本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及一種靜電吸盤的清潔工具及清潔方法。

背景技術(shù)：

1、等離子體刻蝕是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是：將暴露在電子區(qū)域的刻蝕氣體形成等離子體，等離子體通過電場加速釋放足夠的能量，促使等離子體與晶圓表面發(fā)生反應(yīng)，在晶圓表面刻蝕出所需形貌。目前，在半導(dǎo)體行業(yè)中，干法刻蝕中的等離子體刻蝕由于可以使電路圖形變得更加精細(xì)，因此得到越來越廣泛的使用。在等離子體刻蝕過程中，隨著刻蝕反應(yīng)的進(jìn)行，反應(yīng)室中會產(chǎn)生刻蝕副產(chǎn)物，該部分副產(chǎn)物會影響晶圓表面的刻蝕，因此反應(yīng)室中通常是一邊在晶圓上方通入刻蝕氣體，同時在晶圓下方進(jìn)行抽氣，以排除反應(yīng)產(chǎn)生的副產(chǎn)物。在整個刻蝕過程中，雖然大部分的副產(chǎn)物會隨著氣流的方向被移除，但依然會有少數(shù)副產(chǎn)物殘留在反應(yīng)室中，尤其是殘留在靜電吸盤(esc)上，因此為確保產(chǎn)品質(zhì)量，常常需對反應(yīng)室進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)。

2、在現(xiàn)有技術(shù)中，對靜電吸盤采用無塵布進(jìn)行擦除清理。但是在對靜電吸盤進(jìn)行擦除處理的時候發(fā)現(xiàn)，僅僅使用無塵布進(jìn)行擦除非常的困難，不僅非常費(fèi)力，而且擦除過后會有殘留的副產(chǎn)物沒有清除干凈。同時過于用力也可能會損壞靜電吸盤表面的鍍層，進(jìn)而影響晶圓質(zhì)量。而且現(xiàn)有通過無塵布對靜電吸盤進(jìn)行清潔的方式通常為簡單的無規(guī)律擦拭，效率低，擦拭的質(zhì)量也難以保證清潔效果。因此開發(fā)專適于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域靜電吸盤的清潔工具及清潔方法越來越迫切。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是提供一種靜電吸盤的清潔工具及清潔方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中清潔靜電吸盤時存在的缺陷，進(jìn)而實現(xiàn)有效去除靜電吸盤表面殘留的副產(chǎn)物，獲得較高的潔凈度，提高產(chǎn)品良率、降低生產(chǎn)成本。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種靜電吸盤的清潔工具，其包括：背面相互連結(jié)的第一型百潔布和第二型百潔布；且所述第二型百潔布的目數(shù)大于所述第一型百潔布的目數(shù)。

3、優(yōu)選的，所述第一型百潔布的背面通過粘結(jié)劑粘結(jié)于所述第二型百潔布的背面。

4、優(yōu)選的，所述第一型百潔布和第二型百潔布之間還設(shè)置有海綿布層；所述海綿布層的兩面分別與第一型百潔布和第二型百潔布的背面連結(jié)。

5、優(yōu)選的，所述第二型百潔布的擦拭面上吸附有由碳化硅和/或三氧化二鋁組成的研磨粒子。

6、優(yōu)選的，所述海綿布層由木漿海綿制成。

7、優(yōu)選的，所述第二型百潔布的目數(shù)為3000～4000目。

8、優(yōu)選的，所述第一型百潔布的目數(shù)為800～1000目。

9、優(yōu)選的，所述清潔工具的形狀為矩形。

10、優(yōu)選的，所述清潔工具的長邊的長度范圍為8～10cm，短邊的寬度范圍為2～3cm，高度范圍為4～6cm。

11、優(yōu)選的，所述清潔工具的長邊兩端的寬度大于長邊中段的寬度，便于握持。

12、本發(fā)明還提供一種靜電吸盤的清潔方法，采用上述的靜電吸盤的清潔工具實施，其包括如下步驟：粗處理：采用第一型百潔布擦拭靜電吸盤表面；精處理：采用第二型百潔布再次擦拭靜電吸盤表面；所述第二型百潔布的目數(shù)大于所述第一型百潔布的目數(shù)；依次重復(fù)上述粗處理步驟和精處理步驟，直至靜電吸盤表面的物質(zhì)全部擦除。

13、優(yōu)選的，所述第二型百潔布為海綿百潔布；所述海綿百潔布包括百潔布層和海綿布層；所述百潔布層的擦拭面與靜電吸盤接觸，其背面與所述海綿布層固定連結(jié)。

14、優(yōu)選的，所述第二型百潔布的目數(shù)為3000～4000目。

15、優(yōu)選的，所述第一型百潔布的目數(shù)為800～1000目。

16、優(yōu)選的，在進(jìn)行粗處理步驟前，使用無塵膠帶粘貼在靜電吸盤的通孔上，將所述通孔密封。

17、優(yōu)選的，所述無塵膠帶的裁剪面積與靜電吸盤上的通孔大小相匹配。

18、優(yōu)選的，所述無塵膠帶的裁剪面積為0.25～1cm2。

19、優(yōu)選的，在進(jìn)行粗處理和/或精處理步驟前，分別將所述第一型百潔布和所述第二型百潔布浸潤清潔液體。

20、優(yōu)選的，所述清潔液體為異丙醇或電子氟化液。

21、優(yōu)選的，在所述粗處理步驟或精處理步驟對靜電吸盤進(jìn)行擦拭時，以均勻的擦拭速度，按照順時針的方向，從所述靜電吸盤的圓心向靜電吸盤的邊緣做螺旋軌跡的擦拭。

22、優(yōu)選的，所述擦拭速度為2～3cm/s。

23、優(yōu)選的，所述粗處理步驟和精處理步驟中，至少對靜電吸盤擦拭2圈。

24、優(yōu)選的，所述粗處理步驟和精處理步驟至少重復(fù)3次。

25、優(yōu)選的，所述粗處理步驟和精處理步驟中，擦拭靜電吸盤表面時，繞開粘貼有無塵膠帶的區(qū)域。

26、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的一種靜電吸盤的清潔工具及清潔方法，至少具有如下有益效果：

27、(1)通過將第一型百潔布和第二型百潔布的背面相互連結(jié)形成一體化清潔工具，減少了不同型號百潔布的采購需求，同時也避免了在使用途中更換不同型號百潔布的時候需要到處尋找，提高了作業(yè)效率；同時，所述第二型百潔布的目數(shù)大于所述第一型百潔布的目數(shù)，提高了靜電吸盤的清潔效率和潔凈度、降低生產(chǎn)成本；

28、(2)在第一型百潔布和第二型百潔布之間設(shè)置海綿布層，可以吸收更多的清潔液體，使清潔液體充滿整個海綿布層，在第一型百潔布或第二型百潔布的擦拭面形成液體層，減小第一型百潔布或第二型百潔布的擦拭面與靜電吸盤表面的摩擦，減小對靜電吸盤表面的損傷；

29、(3)采用本發(fā)明提供的清潔方法使清潔作業(yè)更為高效，擦拭效果更好，在保護(hù)靜電吸盤表面不受損傷的同時，提高了靜電吸盤表面的潔凈度。

技術(shù)特征：

1.一種靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，包括：背面相互連結(jié)的第一型百潔布和第二型百潔布；且所述第二型百潔布的目數(shù)大于所述第一型百潔布的目數(shù)。

2.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述第一型百潔布的背面通過粘結(jié)劑粘結(jié)于所述第二型百潔布的背面。

3.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述第一型百潔布和第二型百潔布之間還設(shè)置有海綿布層；所述海綿布層的兩面分別與第一型百潔布和第二型百潔布的背面連結(jié)。

4.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述第二型百潔布的擦拭面上吸附有由碳化硅和/或三氧化二鋁組成的研磨粒子。

5.如權(quán)利要求3所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述海綿布層由木漿海綿制成。

6.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述第二型百潔布的目數(shù)為3000～4000目。

7.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述第一型百潔布的目數(shù)為800～1000目。

8.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述清潔工具的形狀為矩形。

9.如權(quán)利要求8所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述清潔工具的長邊的長度范圍為8～10cm，短邊的寬度范圍為2～3cm，高度范圍為4～6cm。

10.如權(quán)利要求8所述的靜電吸盤的清潔工具，其特征在于，所述清潔工具的長邊兩端的寬度大于長邊中段的寬度，便于握持。

11.一種靜電吸盤的清潔方法，采用如權(quán)利要求1～10任一項所述的靜電吸盤的清潔工具實施，其特征在于，包括如下步驟：

12.如權(quán)利要求11所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述第二型百潔布為海綿百潔布；所述海綿百潔布包括百潔布層和海綿布層；所述百潔布層的擦拭面與靜電吸盤接觸，其背面與所述海綿布層固定連結(jié)。

13.如權(quán)利要求11或12所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述第二型百潔布的目數(shù)為3000～4000目。

14.如權(quán)利要求11所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述第一型百潔布的目數(shù)為800～1000目。

15.如權(quán)利要求11所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，在進(jìn)行粗處理步驟前，使用無塵膠帶粘貼在靜電吸盤的通孔上，將所述通孔密封。

16.如權(quán)利要求15所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述無塵膠帶的裁剪面積與靜電吸盤上的通孔大小相匹配。

17.如權(quán)利要求16所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述無塵膠帶的裁剪面積為0.25～1cm2。

18.如權(quán)利要求11所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，在進(jìn)行粗處理和/或精處理步驟前，分別將所述第一型百潔布和所述第二型百潔布浸潤清潔液體。

19.如權(quán)利要求18所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述清潔液體為異丙醇或電子氟化液。

20.如權(quán)利要求11所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，在所述粗處理步驟或精處理步驟對靜電吸盤進(jìn)行擦拭時，以均勻的擦拭速度，按照順時針的方向，從所述靜電吸盤的圓心向靜電吸盤的邊緣做螺旋軌跡的擦拭。

21.如權(quán)利要求20所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述擦拭速度為2～3cm/s。

22.如權(quán)利要求11或20所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述粗處理步驟和精處理步驟中，至少對靜電吸盤擦拭2圈。

23.如權(quán)利要求11所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述粗處理步驟和精處理步驟至少重復(fù)3次。

24.如權(quán)利要求15所述的靜電吸盤的清潔方法，其特征在于，所述粗處理步驟和精處理步驟中，擦拭靜電吸盤表面時，繞開粘貼有無塵膠帶的區(qū)域。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種靜電吸盤的清潔工具，其包括：背面相互連結(jié)的第一型百潔布和第二型百潔布；且所述第二型百潔布的目數(shù)大于所述第一型百潔布的目數(shù)，本清潔工具提高了靜電吸盤的清潔效率和潔凈度；同時，本發(fā)明還提供一種靜電吸盤的清潔方法，其包括如下步驟：粗處理：采用第一型百潔布擦拭靜電吸盤表面；精處理：采用第二型百潔布再次擦拭靜電吸盤表面；所述第二型百潔布的目數(shù)大于所述第一型百潔布的目數(shù)；依次重復(fù)上述粗處理步驟和精處理步驟，直至靜電吸盤表面的物質(zhì)全部擦除。其具有清潔作業(yè)高效高，擦拭效果好，以及可以保護(hù)靜電吸盤表面不受損傷的優(yōu)點。

技術(shù)研發(fā)人員：吳正鵬,胡楚璇,王威紅
受保護(hù)的技術(shù)使用者：格科半導(dǎo)體（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/19