.取步驟e所得的分散液10ml逐滴滴于步驟f處理好的石英片上，30℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成ZnAl-1％AMH/PS-LDH薄膜。
實施例4 a.取0.06mol Zn(NO3)2·6H2O、0.03mol Al(NO3)3·9H2O混合，溶于80ml脫CO2的去離子水中，取0.16mol NaOH溶于80ml脫CO2的去離子水中，N2保護(hù)下將堿液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到Zn2Al-NO3水滑石前體； b.取2.5g Zn2Al-NO3水滑石前體分散于50ml脫CO2的去離子水中，溶脹8h后稀硝酸調(diào)節(jié)pH值5.5； c.0.003g AMH和0.48g PS共同溶于100ml脫CO2的去離子水中； d.將步驟c配制的溶液在N2保護(hù)下滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，滴加完畢，將溫度調(diào)至40℃，反應(yīng)24h，離心洗滌4次，真空干燥，即得AMH與PS共插層水滑石復(fù)合材料ZnAl-0.5％AMH/PS-LDH； e.稱取1mg步驟d所得的水滑石復(fù)合材料，分散于40ml無水乙醇溶液中； f.將石英片用體積比為3∶7的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30分鐘并用去離子水充分清洗后，干燥，得基底，備用； g.取步驟e所得的分散液10ml逐滴滴于步驟f處理好的石英片上，30℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成ZnAl-0.5％AMH/PS-LDH薄膜。
權(quán)利要求
1.一種光敏復(fù)合薄膜，其特征在于所述薄膜為無機(jī)-有機(jī)復(fù)合功能薄膜，具有層狀結(jié)構(gòu)特征，其由有機(jī)組分希夫堿類染料-一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽和表面活性劑-戊烷磺酸鈉與無機(jī)組分鎂鋁水滑石納米片或鋅鋁水滑石納米片在三維空間利用靜電力層層堆積而成，薄膜具有平行于基底材料的取向；一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽在一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉兩組份中的摩爾百分?jǐn)?shù)在0.5-10％之間可控調(diào)變。
2.一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，其具體制備步驟如下
a.制備層間陰離子為NO3-或者Cl-，層板二價、三價金屬陽離子摩爾比M2+/M3+＝2.0-4.0的水滑石前體；
b.將步驟a制備的水滑石前體加入脫CO2的去離子水中溶脹5-24h，然后用稀硝酸調(diào)節(jié)pH值為5.0-7.0；
c.用脫CO2的去離子水配制一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉的溶液，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽的含量在一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉兩組份中的摩爾百分?jǐn)?shù)為0.5-10％；
d.將步驟c配制的溶液滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共同的物質(zhì)的量為水滑石的2-3倍，滴加完畢后20-40℃條件下保持4-30h后離心洗滌3-5次，真空干燥，即得一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共插層水滑石復(fù)合材料；
e.將步驟d所得的水滑石復(fù)合材料以1∶40-1∶100mg/ml的比例分散于無水乙醇中，得到水滑石/乙醇分散液；
f.將石英片，硅片或玻璃片用體積比為2∶8-4∶6的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30-50分鐘并用去離子水充分清洗至中性，干燥，得基底，備用；
g.將步驟e制得的分散液逐滴滴于步驟f處理好的基底上，20-40℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，步驟a中所述的水滑石前體的層板的二價金屬陽離子為Mg2+或Zn2+，三價金屬陽離子為Al3+。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，水滑石前體采用共沉淀法、成核晶化/隔離法、非平衡晶化法或水熱合成法制備。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，步驟a中所述的水滑石前體的制備方法為配制二價、三價金屬陽離子摩爾比M2+/M3+＝2.0-4.0的混合鹽溶液，配制濃度為0.5-3.0M的NaOH堿溶液，N2保護(hù)下將堿溶液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為5.0-7.5時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于80-150℃晶化6-30h，然后離心洗滌，得到水滑石前體。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，所述的共沉淀法的具體步驟為配制二價、三價金屬陽離子摩爾比M2+/M3+＝2.0-4.0的混合鹽溶液，配制濃度為0.5-3.0M的NaOH堿溶液，N2保護(hù)下將堿溶液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為5.0-7.5時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于80-150℃晶化6-30h，然后離心洗滌，得到水滑石前體。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，其制備條件如下
a.制備層間陰離子為NO3-，層板Zn2+/Al3+＝2.0的水滑石前體；
b.將步驟a制備的水滑石前體加入脫CO2的去離子水中溶脹5h，然后用稀硝酸調(diào)節(jié)pH值為5.5；
c.用脫CO2的去離子水配制一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉的溶液，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽的含量在一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉兩組份中的摩爾百分?jǐn)?shù)為2％；
d.將步驟c配制的溶液滴至步驟b制備的水滑石懸浮液中，一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共同的物質(zhì)的量為水滑石的2倍，滴加完畢后40℃條件下保持24h后離心洗滌4次，真空干燥，即得一水合偶氮次甲基-氫鈉鹽與戊烷磺酸鈉共插層水滑石復(fù)合材料；
e.將步驟d所得的水滑石復(fù)合材料以1∶40mg/ml的比例分散于無水乙醇中，得到水滑石/乙醇分散液；
f.將石英片，硅片或玻璃片用體積比為3∶7的雙氧水和氨水的混合溶液浸泡30分鐘并用去離子水充分清洗至中性，干燥，得基底，備用；
g.將步驟e制得的分散液逐滴滴于步驟f處理好的基底上，30℃真空干燥，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，所述的水滑石前體的制備條件為配制Zn2+/Al3+＝2.0的混合硝酸鹽溶液，配制濃度為1.0M的NaOH堿溶液，N2保護(hù)下將堿溶液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到水滑石前體。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述一種光敏復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，所述的水滑石前體的制備條件為配制Zn2+/Al3+＝2.0的混合硝酸鹽溶液，配制濃度為1.0M的NaOH堿溶液，N2保護(hù)下將堿溶液緩慢滴入混合鹽溶液中，強(qiáng)烈攪拌，pH為6.0時停止滴加，將漿液轉(zhuǎn)移到高壓釜中，于100℃晶化18h，然后離心洗滌，得到水滑石前體。
全文摘要
本發(fā)明公開了屬于光功能復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域的一種光敏復(fù)合薄膜材料及其制備方法。其技術(shù)方案為首先制備出水滑石前體，然后采用離子交換法制備希夫堿類染料與表面活性劑兩組份共插層的水滑石復(fù)合材料，利用溶劑蒸發(fā)法組裝成光敏薄膜材料。該復(fù)合薄膜材料利用主客體的相互作用，層間水、表面活性劑的協(xié)同作用使之具有超快響應(yīng)的光敏性能，應(yīng)用背景廣闊。與傳統(tǒng)光致變色材料相比具有制備簡單易行，環(huán)境友好，對光熱穩(wěn)定性高，存儲時間長的優(yōu)點。該方法工藝簡單，產(chǎn)品性能良好，適宜工業(yè)化生產(chǎn)。
文檔編號C09K9/02GK101775277SQ20091021755
公開日2010年7月14日 申請日期2009年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月31日
發(fā)明者衛(wèi)敏, 王心蕊, 陸軍, 段雪 申請人:北京化工大學(xué)