本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻膠瓶。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域，光刻處于硅片加工過程的中心，常被認(rèn)為是ic制造中最關(guān)鍵的步驟，成本幾乎占到整個(gè)硅片加工成本的三分之一。光刻技術(shù)需要用到光刻膠，光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外線曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化，硅片制造中，光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠一般被放在光刻膠容器中，光刻膠容器通常是一密閉的系統(tǒng)，它們是不透光的，并且直接固定在硅片軌道系統(tǒng)上，避免暴露在空氣中。

現(xiàn)有的光刻膠容器分為兩類，一類是玻璃瓶，光刻膠直接裝進(jìn)玻璃瓶中，長軟管插入瓶底，再通過高壓氣孔通入氮?dú)?，將光刻膠從長軟管壓出。此類光刻膠瓶在運(yùn)輸和使用過程中易碎，光刻膠流出后，特別是在工廠內(nèi)會造成有毒物污染，并且報(bào)空更換后瓶底仍有20～40ml光刻膠無法使用，被浪費(fèi)掉。第二類是nowpak瓶，包括瓶身和內(nèi)膽，內(nèi)膽是由平面的2層長方形口袋狀pe膜加一個(gè)接口組成，裝好光刻膠放入圓柱形的瓶身中，長硬管插入瓶底，再通過高壓氣孔通入氮?dú)?，將光刻膠從長硬管壓出。在更換光刻膠時(shí)粘有光刻膠的長硬管從空瓶中取出后，戳破新瓶的pe膜再插入新瓶中，這時(shí)會有光刻膠被殘留在pe膜上，時(shí)間長后變干，變成微粒會掉入新瓶中形成缺陷。當(dāng)光刻膠瓶報(bào)空更換后，內(nèi)囊4個(gè)角會有50～70ml光刻膠殘留無法被使用到，并且當(dāng)光刻膠快空時(shí)，光刻膠長管口易被內(nèi)膽堵住，造成晶圓作業(yè)時(shí)噴涂不良。

因此，有必要對現(xiàn)有的光刻膠瓶進(jìn)行優(yōu)化改進(jìn)，以便改善光刻膠浪費(fèi)、噴涂作業(yè)不良等問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種光刻膠瓶，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的光刻膠浪費(fèi)、光刻膠噴涂不良等問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種光刻膠瓶，包括外瓶和設(shè)置于外瓶內(nèi)部的內(nèi)囊，所述外瓶內(nèi)部設(shè)置有一支撐部，所述支撐部與所述外瓶的底壁的外表面構(gòu)成一銳角；所述內(nèi)囊的底壁設(shè)置于所述支撐部上；所述外瓶上設(shè)置有一開口，所述開口的底壁較所述內(nèi)囊的底壁更靠近所述外瓶的底壁；

可選的，所述外瓶還設(shè)置有一氣體接口，所述內(nèi)囊與所述氣體接口位于所述支撐部同側(cè)；

可選的，所述內(nèi)囊的頂壁與所述外瓶連接；所述內(nèi)囊的底壁與所述支撐部相匹配；

可選的，所述內(nèi)囊的外形與所述外瓶側(cè)壁的內(nèi)表面的外形相匹配；

可選的，所述內(nèi)囊的底壁上設(shè)置有內(nèi)囊接口，所述內(nèi)囊接口位于所述開口內(nèi)；

可選的，所述內(nèi)囊接口的尺寸與所述開口的尺寸相匹配；

可選的，所述內(nèi)囊的材料為玻璃或pe材料；

可選的，所述外瓶材料為pe材料，并且是黑色，并且100～400nm波長光無法透過；

可選的，所述外瓶為雙層結(jié)構(gòu)；

可選的，所述支撐部將所述外瓶分為相互隔絕的第一部分和第二部分，所述第二部分上設(shè)置有一通氣孔；

可選的，所述外瓶的側(cè)壁的外表面上設(shè)置有凹陷部；或者，所述外瓶的側(cè)壁的外表面和或所述外瓶的頂壁的外表面上設(shè)置有把手；或者，所述外瓶的側(cè)壁的外表面和或所述外瓶的頂壁的外表面上具有一牽引體。

在本發(fā)明提供的光刻膠瓶中，包括外瓶和設(shè)置于外瓶內(nèi)部的內(nèi)囊，所述外瓶內(nèi)部設(shè)置有一支撐部，所述支撐部與所述外瓶的底壁的外表面構(gòu)成一銳角；所述內(nèi)囊的底壁設(shè)置于所述支撐部上；所述外瓶上設(shè)置有一開口，所述開口的底壁較所述內(nèi)囊的底壁更靠近所述外瓶的底壁。注滿了光刻膠的內(nèi)囊放置于外瓶內(nèi)部的支撐部上，內(nèi)囊的底壁與支撐部接觸，由于所述支撐部與所述外瓶底壁的外側(cè)面構(gòu)成一銳角，即：自然狀態(tài)時(shí)，支撐部呈傾斜狀態(tài)。內(nèi)囊內(nèi)的光刻膠受到重力，從外瓶開口處流出，開口在內(nèi)囊底壁的下方，不需要插入長軟管或長硬管，避免了換新瓶時(shí)管口壁上的光刻膠殘留在新瓶的pe膜上，變干以后掉入新瓶中形成缺陷，并且光刻膠快耗盡時(shí)，內(nèi)囊也不會堵住開口。另外，本發(fā)明中，自然狀態(tài)時(shí)，支撐部呈傾斜狀態(tài)，光刻膠是通過自身重力從低于內(nèi)囊處的開口流出，瓶內(nèi)的光刻膠可完全利用，避免了浪費(fèi)，節(jié)約了成本。此外，所述內(nèi)囊的外形可與外瓶側(cè)壁的內(nèi)表面的外形相匹配，可容納更多光刻膠，所述內(nèi)囊底面可設(shè)置為與支撐部匹配，使內(nèi)囊底面更好的貼合支撐部，可最大限度使用完瓶內(nèi)的光刻膠，避免浪費(fèi)。

附圖說明

圖1是實(shí)施例提供的第一種光刻膠瓶的示意圖；

圖2是實(shí)施例提供的光刻膠瓶內(nèi)囊的示意圖；

圖3是實(shí)施例提供的第二種光刻膠瓶的示意圖；

圖4是實(shí)施例提供的第三種光刻膠瓶的示意圖；

圖5是實(shí)施例提供的第四種光刻膠瓶的示意圖；

圖6是實(shí)施例提供的第五種光刻膠瓶的示意圖；

圖1中，1-外瓶，11-開口，12-氣體接口，2-內(nèi)囊，21-內(nèi)囊接口，3支撐部；

圖2中，22-內(nèi)囊的頂壁，23-內(nèi)囊的底壁；

圖3中，13-通氣孔，14外瓶第一部分，15外瓶第二部分；

圖4中，16-牽引體；

圖5中，17-把手；

圖6中，18-凹陷部。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明提出的光刻膠瓶作進(jìn)一步詳細(xì)說明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實(shí)施例的目的。

參閱圖1，圖1為本實(shí)施例提供的光刻膠瓶的示意圖，本實(shí)施例提供了一種光刻膠瓶，包括外瓶1和設(shè)置于外瓶內(nèi)部的內(nèi)囊2，所述外瓶1內(nèi)部設(shè)置有一支撐部3，所述支撐部3與所述外瓶底壁的外側(cè)面構(gòu)成一銳角；所述內(nèi)囊2的底壁設(shè)置于所述支撐部3上；所述外瓶1上還設(shè)置有一開口11，所述開口的底壁較所述內(nèi)囊的底壁更靠近所述外瓶的底壁。由此可知，自然狀態(tài)時(shí)，支撐部3呈傾斜狀態(tài)，裝滿光刻膠的內(nèi)囊2的底壁放置于傾斜的支撐部3上，本領(lǐng)域操作人員在使用時(shí)，將光刻膠瓶放置在機(jī)臺上，機(jī)臺上的凸起結(jié)構(gòu)通過所述開口11刺破內(nèi)囊2，內(nèi)囊2中的光刻膠收到自身的重力，從開口處流出，進(jìn)行后續(xù)的涂覆工作。本發(fā)明提供的光刻膠瓶未使用長軟管和長硬管，更換新瓶時(shí)，不會有殘留的干成膠膜的光刻膠被帶入新瓶中，形成缺陷。并且，光刻膠瓶在工作狀態(tài)時(shí)，支撐內(nèi)囊2的支撐部3呈傾斜狀，開口11的底壁與所述外瓶底壁的距離小于所述內(nèi)囊2的底壁與所述外瓶底壁的距離，光刻膠依靠自身重力從開口11處流出。可以理解的是，瓶內(nèi)的光刻膠可以完全使用完后再更換新瓶，避免了光刻膠的浪費(fèi)。

所述外瓶設(shè)置有一氣體接口12，所述內(nèi)囊2與所述氣體接口12位于所述支撐部3同側(cè)。即，所述內(nèi)囊2位于支撐部3和外瓶頂壁之間，所述氣體接口12距離外瓶底壁的距離大于支撐部3的最低端距離外瓶底壁的距離。氣體接口12與外瓶1底壁的距離在氣體接口12處通入不與光刻膠發(fā)生反應(yīng)的高壓氣體，如氮?dú)?、惰性氣體等，工作人員可以通過控制氣體的壓強(qiáng)從而控制光刻膠的流速，提高光刻的質(zhì)量。光刻膠不僅受到自身的重力，也受到氣體的壓力，可以更完全的從內(nèi)囊中流出，瓶內(nèi)殘留的光刻膠更少。

當(dāng)然，內(nèi)囊2設(shè)置于支撐部3上，參閱圖2，所述內(nèi)囊2包括內(nèi)囊的頂壁22和內(nèi)囊的底壁23，內(nèi)囊的底壁23與支撐部3貼合。為了避免內(nèi)囊2和外瓶1發(fā)生相對運(yùn)動，內(nèi)囊的頂壁22可連接在外瓶側(cè)壁的內(nèi)表面上，連接的方式可以是膠接、卡扣等，不限于此。自然狀態(tài)時(shí)，所述內(nèi)囊的底壁23呈傾斜狀，內(nèi)囊的底壁23的傾斜狀態(tài)與支撐體3相匹配，可以使內(nèi)囊的底壁23與支撐體3密切貼合，內(nèi)囊2內(nèi)的光刻膠能更好的受到重力作用。

優(yōu)選的，為了容納更多的光刻膠，有效的利用外瓶的空間，內(nèi)囊的外形與外瓶側(cè)壁的內(nèi)表面的外形可以相匹配，所述外瓶側(cè)壁的內(nèi)表面優(yōu)選為圓柱型，所述內(nèi)囊的外形也可設(shè)置為底壁呈傾斜狀的圓柱型。

所述內(nèi)囊2的底壁設(shè)置有內(nèi)囊接口21，內(nèi)囊接口21位于開口11內(nèi)。優(yōu)選的，外瓶開口11位于支撐體3最低端處，內(nèi)囊接口21位于內(nèi)囊底壁最低端與內(nèi)囊側(cè)壁的交界處，內(nèi)囊接口21放置于外瓶開口11內(nèi)，便于光刻膠流出?？梢哉J(rèn)識到，所述內(nèi)囊接口尺寸應(yīng)該與外瓶開口相匹配，或者略小于外瓶開口的尺寸。

為了防止運(yùn)輸或搬運(yùn)過程中光刻膠瓶破碎，造成污染，所述外瓶宜使用pe材料。內(nèi)囊被外瓶支撐和保護(hù)，可以使用玻璃等硬性材料，也可使用pe膜等軟性材料。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該意識到，若使用硬性材料，高壓氣體應(yīng)通入內(nèi)囊內(nèi)部，并且高壓氣體不能與光刻膠發(fā)生反應(yīng)，如氮?dú)饣蚨栊詺怏w；若使用軟性材料，高壓氣體可通入外瓶和內(nèi)囊之間，氣體可以為潔凈的空氣、氮?dú)饣蚨栊詺怏w。優(yōu)選的，所述外瓶的顏色為黑色，并且100～400nm波長光無法透過，以防止在運(yùn)輸過程中光刻膠失效。

光刻膠的粘附性直接影響光刻的質(zhì)量，優(yōu)選的，可將外瓶設(shè)置成為雙層的結(jié)構(gòu)，防止水蒸氣進(jìn)入內(nèi)囊。

所述支撐部3可以由與外瓶相同的材料制成，從而可以更好的匹配、貼合外瓶，進(jìn)而可以起到更好的穩(wěn)定支撐所述內(nèi)囊2的作用，制造外瓶更加方便簡單。但應(yīng)該認(rèn)識到，支撐部的作用是支撐，當(dāng)然也可以采用另外的材料。參閱圖3，為了有更好的支撐作用，延長外瓶的壽命，支撐部可以將外瓶的上下兩部分完全隔開，無法進(jìn)行氣體交換。支撐部3將外瓶分為第一部分14和第二部分15，兩部分之間無法進(jìn)行氣體交換，即第二部分15內(nèi)封閉了一部分氣體，為了防止密閉氣體熱脹冷縮，使外瓶1或支撐體產(chǎn)生形變，可在外瓶的第二部分處開一個(gè)通氣孔13。通氣孔13的形狀可以是圓形、方形等，尺寸可根據(jù)外瓶的尺寸調(diào)整，本發(fā)明不做限制。當(dāng)然，為了節(jié)約材料，降低成本，支撐部也可由幾根支撐架組成。支撐部與外瓶的連接方式為膠接，或者在外瓶側(cè)壁的內(nèi)表面設(shè)置卡槽，或者在制造外瓶時(shí)一并成型等等，不限于此。

參閱圖4和圖5，光刻膠瓶為一圓柱體結(jié)構(gòu)，所述外瓶的尺寸可根據(jù)實(shí)際要容納的光刻膠變化。為了便于固定和拿取，可以在所述外瓶的側(cè)壁的外表面和或所述外瓶的頂壁的外表面上設(shè)置如圖4所示的牽引體16，所述牽引體16可以是絲、繩、帶、彈簧或鏈條；也可以在所述外瓶的側(cè)壁的外表面和或所述外瓶的頂壁的外表面上設(shè)置如圖5所示的把手17，所述把手的材料與外瓶一致，也可以選擇更加牢固的材料。再或者，如圖6所示，可以在所述外瓶的外側(cè)壁上設(shè)置凹陷部18，以便于通過凹陷部18手持光刻膠瓶。

綜上，在本發(fā)明實(shí)施例提供的光刻膠瓶中，具有如下優(yōu)點(diǎn)：自然狀態(tài)時(shí)，所述支撐部呈傾斜狀態(tài)，所述外囊的底壁放置于所述支撐部上，所述開口的底壁較所述內(nèi)囊的底壁更靠近所述外瓶的底壁，光刻膠裝入內(nèi)囊里，光刻膠自身的重力通過開口流出。由于開口的底壁在內(nèi)囊的底壁下方，光刻膠瓶內(nèi)的光刻膠可以完全被利用，避免了光刻膠的浪費(fèi)。并且，由于沒有使用長管，不會存在光刻膠快用盡時(shí)內(nèi)囊堵住長管的情況。更換新瓶時(shí)，工作人員可直接取下機(jī)臺上已使用完的光刻膠瓶，換上新瓶，相較于現(xiàn)有技術(shù)中拔出舊瓶中的長管插入新瓶，更容易操作，也不會有殘余的膠膜掉入新瓶中形成缺陷。此外，可以在外瓶上增加一氣體接口，通入高壓氣體，使光刻膠的流速可控。并且可通過調(diào)整內(nèi)囊的外形盡可能容納更多的光刻膠，提高外瓶空間的利用性。

上述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不對本發(fā)明起到任何限制作用。任何所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的技術(shù)方案的范圍內(nèi)，對本發(fā)明揭露的技術(shù)方案和技術(shù)內(nèi)容做任何形式的等同替換或修改等變動，均屬未脫離本發(fā)明的技術(shù)方案的內(nèi)容，仍屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。